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91. 发明授权

KR101242320B1 반도체 레지스트용 공중합체에 있어서의 입자의 증가 방지방법 有权
标题翻译：防止在半导体电阻共聚物颗粒中增加的方法
公开(公告)号：KR101242320B1
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：KR1020050085794
申请日：2005-09-14
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 야마기시다카노리 , 미즈노가즈히코
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： C08F6/003 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/16
摘要： 극성기를 포함하는 반복 단위 및 지환 구조를 포함하는 반복 단위를 갖는 반도체 레지스트용 공중합체를 함유하고, 이온성 첨가제를 함유하지 않는 반도체 레지스트용 공중합체 용액을, 아미노기 및/또는 아미드 결합을 갖는 수지를 함유하는 필터에 통과시키는 것을 포함하는 반도체 레지스트용 공중합체에 있어서의 입자의 증가 방지 방법이다.
상기 방법으로 반도체 제조의 미세한 패턴 형성에 사용되는 레지스트막으로서 바람직하며 저장 중 입자의 형성이 근소하여 현상 결함이 실질적으로 없는 반도체 레지스트용 공중합체를 얻을 수 있는 반도체 레지스트용 공중합체를 수득할 수 있다.
반도체 레지스트

92. 发明授权

KR101124184B1 반도체 리소그래피용 공중합체의 제조 방법 및 상기방법으로 수득가능한 반도체 리소그래피용 공중합체 有权
标题翻译：半导体光刻胶共聚物的制备方法和本方法可获得的SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY的共聚物
公开(公告)号：KR101124184B1
公开(公告)日：2012-03-27
申请号：KR1020040103216
申请日：2004-12-08
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 야마기시다카노리 , 미즈노가즈히코 , 오이카와도모 , 가토이치로
IPC分类号： C08F2/38 , C08F2/06
CPC分类号： G03F7/0397
摘要： 중합 개시제의 존재 하에 중합 용매중에 에틸렌계 이중 결합을 갖는 2종 이상의 단량체의 라디칼 중합을 실시하면서 단량체를 함유하는 용액에 중합 억제 성분을 존재시키는 것을 포함하는, 반도체 제조에 필요한 미세 패턴의 형성에 사용되는 필름 형성 조성물에 적합한, 반도체 리소그래피용 공중합체의 제조 방법; 및 상기 방법으로 제조되고, 고(high) 중합체를 함유하지 않고, 저장 안정성이 우수하며 반도체 리소그래피에 사용되는 경우 레지스트 패턴에서 현저히 적은 결함을 발생시키는 반도체 리소그래피용 공중합체를 제공한다.

93. 发明公开

KR1020120000061A 비닐에터계 별형상 폴리머 및 그 제조방법 无效
标题翻译： VETERASE STATE POLYMER及其制造方法
公开(公告)号：KR1020120000061A
公开(公告)日：2012-01-03
申请号：KR1020117021869
申请日：2010-01-08
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 요시다노리히로
IPC分类号： C08F293/00 , C08F212/08 , C08F216/12 , C08F297/00
CPC分类号： C08F297/00 , G03F7/038
摘要： 비닐에터계 중합체로 이루어진 암과 옥시스타이렌계 중합체로부터 이루어진 암을 포함하는 비닐에터계 별형상 폴리머 및 일련의 공정으로 계속해서 실시하는 것이 가능한 해당 별형상 폴리머의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 해당 별형상 폴리머 및 그 제조방법은, 중심핵과 중심핵으로부터 신장된 폴리머 사슬로 이루어진 암부를 지니는 비닐에터계 별형상 폴리머로서, 비닐에터계 반복 단위로 이루어진 암부와 옥시스타이렌계 반복 단위로 이루어진 암부를 지니는 것을 특징으로 하는 비닐에터계 별형상 폴리머 및 그 제조방법이다.

94. 发明授权

KR101081776B1 신규 티올 화합물, 공중합체 및 공중합체의 제조방법 失效
标题翻译：新型THIOL化合物，共聚物和生产共聚物的方法
公开(公告)号：KR101081776B1
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：KR1020040015562
申请日：2004-03-08
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 야마기시다까노리 , 미따다까히또
IPC分类号： C07C321/00
CPC分类号： C08F2/38 , C07C323/12 , C07C323/17 , C07C2602/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/085
摘要： [식중, R은탄소수 1 내지 15 의선형, 분지형또는환형포화탄화수소로부터선택되는 2 가치환기임].

95. 发明公开

KR1020110090808A 수지형, 성형체 및 성형체의 제조 방법 有权
标题翻译：树脂类型，成型及其制造方法
公开(公告)号：KR1020110090808A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：KR1020110009664
申请日：2011-01-31
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 하야시다,요시히사 , 사츠카,타쿠로 , 타카야,요시아키 , 타케모리,토시후미
IPC分类号： H01L21/027 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29C33/56 , B29C59/02
CPC分类号： H01L21/027 , B29C33/3842 , B29C33/42 , B29C33/56 , B29C59/02
摘要： PURPOSE: A resin mold, a molded body, and a manufacturing method of a molded body are provided to guarantee the precision of a surface in case the surface of the resin is hydrophilic-processed. CONSTITUTION: A resin mold comprises a material including a resin component. The resin component is sprayed on a flat surface of a base material and is dried. The resin layer(11) having the flat surface is formed. 3 liters of water are located in the flat surface of the resin layer. An absolute value corresponding to the difference between static contact angles of the resin layers is measured based on the JIS(Japanese Industrial Standards) R3257' is 20-60°.
摘要翻译：目的：提供树脂模具，成型体和成型体的制造方法，以在树脂的表面进行亲水处理的情况下保证表面的精度。构成：树脂模具包括包含树脂组分的材料。将树脂成分喷涂在基材的平坦面上并干燥。形成具有平坦表面的树脂层（11）。 3升水位于树脂层的平坦表面。根据JIS（日本工业标准）R3257'为20-60°，测定与树脂层的静态接触角之差对应的绝对值。

96. 发明公开

KR1020080089338A 열 임프린트용 수지 有权
标题翻译：树脂印刷
公开(公告)号：KR1020080089338A
公开(公告)日：2008-10-06
申请号：KR1020087013143
申请日：2006-12-07
申请人： 에스씨아이브이에이엑스 가부시키가이샤 , 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 타케모리토시푸미 , 타카야요시아키 , 미타타카히토 , 이이주카테츄야 , 하시마유지 , 쿠수우라타카히사 , 푸지이미추루 , 타쿠치타쿠지 , 미트라안우팜
IPC分类号： C08F32/08 , C08F10/00 , H05K1/03
CPC分类号： B29C59/005 , B29C59/026 , B29K2045/00 , C08F232/08 , H05K1/032 , H05K3/0014 , H05K3/107 , H05K2201/0158 , H05K2203/0108
摘要： A cycloolefin thermoplastic resin for thermal imprinting to be used in the production of sheets or films which contains in the backbone chain at least one kind of skeletons represented by [Chemical formula 1] or [Chemical formula 2], characterized in that the glass transition temperature Tg(°C) of the resin and MFR ([M]) thereof at 260°C satisfy the relationship (1) and [M] is less than 30. This resin is excellent in thermal imprintability (such as transfer property and mold release property) and contributes to improvement in the productivity (such as throughput): Tg(°C) > 219 x log[M]-160... relationship (1)
摘要翻译：一种用于热压印的环烯烃热塑性树脂，用于制备在主链中包含由[化学式1]或[化学式2]表示的至少一种骨架的片或薄膜，其特征在于玻璃化转变温度树脂的Tg（℃）和MFR（[M]）在260℃满足关系式（1）和[M]小于30.该树脂的热可印性（转印性和脱模性）优异性质），有助于提高生产率（如生产能力）：Tg（℃）> 219×log [M] -160 ...关系式（1）

97. 发明公开

KR1020060099440A 포지티브형 감광성 수지, 이의 제조 방법 및 포지티브형 감광성 수지를 함유한 레지스트 조성물 失效
标题翻译：正性感光树脂，其生产方法和含有活性光敏树脂的耐腐蚀组合物
公开(公告)号：KR1020060099440A
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020060022326
申请日：2006-03-09
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 아오키히지리 , 미타다카히토
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0045
摘要： 본 발명은 포지티브형 감광성 수지 및 상기 포지티브형 감광성 수지를 함유한 레지스트 조성물을 제공하는데, 상기 둘 다 반도체 제조시 미세 패턴 형성을 위해 사용되고 바람직하게는 이전보다 더욱 고감도의 반도체 리소그래피에 사용된다.
본 발명의 포지티브형 감광성 수지는, 산의 작용으로 분리가능하여 수지가 알카리성 현상액에서 좀 더 높은 용해도를 갖게 하는 산-반응성 보호기를 가지는 포지티브형 감광성 수지로서, 상기 수지는 고분자성 주쇄에서 하기 일반식 (1) 로 표시되는 구조를 갖는다:
[일반식 (1)]

{식 중, X
1 및 X
2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 30 의 직쇄 또는 분지쇄 탄화수소기, 지환족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 또는 헤테로고리기이고, 상기 기들은 탄소수 1 내지 6 의 직쇄 또는 분지쇄 탄화수소 또는 -O-탄화수소로 치환될 수 있고; Y
1 및 Y
2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 6 의 직쇄 또는 분지쇄 탄화수소기, 황 함유 탄화수소기, 또는 치환기를 가질 수 있는 방향족 탄화수소기이고; 2 개의 Z 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 독립적으로 산소원자 또는 황원자이다}.
포지티브형 감광성 수지, 레지스트 조성물, 반도체, 리소그래피

98. 发明公开

KR1020060051697A 포지티브형 감광성 수지 및 신규 디티올 화합물 无效
标题翻译：正性感光树脂和新型的DITHIOL化合物
公开(公告)号：KR1020060051697A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050090058
申请日：2005-09-27
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 미타다카히토
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0045
摘要： 하기 화학식 1로 나타내는 구조를 고분자 주쇄로 갖는 포지티브형 감광성 수지:

및 하기 화학식 2 로 나타내는 디티올 화합물.

상기 포지티브형 감광성 수지는 종래 기술의 난점을 해소할 수 있으며, 반도체 제조의 미세한 패턴 형성에 사용될 때 종래품보다 레지스트 감도를 높일 수 있고, 현상 후 이물의 저감과 같은 효과를 보여줄 수 있다. 상기 디티올 화합물은 신규하고, 상기 포지티브형 감광성 수지의 제조에 매우 바람직하게 사용될 수 있다.
포지티브형 감광성 수지, 디티올 화합물

99. 发明公开

KR1020050088246A 알코올 및／또는 케톤의 제조방법 有权
标题翻译：生产酒精和/或酮的方法
公开(公告)号：KR1020050088246A
公开(公告)日：2005-09-02
申请号：KR1020057012608
申请日：2003-12-25
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 츠노다다카시 , 아카기시겐지 , 와타나베아츠시
IPC分类号： C07C27/14 , C07C29/50 , C07C45/35
CPC分类号： B01J23/14 , B01J23/28 , C07C29/04 , C07C45/002 , C07C45/28 , C07C2601/14 , Y02P20/582 , C07C49/403 , C07C49/10 , C07C31/12
摘要： A process for producing from an alkene the corresponding alcohol and/or ketone in a gas phase using an oxide catalyst in the presence of water vapor. The process, which is for producing an alcohol and/or ketone, comprises bringing a feed material comprising an alkene into contact with an oxide catalyst in a gas phase in the presence of water vapor to conduct a reaction, and satisfies the following requirements: (a) the oxide catalyst comprises an oxide of molybdenum and/or tin and (b) during the reaction, the amount of carbonaceous substances accumulated on the oxide catalyst is regulated to 0.1 to 10 wt.%.
摘要翻译：在水蒸气存在下，使用氧化物催化剂在气相中使用烯烃生成相应的醇和/或酮的方法。用于制备醇和/或酮的方法包括在水蒸气存在下使包含烯烃的进料与气相中的氧化物催化剂接触以进行反应，并满足以下要求：（ a）氧化物催化剂包括钼和/或锡的氧化物和（b）在反应过程中，积累在氧化物催化剂上的碳质物质的量被调节至0.1至10重量％。

100. 发明公开

KR1020050058203A 반도체 리소그래피용 공중합체의 제조 방법 및 상기방법으로 수득가능한 반도체 리소그래피용 공중합체 有权
标题翻译：半导体光刻胶共聚物的制备方法和本方法可获得的SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY的共聚物
公开(公告)号：KR1020050058203A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：KR1020040103216
申请日：2004-12-08
申请人： 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 야마기시다카노리 , 미즈노가즈히코 , 오이카와도모 , 가토이치로
IPC分类号： C08F2/38 , C08F2/06
CPC分类号： G03F7/0397
摘要： 중합 개시제의 존재 하에 중합 용매중에 에틸렌계 이중 결합을 갖는 2종 이상의 단량체의 라디칼 중합을 실시하면서 단량체를 함유하는 용액에 중합 억제 성분을 존재시키는 것을 포함하는, 반도체 제조에 필요한 미세 패턴의 형성에 사용되는 필름 형성 조성물에 적합한, 반도체 리소그래피용 공중합체의 제조 방법; 및 상기 방법으로 제조되고, 고(high) 중합체를 함유하지 않고, 저장 안정성이 우수하며 반도체 리소그래피에 사용되는 경우 레지스트 패턴에서 현저히 적은 결함을 발생시키는 반도체 리소그래피용 공중합체를 제공한다.

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