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    • 1. 发明授权
    • 원료가열장치
    • 原料加热装置
    • KR100356925B1
    • 2002-10-18
    • KR1020000019448
    • 2000-04-14
    • 가부시키가이샤 찌사끼
    • 찌사끼다쯔
    • F27B1/00
    • 열효율이 좋고 균일한 원료의 가열을 실시할 수 있는 원료가열장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
      상기 과제를 해결하기 위하여, 노뚜껑 (11) 의 주위부에 원료공급관 (12A) 과 배기관 (12B) 이 설치되어 있고, 이 노뚜껑 (11), 주벽(周壁) (13) 그리고 노상(爐床) (14) 에 의해 가열공간 (F) 을 형성하고, 원료공급관 (12A) 에서 공급되어 노상 (14) 상에 퇴적된 원료 (M) 를 상기 가열공간 (F) 으로 유입되는 가열가스에 의해 가열하고, 노상 (14) 상의 원료를 낙하공 (14A) 을 향해 밀어내는 푸셔 (16) 가 주벽 (13) 으로 지지되어 있고, 노상의 중앙부에 형성된 낙하공 (14A) 을 통해 상기 노상상의 퇴적원료를 상기 푸셔 (16) 의 왕복운동에 의해 차례로 낙하시키는 원료가열장치에 있어서, 원료공급관 (12A) 과 배기관 (12B) 은 축선방향에서 보았을 때에 이들의 하단개구가 푸셔 (16) 의 원료압출 유효역 (17) 내에 있어서 동일위치 또는 서로 근접한 위치에 설치되어 있다.