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1. 外观设计

KR3006634070000S 有权
公开(公告)号：KR3006634070000S
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：KR3020120024909
申请日：2012-05-21
申请人： 덕산약품공업주식회사
设计人： 홍성택 , 김상형 , 곽상훈

2. 发明授权

KR100829826B1 금/티타늄 박막 에칭용 조성물 및 에칭 방법 有权
标题翻译：用于金/钛层的蚀刻组合物和使用其的蚀刻方法
公开(公告)号：KR100829826B1
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：KR1020070038381
申请日：2007-04-19
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍성택 , 조성훈 , 김상형 , 곽상훈
IPC分类号： C09K13/08 , C09K13/04
摘要： A composition for etching gold/titanium thin films, and a method for etching gold/titanium thin films on a substrate by using the composition are provided to allow both gold and titanium thin films to be etched simultaneously without the damage of PMMA and the generation of residue after etching. A composition for etching a gold/titanium thin film comprises 20-55 wt% of hydrochloric acid; 5-25 wt% of nitric acid; 0.1-15 wt% of a fluoride compound; 1-20 wt% of a chloric acid represented by HClOx; and the balance of water, wherein x an integer of 1-4. Preferably the fluoride compound is hydrofluoric acid or acidic ammonium fluoride.
摘要翻译：提供用于蚀刻金/钛薄膜的组合物，以及通过使用该组合物在基板上蚀刻金/钛薄膜的方法，以允许金和钛薄膜同时蚀刻而不会损坏PMMA，并产生蚀刻后残留。用于蚀刻金/钛薄膜的组合物包含20-55重量％的盐酸; 5-25重量％的硝酸; 0.1-15重量％氟化物; 1-20重量％的由HClOx表示的氯酸; 和余量的水，其中x为1-4的整数。氟化物优选为氢氟酸或酸性氟化铵。

3. 发明授权

KR100774525B1 가소성 격벽 제거제 조성물 및 이를 이용한 격벽 제거 방법 有权
标题翻译：预先使用的RIB阻挡层复合组合物和使用其去除电介质层的方法
公开(公告)号：KR100774525B1
公开(公告)日：2007-11-08
申请号：KR1020060108241
申请日：2006-11-03
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍성택 , 조성훈 , 김상형 , 곽상훈
IPC分类号： C09K13/00 , C11D1/44
摘要： A composition for removing a calcined partition for a plasma display panel, and a method for removing a calcined partition for a plasma display panel by using the composition are provided to improve penetration and to remove a partition without affecting a dielectric layer (Ag paste) and an under metal conductive layer. A composition for removing a calcined partition comprises 3-30 wt% of an alkyl glycol or its derivative; 3-30 wt% of an ethylene glycol monoalkyl ether or its derivative; 0.5-10 wt% of an aliphatic organic amine; and the balance of water. Preferably the alkyl glycol or its derivative is at least one selected from the group consisting of butyl glycol, butyl diglycol, ethyl diglycol, butyl triglycol, methyl diglycol, methyl triglycol, methyl propylene diglycol, and butoxy glycol; and the ethylene glycol monoalkyl ether or its derivative is at least one selected from ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether.
摘要翻译：提供了用于除去等离子体显示面板的煅烧隔板的组合物，以及通过使用该组合物去除等离子体显示面板的煅烧隔板的方法，以改善穿透并去除隔板而不影响介电层（Ag糊）和下金属导电层。用于除去煅烧隔板的组合物包含3-30重量％的烷基二醇或其衍生物; 3-30重量％的乙二醇单烷基醚或其衍生物; 0.5-10重量％的脂族有机胺; 和水的平衡。优选地，烷基二醇或其衍生物是选自丁二醇，丁二醇，乙基二甘醇，丁基三甘醇，甲基二甘醇，甲基三甘醇，甲基丙二醇和丁氧基二醇中的至少一种; 乙二醇单烷基醚或其衍生物是选自乙二醇单甲醚，乙二醇单乙醚，乙二醇单丙醚和乙二醇单丁醚中的至少一种。

4. 外观设计

KR3000907490001S 失效
公开(公告)号：KR3000907490001S
公开(公告)日：1989-05-22
申请号：KR3019880003073
申请日：1988-03-05
申请人： 덕산약품공업주식회사
设计人： 홍석관

5. 发明授权

KR101769098B1 포토레지스트 잉크 제거제 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 잉크 제거 방법 有权
标题翻译：光致抗蚀剂油墨去除剂组合物及使用其去除光致抗蚀剂油墨的方法
公开(公告)号：KR101769098B1
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：KR1020140061879
申请日：2014-05-22
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍성택 , 김상형 , 곽상훈
IPC分类号： G03F7/42 , C09D9/00
摘要： 본발명은전자소자의회로및 화상형성에사용되는포토레지스트잉크제거에사용되는조성물에관한것으로, 특히, a) 수용성알칼리 2 내지 8 중량%, b) 에틸렌글리콜알킬에테르류또는그의유도체 2 내지 10 중량%, c) 잔량의물을포함하는포토레지스트잉크제거제조성물및 이를이용한포토레지스트잉크제거방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明是一种电子设备涉及用于去除在一个议会和图像形成中使用的光致抗蚀剂油墨，特别是，a）一种水溶性的碱为2〜8％（重量），组合物B）乙二醇烷基醚或其衍生物，2至10 以重量计，c）残余水和使用其的光致抗蚀剂油墨去除方法。

6. 发明公开

KR1020150134730A 포토레지스트 잉크 제거제 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 잉크 제거 방법 有权
标题翻译：光刻胶可拆卸组合物，以及使用其除去光催化剂的方法
公开(公告)号：KR1020150134730A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：KR1020140061879
申请日：2014-05-22
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍성택 , 김상형 , 곽상훈
IPC分类号： G03F7/42 , C09D9/00
CPC分类号： G03F7/42 , C09D9/00 , G03F7/004
摘要： 본발명은전자소자의회로및 화상형성에사용되는포토레지스트잉크제거에사용되는조성물에관한것으로, 특히, a) 수용성알칼리 2 내지 8 중량%, b) 에틸렌글리콜알킬에테르류또는그의유도체 2 내지 10 중량%, c) 잔량의물을포함하는포토레지스트잉크제거제조성물및 이를이용한포토레지스트잉크제거방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于去除在电子设备中形成图像和电路所需的光致抗蚀剂油墨的组合物，更具体地，涉及一种光致抗蚀剂油墨去除剂组合物，其包含：（a）2-8重量％的水可溶性碱（b）2-10重量％的乙二醇烷基醚或其衍生物; （c）和残留水。本发明还涉及使用其去除光刻胶油墨的方法。

7. 实用新型

KR2020110009604U 딥튜브 无效
标题翻译： DIP-TUBE
公开(公告)号：KR2020110009604U
公开(公告)日：2011-10-10
申请号：KR2020100003462
申请日：2010-04-02
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 조성훈 , 김상형 , 곽상훈 , 나주현
IPC分类号： B65D90/54 , B65D90/10 , B65D51/24 , B65D47/06
摘要： 본 고안은 강도가 향상되고 액체를 신속하게 배출할 수 있는 딥튜브에 관한 것으로서 본 고안의 일 실시예에 따른 딥튜브는 용기의 개구에 결합되는 몸체부, 및 상기 몸체부와 연통되며 상기 몸체부의 아래로 이어져 형성된 튜브관를 포함하고, 상기 몸체부는 홈 또는 돌기로 이루어지며 상기 몸체부의 상면 둘레를 따라 이격 형성된 복수개의 지지부와, 상기 몸체부를 관통하여 형성된 퍼지가스 주입구, 및 상기 몸체부의 바닥에서 돌출되도록 설치되며 상기 튜브관과 연통되고, 내벽에 지지된 가압부를 갖는 연결관을 포함한다.

8. 发明授权

KR100997743B1 포토레지스트 제거용 폐액으로부터 유기용제의 회수 방법 有权
标题翻译：从光催化除去废物中回收有机溶剂的方法
公开(公告)号：KR100997743B1
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：KR1020080060015
申请日：2008-06-25
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍성택 , 조성훈 , 김상형 , 곽상훈
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 본 발명은 반도체 또는 액정 디스플레이 제조시, 기판의 가장자리 또는 주변장치로부터 불필요한 포토레지스트를 제거하는 데 사용되는 폐액으로부터 유기용제를 회수하는 방법에 관한 것으로, 상기 폐액에 알칼리 수용액을 첨가하여 고체-액체 상분리를 수행하는 단계, 및 상기 분리된 액체상을 증류하는 단계를 포함하는 포토레지스트 제거용 폐액으로부터 유기용제의 회수 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면 반도체 또는 액정 디스플레이 제조시 발생하는 폐액으로부터 고순도의 유기용제, 특히 고순도의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(Propylene glycol monomethyl ether acetate, PGMEA)를 정제 회수하는 우수한 효과를 얻을 수 있다.
폐액, 유기용제, 회수, 알칼리 수용액, 고체-액체 상분리, 증류

9. 外观设计

KR3007264930000S 有权
公开(公告)号：KR3007264930000S
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：KR3020130047889
申请日：2013-09-16
申请人： 삼화왕관주식회사 , 덕산약품공업주식회사
设计人： 김용우 , 최재민 , 홍성택 , 박성삼

10. 发明授权

KR100966175B1 결정화 반응 장치 有权
标题翻译：结晶反应器
公开(公告)号：KR100966175B1
公开(公告)日：2010-06-25
申请号：KR1020080049793
申请日：2008-05-28
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍석관 , 홍성택
IPC分类号： B01F7/18 , B01F7/16 , C30B35/00
摘要： 본 발명은 약액을 결정화하는 장치에 관한 것으로서, 본 발명의 실시예에 따른 결정화 장치는 결정액이 내장되는 내부 공간을 구비하며 외부에 순환 배출구와 상기 순환 배출구의 하부에 순환 유입구가 형성된 반응조와, 상기 반응조 내에서 회전하도록 설치된 회전축과, 상기 회전축에 고정되어 상기 결정액을 교반시키는 임펠러와 상기 순환 배출구와 상기 순환 유입구를 연결하는 순환관을 포함할 수 있다.
약액, 결정화, 순환관, 챔버, 반응

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