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1. 发明专利

JP6910116B2 プラズマトーチ用絶縁ガイドの製造方法有权
公开(公告)号：JP6910116B2
公开(公告)日：2021-07-28
申请号：JP2016149447
申请日：2016-07-29
申请人：コマツ産機株式会社
发明人：山口義博 , 近藤圭太
IPC分类号： H05H1/34 , B23K10/00

2. 发明专利

JP6903124B2 プラズマ発生装置有权
公开(公告)号：JP6903124B2
公开(公告)日：2021-07-14
申请号：JP2019510535
申请日：2017-04-04
申请人：株式会社FUJI
发明人：神藤高広 , 池戸俊之
IPC分类号： H05H1/34

3. 发明专利

JP6890689B2 プラズマ処理機有权
公开(公告)号：JP6890689B2
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：JP2019568440
申请日：2018-01-30
申请人：株式会社FUJI
发明人：池戸俊之 , 神藤高広
IPC分类号： H05H1/34

4. 发明专利

JP2021514097A プラズマ・アーク制御の方法としてニュートロード・スタックを利用する単アーク縦列低圧被覆銃审中-公开
公开(公告)号：JP2021514097A
公开(公告)日：2021-06-03
申请号：JP2020542364
申请日：2019-02-19
申请人：エリコンメテコ(ユーエス)インコーポレイテッド
发明人：ホーリー、デイビッド , コルメナレス、ホセ , ガトルバー、ジョナサン
IPC分类号： H05H1/48 , H05H1/28 , C23C4/134 , H05H1/34
摘要：真空プラズマ銃、及び真空プラズマ銃におけるプラズマ・アークを制御する方法。真空プラズマ銃は、電極を有する後部銃本体セクションと、後部銃本体セクションに接続するように構成されたカスケード・セクションとを含む。カスケード・セクションは、ニュートロード・スタックを形成するように配置された複数のニュートロードを含む。方法は、カスケード・ニュートロード・スタックを真空プラズマ銃の後部本体セクションに接続することを含む。

5. 实用新型

KR200493378Y1 KR200493378Y1 - Plume controllable surface-discharged low temperature atmospheric pressure plasma jet 审中-公开
公开(公告)号：KR200493378Y1
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：KR2020190000887U
申请日：2019-03-04
申请人： 광운대학교 산학협력단
发明人： 은하 최 , 이승호 , 상학 이 , 영준 홍 , 주수 강 , 진성 최 , 세훈 기 , 안지호
IPC分类号： H05H1/26 , H05H1/34
CPC分类号： H05H1/26 , H05H2001/3431 , H05H2277/10
摘要： 본 고안의 목적은 플라즈마 제트 소스에서 방전되는 플라즈마 방전불꽃의 형상을 목적하는 바에 따라 제어한 플라즈마 제트 소스를 제공하고자 하는 것이다.
본 고안은 실린더형 내부전극을 실린더형 유전체 내측에 배치하고 유전체 외측에 실린더형 외부전극을 배치하고, 내부전극의 단부와 유전체 단부의 거리차 l
1 과 유전체 단부와 외부전극 단부의 거리차 l
2 를 조절하고, 외부전극의 단부 형상을 조절함으로써 방전 전압과 제트 방전불꽃의 길이와 형상을 조절하게 하였다.

6. 发明专利

KR102229254B1 KR102229254B1 - Plasma torch with guide-type front electrode for non-transfer torch operation 有权
公开(公告)号：KR102229254B1
公开(公告)日：2021-03-17
申请号：KR1020190039374A
申请日：2019-04-04
申请人： 한국수력원자력 주식회사
发明人： 조현제 , 김천우 , 홍성훈 , 이미현
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/28
CPC分类号： H05H1/34 , H05H1/28 , H05H2001/3431 , H05H2001/3436
摘要： 비이송식 토치 운전을 위한 가이드형 전방전극이 구비된 플라즈마 토치가 개시된다.
일측과 타측에 각각 폐쇄단과 개방단을 가지며 속이 빈 중공의 후방전극; 입구와 출구를 가지며, 상기 입구가 상기 후방전극의 개방단과 일정간격을 두고 마주하도록 후방전극과 동축 상에 배치된 중공의 전방전극; 및 상기 후방전극, 전방전극 및 가스공급포트를 수용할 수 있을 정도의 직경과 길이를 가져, 상기 후방전극, 전방전극 및 가스공급포트를 내부에 수용하는 중공의 외부 몸체;을 포함하며, 상기 전방전극은, 절연재에 의해 상기 외부몸체와 절연되며,
상기 절연재는, 글라스울인 것을 특징으로 한다.

7. 发明专利

KR102228092B1 KR102228092B1 - Injection apparatus for external plasma spray gun 有权
公开(公告)号：KR102228092B1
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：KR1020190060267A
申请日：2019-05-22
申请人： 주식회사 에스유케이
发明人： 석주용
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/28
CPC分类号： H05H1/34 , H05H1/28 , H05H2001/3484
摘要： 본 발명은 익스터널 플라즈마 스프레이 건의 불활성 가스 분사장치에 관한 것으로서, 익스터널 플라즈마 스프레이 건과 용사 코팅되는 기재 사이의 대기 공간에 불활성 기체 분위기를 형성하여 플라즈마 스프레이 스트림을 보호함으로써 플라즈마 스프레이 스트림이 대기 중의 산소와 결합하지 못하도록 하는 익스터널 플라즈마 스프레이 건의 불활성 가스 분사장치에 관한 것이다. 이를 위해 고주파 전기아크에 의해 플라즈마를 형성하고, 이온화된 플라즈마의 재결합에 의해 고열을 발생시켜 용사 파우더를 용융함으로써 대기 분위기에서 플라즈마 스프레이 스트림을 통해 기재에 용사 코팅층을 형성시키는 익스터널 플라즈마 스프레이 건 분사장치에 있어서, 플라즈마 스프레이 건의 애노드 및 노즐을 냉각시키는 냉각수가 흐르며, 냉각수가 실링되도록 익스터널 플라즈마 스프레이 건의 전방에 결합되는 프런트 커버부, 및 프런트 커버부의 전방으로 결합되며, 불활성 가스를 분사하는 불활성 가스 분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 익스터널 플라즈마 스프레이 건의 불활성 가스 분사장치가 개시된다.

8. 发明专利

JP2021015810A 高エネルギー効率、高出力のプラズマトーチ审中-公开
公开(公告)号：JP2021015810A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：JP2020187867
申请日：2020-11-11
申请人：パイロジェネシス・カナダ・インコーポレーテッド
发明人：ミシェル・ジー・ドロエ , ピエール・キャラバン
IPC分类号： H05H1/34
摘要：【課題】導入されたガスを非常に高い温度に加熱するために電気アークが採用される装置が開示される。【解決手段】本装置は、4つの内部構成要素、すなわちボタンカソードと、3つの円筒同軸構成要素である第1の短いパイロット挿入部と、第2の長い挿入部と、アノードと、を含む。渦発生器は、これらの構成要素の間に配置され、装置内に導入され、アノードとカソードとの間で発生した電気アークによって非常に高い温度まで加熱されることとなるガスに渦流を発生させる。3つの内部構成要素、すなわち、カソード、アノード及びパイロット挿入部の溶融を防ぐために冷却が行われる。しかし、冷却流体への熱損失を制限するために、長い挿入部は絶縁材料からなる。このため、より多くの電気エネルギーがガスへ伝達される。【選択図】図1

9. 发明专利

JP6811844B2 プラズマ発生装置有权
公开(公告)号：JP6811844B2
公开(公告)日：2021-01-13
申请号：JP2019510534
申请日：2017-04-04
申请人：株式会社FUJI
发明人：神藤高広
IPC分类号： H05H1/34

10. 发明专利

JP6788744B2 高濃度低温一酸化窒素を製造する装置有权
公开(公告)号：JP6788744B2
公开(公告)日：2020-11-25
申请号：JP2019531714
申请日：2017-12-13
申请人：オリジン・インク
发明人：パリス、マイケル , ガットソル、キリル , ネルソン、ハワード , メック、デイビッド , キュラメン、リンドレー , ディミノ、アンドレ
IPC分类号： H05H1/34 , A61B18/00

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