专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2019203156A パラジウム銅合金剥離箔形成用電解パラジウム銅合金めっき液审中-公开
公开(公告)号：JP2019203156A
公开(公告)日：2019-11-28
申请号：JP2018097495
申请日：2018-05-22
申请人：日本高純度化学株式会社
发明人：柴田和也 , 小林和正
IPC分类号： C25D3/50 , C25D1/00 , C25D1/04
摘要：【課題】表面に酸化膜を有する金属基体からの剥離性が良好である;金属基体から剥離した後に、柔軟で反り(カール)が少ない;ピンホールやクラック等の欠陥が少ない;めっき後にアニール処理を行わなくとも箔厚み方向に対して均一な合金組成を有する;表裏の合金比率の差が少ない;といった特長を有するパラジウム銅合金剥離箔形成用電解パラジウム銅合金めっき液を提供する。【解決手段】電解パラジウム銅合金めっき液に(A)パラジウム(II)アンミン錯塩、(B)銅(II)塩、(C)ピロリン酸化合物及び/又はトリポリリン酸化合物、(D)四価のセレン化合物、並びに、(E)ピリジンスルホン酸化合物を含有させ、(C)のモル濃度を0.35mol/L以上1.1mol/L以下、(C)に属する化合物のモル濃度を銅のモル濃度で除した値を4.8以上23.2以下、pHを7.5以上9.5以下に調整する。【選択図】なし

3. 发明专利

JP2015523488A ＰＴＡＬボンドコーティングおよび遮熱コーティングを備えたエアフォイル構造体、ならびに対応する製造方法审中-公开
标题翻译： PTAL翼型结构，其具有粘合层和热障涂层，以及相应的生产方法
公开(公告)号：JP2015523488A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：JP2015510695
申请日：2013-03-26
申请人：シーメンスアクティエンゲゼルシャフト , シーメンスアクティエンゲゼルシャフト
发明人：デヴィッド・バトラー , ポール・ジェンキンソン , ポール・パドレー , ポール・マシュー・ウォーカー
IPC分类号： F01D9/02 , C23C14/06 , C23C14/14 , C25D3/50 , F01D5/18 , F01D5/28 , F01D25/00 , F02C7/00
CPC分类号： F01D5/282 , B23P15/02 , C23C28/021 , C23C28/321 , C23C28/3215 , C23C28/3455 , F01D5/284 , F01D5/288 , F01D9/041 , F05D2240/121 , F05D2240/303 , F05D2300/121 , F05D2300/143 , F05D2300/173 , F05D2300/182 , Y10T29/49339
摘要：本発明は、プラチナアルミニドおよびTBCコーティングを備えた被覆表面セクション(104)を備えたエアフォイル(101)に関する。
摘要翻译：本发明涉及一种空气箔片（101）与铝化铂和TBC涂层（104）涂覆表面部分。

4. 发明专利

JP2015514873A 金属基材上にプラチナ系金属基層をめっきするための電解質の浴を製造する方法有权
标题翻译：用于制备电解质浴为在金属基材上电镀铂族金属基底层方法
公开(公告)号：JP2015514873A
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：JP2015506292
申请日：2013-04-18
申请人：スネクマ
发明人：ユゴー，ジュリエット , ラグランジュ，フレデリック , モレ，エルベ
IPC分类号： C25D3/50
CPC分类号： C25D3/52 , C25D3/50 , C25D5/34
摘要：本発明は、金属基材上にプラチナ系金属基層をめっきするための電解質の浴を製造する方法に関し、方法は以下のステップ:a)配位子およびアミン官能基を有する第1の系を提供することで、前記第1の系は、少なくとも1つの化合物X−(NH2)nを含むアミノ配位子の水溶液によって構成され、Xは(CH3、CH3−CH2、CH3−(CH2)m)またはNH3もしくはxp−(NH4)+p塩によって構成された群に属し、xは(PO43−、HPO42−、H2PO4−、HPO42−およびH2PO4−、SO42−、HSO4−、H2SO4、HSO4−、ならびにH2SO4、CH3COO−、CH3COOHおよびCH3COO−)、またはH2SO4もしくはCH3COOHによって構成された群に属する酸基であり、n、mおよびpは0でない整数である;b)バッファー系を形成する第2の系を提供すること;c)金属塩を提供し、プラチナの水溶液によって構成された第3の系を提供すること;d)媒体に伝導特性を提供するのに適切な第4の系を提供すること;e)4つの系を混合して前記電解質浴を得ること;を含む。方法は、超合金からなる部品上に熱バリアとして金属基層をめっきすることに適用可能である。
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于产生电解质的浴中的金属基底上镀铂族金属基层，其包括以下步骤：a）提供的第一系统具有一个配位体和胺官能团做时，第一系统是由含有至少一种化合物X-（NH 2）N，X是（CH 3，CH 3 CH 2，CH 3 - （CH 2）米）的氨基配体的水溶液构成，或者属于由NH 3或XP-（NH 4）+ p盐组成的组，x为（PO43-，HPO42-，H2PO4-，HPO42-和H2PO4-，SO42-，HSO4-，H 2 SO 4，HSO 4 - ，和H 2 SO 4， CH 3 COO，CH 3 COOH和CH 3 COO），或属于由H 2 SO 4或CH 3 COOH中，n组成的组的酸基团，m和p是整数不为0; b）提供第二系统用于形成缓冲系统到; c）提供一个金属的盐，以提供由铂的水溶液构成的第三系统; D）介质传导性能包括;提供适于提供第四系统; E）4单系统中混合以获得电解质浴。该方法适用于电镀金属基体作为由超合金的部件上的热障。

8. 发明专利

JP4751126B2 How iridium plating solution and iridium plating 有权
公开(公告)号：JP4751126B2
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：JP2005228109
申请日：2005-08-05
申请人：日進化成株式会社
发明人：桂太郎加藤 , 高志大坂 , 幸夫松原
IPC分类号： C25D3/50 , C25D17/00

9. 发明专利

JP2009029776A Metal-plating composition and method 有权
标题翻译：金属镀层组合物和方法
公开(公告)号：JP2009029776A
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：JP2008095847
申请日：2008-04-02
申请人： Rohm & Haas Electronic Materials Llc , ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
发明人： REDDINGTON ERIK , DESMAISON GONZALO URRUTIA , NIAZIMBETOVA ZUHKRA I , CLEARY DONALD E , LEFEBVRE MARK
IPC分类号： C07C235/70 , C25D3/12 , C25D3/32 , C25D3/38 , C25D3/46 , C25D3/48 , C25D3/50 , C25D3/54 , C25D3/56
CPC分类号： C25D3/02 , C08G65/3322 , C08G65/33306 , C08G2650/50 , C08G2650/58 , C08L71/02 , C25D3/32 , C25D3/38 , C25D3/56
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal-plating composition imparting an improved leveling and a uniform throwing power and a method for the same. SOLUTION: The metal-plating is performed by using the metal-plating composition containing copper, tin, nickel, gold, silver, palladium, platinum, indium, the ion source of these metals and one or more compounds having the following formula (I). H-A' p -Q-[C(O)-CH 2 O-((R 1 CH) t -O)Z-CH 2 -C(O)-NH-A] u -H (I) [wherein, A' is -(NH-(CH 2 ) x' ) y' ; -NH(CH 2 ) x' -(O-(CHR 1 ) r' ) w' -O-(CH 2 ) x' -; or -NH-((R 1 CH) r' -O) w' -C 2 H 4 -, A is -((CH 2 ) x -NH) y -; -(CH 2 ) x -(O-(CHR 1 ) r ) w -O-(CH 2 ) x -NH-; or -((R 1 CH) r -O) w -C 2 H 4 -NH-, R 1 is -H or -CH 3 , Q is -NH- when p=1, or -O- when p=0]. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供赋予改进的流平性和均匀投掷力的金属镀组合物及其方法。解决方案：通过使用含有铜，锡，镍，金，银，钯，铂，铟的金属镀组合物进行金属镀覆，这些金属的离子源和一种或多种具有下式的化合物（一世）。 H-A' -Q- [C（O）-CH 2 O - （（R SB 1 CH）其中，A'为 - （NH-）， - （NH-）（CH 2 ） x'; -NH（CH 2）2 SBB） - （O-（CHR 1 SBR））SB - （CH 2 SB）2 - （CH 2 SB 2）。或-NH - （（R 1 SB 1）CH 2 -O） SB> 4 - ，A是 - （（CH 2）2）SB。 - （CH 2 ） - （O-（CHR 1 SB> -O-（CH 2 ） -NH-; 或 - （（R 1 SB）CH） - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - / SB> -NH-，R 1 是-H或-CH 3 SB，当p = 1时Q为-NH-，当p = 0时为-O-] 。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2008127649A Electrode for producing chlorine 审中-公开
标题翻译：用于生产氯化物的电极
公开(公告)号：JP2008127649A
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：JP2006315775
申请日：2006-11-22
申请人： Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk , 田中貴金属工業株式会社
发明人： HARA NORIAKI , USHIKU EISAKU , ARIMOTO TASUKU
IPC分类号： C25B11/10 , C01B7/03 , C02F1/46 , C25B1/26 , C25D3/50 , C25D15/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrode for producing chlorine which is low in chlorine overvoltage and also excellent in durability.
SOLUTION: The electrode for producing chlorine is composed of: an electrode base material made of a valve metal; and a covering layer for covering the electrode base material. In the covering layer, metal platinum is used as a matrix, and dispersed grains made of any of iridium or ruthenium or the oxide thereof are dispersed into the matrix. The content of the dispersed grains is preferably controlled to 0.5 to 80% by weight.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式