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1. 发明专利

JP2017119881A リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017119881A
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2017046860
申请日：2017-03-13
申请人：三菱ケミカル株式会社
发明人：安田敦 , 向井一晃
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F6/12
摘要：【課題】リソグラフィー用重合体に与えられる熱履歴を抑えつつ、溶媒への溶解性を向上させることができ、また生産性を向上工程通過時間が短縮されることにより安定した品質の重合体を効率よく生産する。【解決手段】重合溶媒の存在下、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応工程により得られた重合体を含む溶液を、重合体に対する貧溶媒に40分以上かけて滴下し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程を有し、前記析出物を得る回収工程において下記式(1)を満足する、リソグラフィー用重合体の製造方法。 0.33≦重合反応溶液中の重合体の固形分質量(g)/(貧溶媒容量(L)×重合反応溶液の貧溶媒との混合時間(分))≦0.65 ・・・式(1) 【選択図】なし

2. 发明专利

JP6123415B2 水素化ブロック共重合体の回収方法および樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6123415B2
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：JP2013067180
申请日：2013-03-27
申请人：三菱化学株式会社
发明人：小坂尚之 , 石原稔久 , 高柳健二郎
IPC分类号： C08F8/04 , C08J3/14 , C08L53/00 , C08L71/02 , C08F6/12

3. 发明专利

JP2016056364A 共役ジエン重合体の製造方法审中-公开
标题翻译：生产共轭二烯聚合物的方法
公开(公告)号：JP2016056364A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2015175530
申请日：2015-09-07
申请人：旭化成ケミカルズ株式会社
发明人：常盤哲司
IPC分类号： C08F8/00 , C08F6/12
摘要：【課題】ゲルの生成を抑えつつ、適当な残揮発分量となるまで溶剤を脱揮することができる、共役ジエン重合体の製造方法を提供する。【解決手段】共役ジエン重合体と溶剤とを含む共役ジエン重合体溶液を製造する製造工程と、当該共役ジエン重合体溶液を回転する二軸のスクリューを有する装置で搬送しながら加熱し、当該溶剤を脱揮する脱揮工程とを有し、当該脱揮工程における当該スクリューのモーター電流値と無負荷時における当該スクリューのモーター電流値とが所定の関係式を満たす、共役ジエン重合体の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种制备能够使溶剂脱挥发分的共轭二烯聚合物的方法，以便在抑制凝胶的产生的同时保持挥发量。另外，提供一种共轭二烯聚合物的制造方法，其包含：制造包含共轭二烯聚合物和溶液的共轭二烯聚合物溶液的制备步骤; 和脱挥发分步骤，其中通过具有旋转双轴螺杆的装置对共轭二烯聚合物溶液进行加热，并且溶剂脱挥发分，其中在脱挥发分步骤时螺杆的电动机电流值和电动机电流值空载时的螺钉满足规定的关系式。选择图：无

4. 发明专利

JP5864972B2 粉末状イオン性水溶性高分子およびその使用方法有权
标题翻译：粉状离子型水溶性聚合物及其使用方法
公开(公告)号：JP5864972B2
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：JP2011198549
申请日：2011-09-12
申请人：ハイモ株式会社
发明人：山口佳也
IPC分类号： C08F6/12 , C08F20/34 , C08L33/14 , D21H21/10 , D21H17/45 , C02F11/14 , B01D21/01 , C08J3/12

5. 发明专利

JP5751457B2 半導体フォトリソグラフィ用重合体の精製方法有权
标题翻译：半导体光刻聚合物的纯化方法
公开(公告)号：JP5751457B2
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：JP2014079101
申请日：2014-04-08
申请人：三菱レイヨン株式会社
发明人：松本大祐 , 土屋征司 , 前田晋一
IPC分类号： C08F6/12

6. 发明专利

JPWO2013118230A1 蓄電装置及び非水系二次電池とポリマーの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2013118230A1
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：JP2013557259
申请日：2012-12-27
IPC分类号： H01M4/62 , C08F6/08 , C08F6/12 , C08F8/12 , C08F20/06 , H01G11/30 , H01G11/38 , H01M4/13 , H01M4/48
摘要：四員環以上の環構造を含むコア部と、カルボキシル基を有する酸モノマーの重合体からなり環構造を構成する3個以上の炭素原子からそれぞれ伸びるアーム部と、からなるポリマーを含むバインダを用いて電極の活物質層を形成する。充放電時の体積変化への追従性に優れ、負荷特性が向上し初期効率と充放電容量が向上した蓄電装置となる。

7. 发明专利

JP2015034257A リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法有权
标题翻译：用于平版印刷的聚合物的生产方法，耐蚀组合物的生产方法和制造图案基材的方法
公开(公告)号：JP2015034257A
公开(公告)日：2015-02-19
申请号：JP2013166659
申请日：2013-08-09
申请人：三菱レイヨン株式会社 , Mitsubishi Rayon Co Ltd
发明人： YASUDA ATSUSHI , MUKAI KAZUAKI
IPC分类号： C08F6/12 , C08F20/00 , G03F7/26
摘要：【課題】未反応の単量体や精製工程で用いた貧溶媒の残存量が低減されたリソグラフィー用重合体を製造する方法を提供する。【解決手段】重合溶媒の存在下で単量体を重合させて、重合体を含む重合反応溶液を得る重合工程と、重合反応溶液中の重合体を、再沈殿法を用いて精製し、精製重合体の湿粉を得る精製工程と、精製重合体の湿粉を乾燥させる工程、または精製重合体の湿粉を良溶媒に溶解させる工程を経て、乾燥粉末状または溶液状のリソグラフィー用重合体を製造する製品化工程を有し、精製工程が、重合反応溶液を貧溶媒と混合して重合体を析出させて固液分離により湿粉を得る再沈殿工程と、固液分離後の湿粉をリンス溶媒に接触させた後、該リンス溶媒を脱液することにより湿粉を得るリンス工程を有し、リンス工程においてリンス溶媒と接触させる湿粉の固形分含有量が40質量%を超える。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于制备用于光刻的聚合物的方法，其中残留量的纯化过程中使用的未反应单体或不良溶剂被降低。溶液：该方法包括：聚合步骤，使单体在存在聚合溶剂以获得含有聚合物的聚合反应溶液; 纯化步骤，通过再沉淀法纯化聚合反应溶液中的聚合物，得到纯化聚合物的湿粉末; 将纯化的聚合物的湿粉末干燥或将纯化的聚合物的湿粉末溶解在良溶剂中的步骤; 以及在干燥状态或溶液状态下制造用于光刻的聚合物的制造步骤。纯化步骤包括：将聚合反应溶液与不良溶剂混合以使聚合物沉淀并通过固液分离获得湿粉末的再沉淀步骤; 以及在固液分离后将湿粉末与漂洗溶剂接触并排出冲洗溶剂以获得湿粉末的冲洗步骤。在冲洗步骤中，与冲洗溶剂接触的湿粉末的固体含量大于40质量％。

8. 发明专利

JP5659570B2 重合体の製造方法、半導体リソグラフィー用重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法有权
标题翻译：用于生产聚合物，用于半导体光刻聚合物的方法，抗蚀剂组合物，并与所述基板的制造方法形成的图案
公开(公告)号：JP5659570B2
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：JP2010137512
申请日：2010-06-16
申请人：三菱レイヨン株式会社
发明人：敦安田 , 敦安田 , 友也押切 , 友也押切
IPC分类号： C08F2/00 , C08F6/12 , C08F220/26 , G03F7/039 , H01L21/027

9. 发明专利

JP5640787B2 重合体の製造方法有权
公开(公告)号：JP5640787B2
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：JP2011026246
申请日：2011-02-09
申请人：三菱レイヨン株式会社
发明人：諭佐久間 , 諭佐久間 , 友也押切 , 友也押切
IPC分类号： C08F6/12 , C08F220/28

10. 发明专利

JP2013542281A Process for the recovery of butadiene copolymers - brominated styrene from bromination reaction solution 审中-公开
公开(公告)号：JP2013542281A
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：JP2013531641
申请日：2011-09-19
申请人：ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
发明人：ウェズリーハルジョン , エー．キングブルース , リンクラムシャリ , ジェイ．キーファージョセフ
IPC分类号： C08F6/12 , C08C19/12 , C08J9/12
CPC分类号： C08F8/20 , C08C2/06 , C08C19/12 , C08F2800/20 , C08J9/12 , C08J9/149 , C08J2201/03 , C08J2203/06 , C08J2203/12 , C08J2203/14 , C08J2203/182 , C08J2203/202 , C08J2325/04 , C08J2353/02 , C08J2425/04 , C08J2453/02 , C08F297/04
摘要：貧溶媒析出法によりハロゲン化溶媒中の溶液から臭素化スチレン−ブタジエンコポリマーを回収する。この析出法は、臭素化スチレン−ブタジエンコポリマー溶液に貧溶媒を加えることにより実施される。この特定の添加順序を使用して析出を実施することによって、乾燥させるのが容易である密な生成物が得られる。回収された生成物は、押出発泡プロセスにおいて難燃剤として使用された場合、核形成剤として作用する傾向が低い。

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