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1. 发明专利

JP2020045314A ガス貯蔵剤审中-公开
公开(公告)号：JP2020045314A
公开(公告)日：2020-03-26
申请号：JP2018175922
申请日：2018-09-20
申请人：レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード , 国立大学法人京都大学 , 国立大学法人名古屋大学
发明人：クリストフラベン , パトリックジネ , ブルーノフォンテン , ミカエルボノ , 北川進 , 日下心平 , 細野暢彦 , 松田亮太郎 , 馬運声 , 堀彰宏
IPC分类号： B01J20/26 , F17C11/00 , C07F19/00 , C07D401/04 , C07D401/06 , C07C63/333
摘要：【課題】ガスの貯蔵圧力及び放出圧力を調整可能なガス貯蔵剤及びガス分離システムを提供すること。【解決手段】 2つの立方格子状の有機金属錯体を有し、一方の有機金属錯体における単位格子の1の頂点部分が、他方の有機金属錯体における1の単位格子内の空間に位置するように前記2つの有機金属錯体が相互貫入構造を形成するガス貯蔵剤。【選択図】図2

2. 发明专利

JP2019218310A 機能徐放性組成物及び成形体审中-公开
公开(公告)号：JP2019218310A
公开(公告)日：2019-12-26
申请号：JP2018117392
申请日：2018-06-20
申请人：株式会社ニックス
发明人：坪俊介 , ▲高▼橋徹
IPC分类号： A61L9/04 , C07C63/26 , C07C63/307 , C07C63/333 , A01N25/00 , A01N25/10 , A01P7/02 , A01P7/04 , A01P13/00 , A01P3/00 , A01P21/00 , A01N43/16 , A01N43/78 , A01N43/38 , A01N37/36 , A01N53/08 , A01N31/14 , C07C69/76 , C07C311/16 , C08L101/00 , C08K5/00 , A01M1/20 , A01N25/08
摘要：【課題】優れた徐放効果を長期間に亘り持続できる機能徐放性組成物及び成形体を提供する。【解決手段】機能徐放性液体と、金属イオン及び有機配位子を有し、900m 2 /g以上の比表面積を有する多孔性配位高分子と、マトリックス樹脂とを含む機能徐放性組成物。【選択図】なし

3. 发明专利

JP5829577B2 芳香族化合物中のハロゲン量低減方法有权
标题翻译：芳族化合物的卤素量降低方法
公开(公告)号：JP5829577B2
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：JP2012128308
申请日：2012-06-05
申请人： JFEケミカル株式会社
发明人：森浩章
IPC分类号： C07C51/487 , C07C43/295 , C07C63/333 , C07C63/331 , C07C41/44

4. 发明专利

JP2015105275A 粒子間隙間が主導となる一連のメソ孔金属有機構造体1〜9(IPD−mesoMOF−1〜9)及びその製造方法、並びにメソ孔サイズの調節方法审中-公开
标题翻译：一系列MESOPORE金属有机结构颗粒1至9（IPD-mesoMOF-1至9）之间的间隙LED及其制造方法和调整MESOPORE SIZE的方法
公开(公告)号：JP2015105275A
公开(公告)日：2015-06-08
申请号：JP2014091043
申请日：2014-04-25
申请人：北京思▲達▼安新材料科技有限公司
发明人：田 ▲運斉▼ , ▲陳▼ 岩 , ▲劉▼ 荀
IPC分类号： C07C63/26 , C07C63/72 , C07C63/333 , B01J20/30 , B01D15/00 , B01D53/02 , B01J20/22 , C12N11/14 , C12N11/02 , C07C63/307
CPC分类号： B01J31/1691 , B01D53/02 , B01J20/0207 , B01J20/0218 , B01J20/0229 , B01J20/0248 , B01J20/226 , B01J20/28007 , B01J20/2808 , B01J20/28083 , B01J20/28085 , B01J20/3064 , B01J20/3078 , B01J20/3085 , B82Y30/00 , C10G25/003 , B01D2253/204 , B01D2257/108 , B01D2257/504 , B01D2257/7025 , C10G2400/02 , C10G2400/04 , Y02C10/08 , Y02C20/20
摘要：【課題】合成プロセスは簡単であり、収率が高く、大規模生産が可能であるMOF型階層性多孔質材料を提供する。【解決手段】本発明が係る一連のMOF型階層性多孔質材料IPD−mesoMOF−1〜9は、それぞれMIL−100(Al、Fe、Cr、Sc)、MIL−53(Al)、HKUST−1、DUT−5、DUT−4、MIL−101(Cr)、MIL−101NDC(Cr)、MIL−101BPDC(Cr)及びMIL−110をベースとし、ミクロ孔を含み、前記ミクロ孔構造特徴と孔径サイズはMOF構造タイプの違いによって異なり、前記MOF型階層性多孔質材料のベースとなるMOFナノ粒子の粒度は120nm未満であり、前記MOF型階層性多孔質材料のベースとなる粒度が120nm未満のMOFナノ粒子は、稠密充填または比較的稠密充填する条件下において、所望の2〜50nmの粒子間メソ孔を形成する。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供具有简单合成工艺，高产率和能够大规模生产的MOF型层状多孔材料。解决方案：本发明的一系列MOF型层状多孔材料IPD-mesoMOF-1至9基于 MIL-100（Al，Fe，Cr，Sc），MIL-53（Al），科大-1，DUT-5，DUT-4，MIL-101（Cr），MIL-101 NDC（Cr），MIL-101BPDC （Cr）和MIL-110分别含有微孔，微孔结构的特征和孔径根据MOF结构类型而不同，作为MOF型分层孔隙材料的基底的MOF纳米颗粒的粒径小于120nm 并且对于MOF型层状多孔材料的基底，具有小于120nm的粒径的MOF纳米颗粒在空心结构填充或相对中空结构填充的条件下形成期望的2至50nm的颗粒间孔。

5. 发明专利

JP2013040126A Metal complex and adsorbing material comprising the same 审中-公开
标题翻译：金属复合物和包含其的吸附材料
公开(公告)号：JP2013040126A
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：JP2011177962
申请日：2011-08-16
申请人： Kuraray Co Ltd , 株式会社クラレ
发明人： INUBUSHI YASUTAKA , IKEDA CHIKAKO
IPC分类号： C07C63/333 , B01J20/22 , B01J20/30 , C07D213/81 , C07F3/06
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal complex that exhibits excellent gas-adsorbing performance.SOLUTION: The metal complex (for example, a zinc complex) comprises, as ligands, a biphenyldicarboxylic acid compound (for example, 4, 4'-biphenyldicarboxylic acid) and a compound represented by general formula (II).
摘要翻译：要解决的问题：提供显示出优异的气体吸附性能的金属络合物。解决方案：金属络合物（例如，锌络合物）包含作为配体的联苯二羧酸化合物（例如4,4'-联苯二羧酸）和由通式（II）表示的化合物。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2011195570A Metal complex and method for production thereof 有权
标题翻译：金属复合材料及其生产方法
公开(公告)号：JP2011195570A
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：JP2011036584
申请日：2011-02-23
申请人： Kuraray Co Ltd , 株式会社クラレ
发明人： INUBUSHI YASUTAKA , IKEDA CHIKAKO , KANEHIRA KOICHI
IPC分类号： C07F3/06 , B01J20/22 , C07C63/333 , C07D213/22
CPC分类号： Y02C10/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal complex having excellent performances in gas occlusion as well as gas separation.SOLUTION: The metal complex comprises a diphenyl dicarboxylic acid compound, at least one metal ion selected from the ions of metals belonging to the groups 2 and 7-12 in the periodic table, and an organic ligand (II) which can form a bidentate on the metal and is represented by general formula (II) (wherein Rto Rare the same or different and are each hydrogen, halogen or alkyl optionally having a substituent, or Rmay join R, or Rmay join Rto form alkenylene which may have a substituent). A method for production of the metal complex is also provided.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在气体闭塞以及气体分离中具有优异性能的金属络合物。溶液：金属络合物包括二苯基二羧酸化合物，至少一种选自属于第2族金属的金属离子的金属离子和II-12的化合物，以及可以在金属上形成二齿的有机配体（II），并且由通式（II）表示（其中R 1至R 2相同或不同，各自为氢，卤素或烷基，具有取代基或Rmay连接R，或Rmay连接R可形成可具有取代基的亚烯基）。还提供了一种生产金属络合物的方法。

7. 发明专利

JP2001335534A METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY AROMATIC POLYCARBOXYLIC ACID 失效
公开(公告)号：JP2001335534A
公开(公告)日：2001-12-04
申请号：JP2000154793
申请日：2000-05-25
申请人： MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO
发明人： SHIGEMATSU TAKASUKE , HAYASHI MASAYOSHI , NAGAO SHINICHI , OISHI JITSUO , HASHIMOTO AKIO
IPC分类号： C07C51/487 , C07B63/00 , C07B63/02 , C07C51/43 , C07C63/333 , C07C63/38
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially producing at low cost in simple processes a high-purity aromatic polycarboxylic acid good in hue and favorable in particle size, such as 2,6-naphthalenedicarboxylic acid or 4,4'- biphenyldicarboxylic acid from the crude corresponding aromatic polycarboxylic acid. SOLUTION: This method for producing a high-purity aromatic polycarboxylic acid comprises the following steps: (I) formation an aromatic polycarboxylic acid amine salt from at least one amine to be a aliphatic amine and/or alicyclic amine such as triethylamine or trimethylamine and the crude corresponding aromatic polycarboxylic acid, (II) a continuous salt decomposing process which comprises (1) continuously feeding a salt tank with the aromatic polycarboxylic acid amine salt decomposing aqueous solution, (2) distilling off the amine(s) and water by heating, and (3) feeding out a slurry containing the aromatic polycarboxylic acid from the tank, and (III) the separation and collection process of the aromatic polycarboxylic acid crystal from the slurry where the mother liquor is circulated to the salt decomposing process.

8. 发明专利

JP2001097918A PRODUCTION METHOD FOR BIPHENYLDICARBOXYLIC ACID 失效
公开(公告)号：JP2001097918A
公开(公告)日：2001-04-10
申请号：JP27166799
申请日：1999-09-27
申请人： NIPPON KAYAKU KK
发明人： HASEGAWA RYOICHI , OSHIMI KATSUHIKO
IPC分类号： C07C51/255 , C07C51/265 , C07C63/331 , C07C63/333
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a biphenyldicarboxylic acid by using a raw material easily obtainable in an industrial scale. SOLUTION: The biphenyldicarboxylic acid is obtained by liquid phase oxidation of a biphenyl compound expressed by general formula (1) (X is chlorine atom, bromine atom, hydroxy, an alkoxy, an alkyl or an acetyloxy group).

9. 发明专利

JP2001039917A PRODUCTION OF 2,2'-BIS(TRIFLUOROMETHYL)-4,4'- BIPHENYLDICARBOXYLIC ACID 失效
公开(公告)号：JP2001039917A
公开(公告)日：2001-02-13
申请号：JP21448099
申请日：1999-07-29
申请人： SUMITOMO BAKELITE CO
发明人： YAMAJI TAKASHI , SAITO HIDENORI
IPC分类号： B01J27/053 , C07B61/00 , C07C17/12 , C07C25/18 , C07C51/08 , C07C63/333 , C07C245/20 , C07C253/14 , C07C255/51
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for synthesizing 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'- biphenylcarboxylic acid at a low cost without using a special equipment. SOLUTION: This synthesis method comprises the following steps: reacting 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl with a nitrous acid compound in an acid catalyst to form a diazonium salt; reacting the diazonium salt with iodine and/or an iodine compound to form 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'- diiodobiphenyl; reacting the diiodobiphenyl compound with copper (I) cyanide to form 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-dicyanobiphenyl; and hydrolyzing the reaction product.

10. 发明专利

JP3096830B2 失效
公开(公告)号：JP3096830B2
公开(公告)日：2000-10-10
申请号：JP35530092
申请日：1992-10-26
IPC分类号： B01J23/72 , B01J23/825 , B01J23/835 , B01J23/84 , B01J27/053 , B01J31/04 , C07B61/00 , C07C51/093 , C07C63/15 , C07C63/333 , C07C63/38 , C07C67/313 , C07C69/76 , C07C69/88 , C07C69/92 , C07C69/94 , C07C201/12 , C07C205/57 , C07C227/02 , C07C229/52 , C07C245/08 , C07C317/44 , C07C323/62

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