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1. 发明专利

JP6684406B2 カーボン山型突状体配列膜状物とその製造方法有权
公开(公告)号：JP6684406B2
公开(公告)日：2020-04-22
申请号：JP2016160720
申请日：2016-08-18
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：中島智彦 , 土屋哲男
IPC分类号： C01B32/15 , C01B33/149

2. 发明专利

JP6648064B2 シリカ系複合微粒子分散液、その製造方法及びシリカ系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液有权
公开(公告)号：JP6648064B2
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：JP2017083208
申请日：2017-04-19
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：俵迫祐二 , 小松通郎 , 碓田真也 , 中山和洋
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304 , C01B33/149

4. 发明专利

JP2018030779A 処理フィラー、それを含有する組成物およびそれから調製される物品审中-公开
公开(公告)号：JP2018030779A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：JP2017197584
申请日：2017-10-11
申请人：ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド , PPG Industries Ohio,Inc.
发明人：クリントスティーブンエデルマン , ラファエルコラー , ジャスティンジョナサンマーティン , ティムアレンオケル , ブリタニースミス , ピーターローレンスボトゥルバ−ドルザル , トルーマンウィルト , ルークアンドリューウォルフ
IPC分类号： C08K9/04 , C08L21/00 , C08J3/22 , C09C1/28 , C09C3/08 , C09C3/12 , C01B33/149
CPC分类号： C08F8/42 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C01P2006/80 , C04B14/066 , C08K3/36 , C08K5/09 , C08K9/04 , C08K9/06 , C08K9/08 , C08K9/10 , C08L7/02 , C08L9/08 , C08L33/02 , C08L2666/58 , C09C1/3063 , C09C1/3072 , C09C1/3081 , C09C1/309 , C09C3/006 , C09C3/08 , C09C3/10 , C09C3/12 , C08L7/00 , C08L9/06 , C08L9/00
摘要：【課題】処理フィラー、それを含有する組成物およびそれから調製される物品を提供すること。【解決手段】本発明は、(a)あらかじめ乾燥させていない未処理フィラーを含むスラリーを、処理剤を含む処理組成物で処理し、それにより処理フィラースラリーを形成させること、および(b)処理フィラースラリーを乾燥させて処理フィラーを製造することを含む処理フィラーを製造するプロセスを含む。上記処理剤は、不飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸の誘導体、またはその塩を含むことができる。本発明は、このプロセスによって調製された処理フィラー、ならびに処理フィラーを含むゴム配合組成物およびタイヤにも関する。【選択図】なし

6. 发明专利

JP2016540722A 処理フィラー、それを含有する組成物およびそれから調製される物品审中-公开
标题翻译：治疗填料，包含相同和制品的组合物由其制备
公开(公告)号：JP2016540722A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2016546899
申请日：2014-10-06
申请人：ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドPPG Industries Ohio,Inc. , ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドPPG Industries Ohio,Inc.
发明人：クリントスティーブンエデルマン， , クリントスティーブンエデルマン， , ラファエルコラー， , ラファエルコラー， , ジャスティンジョナサンマーティン， , ジャスティンジョナサンマーティン， , ティムアレンオケル， , ティムアレンオケル， , ブリタニースミス， , ブリタニースミス， , ピーターローレンスボトゥルバ−ドルザル， , ピーターローレンスボトゥルバ−ドルザル， , トルーマンウィルト， , トルーマンウィルト， , ルークアンドリューウォルフ， , ルークアンドリューウォルフ，
IPC分类号： C01B33/149 , C08K9/04 , C08L7/00 , C09C1/30 , C09C1/40 , C09C3/08 , C09C3/10
CPC分类号： C08K9/08 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C01P2006/80 , C08F8/42 , C08K3/36 , C08K5/09 , C08K9/04 , C08K9/06 , C08K9/10 , C08L7/02 , C08L9/08 , C08L33/02 , C09C1/3063 , C09C1/3072 , C09C1/3081 , C09C1/309 , C09C3/006 , C09C3/08 , C09C3/10 , C09C3/12 , C08L7/00 , C08L9/06 , C08L9/00
摘要：本発明は、(a)あらかじめ乾燥させていない未処理フィラーを含むスラリーを、処理剤を含む処理組成物で処理し、それにより処理フィラースラリーを形成させること、および(b)処理フィラースラリーを乾燥させて処理フィラーを製造することを含む処理フィラーを製造するプロセスを含む。上記処理剤は、不飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸の誘導体、またはその塩を含むことができる。本発明は、このプロセスによって調製された処理フィラー、ならびに処理フィラーを含むゴム配合組成物およびタイヤにも関する。
摘要翻译：本发明中，含有填料原料的浆料不预先干燥（a）中，与包含处理剂，从而引起以形成处理过的填料浆料处理组合物处理过的，和（b）处理干燥填料浆料它包括用于产生经处理的填料，它包括制备由处理过的填料的方法。上述处理剂可包括不饱和脂肪酸，不饱和脂肪酸衍生物或它们的盐，。本发明还涉及通过该方法制备的处理填料，以及含有该经处理的填料和所述轮胎橡胶组合物。

7. 发明专利

JP6012471B2 複合無機粒子及びそれを製造及び使用する方法有权
标题翻译：如何复合无机颗粒和产生和使用所述相同
公开(公告)号：JP6012471B2
公开(公告)日：2016-10-25
申请号：JP2012547102
申请日：2010-12-13
申请人：ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーン , W R GRACE & CO−CONN
发明人：フルージ,ダニエル・レイ , ミコス,ディミトリウス
IPC分类号： C09C1/28 , C09C1/40 , C09C1/36 , C09C1/00 , C09C3/06 , C01B33/149 , C01B13/14
CPC分类号： C09C3/063 , C01B33/18 , C09C1/3045 , C09C1/3054 , C09C1/3653 , C09C3/06 , C09D5/084 , C09D7/1225 , C09D7/1266 , C09D7/1275 , C09D7/1283 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/02 , Y10T428/2991

8. 发明专利

JP2016175790A シリカ系粒子分散体の製造方法审中-公开
标题翻译：生产二氧化硅颗粒分散体的方法
公开(公告)号：JP2016175790A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015056462
申请日：2015-03-19
申请人：セイコーインスツル株式会社
发明人：高橋正太郎
IPC分类号： C01B33/149
摘要：【課題】分散安定性に優れ、高い疎水性を示し、硬度の高い透明樹脂膜を調製する際に好ましく用いることのできる表面処理したシリカ系粒子分散体の製造方法を提供する。【解決手段】シリカ系粒子分散体は、(メタ)アクリロイル基を有するトリアルコキシシラン化合物とアルキル基を有するトリアルコキシシラン化合物と、平均粒子径が1〜50nmの範囲にあるシリカ系粒子とを混合して表面処理する。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供分散稳定性优异，疏水性高的二氧化硅系粒子分散体的制造方法，可以在制备具有高硬度的透明树脂膜并进行表面处理时有利地使用。：通过将具有（甲基）丙烯酰基的三烷氧基硅烷化合物，具有烷基的三烷氧基硅烷化合物和平均粒径为1-50nm的二氧化硅系粒子混合，并混合物质表面处理。选择图：无

9. 发明专利

JP2016020294A コロイダルシリカ及びそれを含有する半導体ウエハ研磨用組成物有权
标题翻译：用于抛光含有它的半导体晶体的胶体二氧化硅及其组合物
公开(公告)号：JP2016020294A
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：JP2014145006
申请日：2014-07-15
申请人：スピードファム株式会社
发明人：田中弘明 , 田辺静顕 , 市川真也
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14 , C01B33/149
摘要：【課題】経時保存安定性が良好な表面改質コロイダルシリカ、及び該表面改質コロイダルシリカを用いた、研磨後の被研磨体の洗浄性を向上し、装置の汚染を防止し、更には被研磨体のスクラッチやロールオフ、ディッシング等の問題の発生を抑制する半導体ウエハの研磨用組成物を提供する。【解決手段】半導体ウエハの研磨に使用される研磨用組成物は、分子構造内に、第四アンモニウムよりなる官能基を2個またはそれ以上と、カルボキシル基を2個またはそれ以上とを持つ水溶性高分子化合物を粒子表面に配した表面改質コロイダルシリカ、および該表面改質コロイダルシリカを研磨剤として含有する研磨用組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种表面改性的胶体二氧化硅，其随时间具有良好的储存稳定性，并提供使用改善抛光后待抛光对象的可洗性的表面改性胶态二氧化硅来研磨半导体晶片的组合物，防止污染装置并抑制诸如待抛光物体的划伤，滚落，凹陷等问题的发生。抛光组合物用于抛光半导体晶片。表面改性的胶体二氧化硅是通过在分子结构中排列具有两个或更多个官能团的水溶性聚合物化合物而制备的，所述官能团包含季铵并且在颗粒表面上具有两个或多个羧基。抛光组合物含有作为研磨剂的表面改性胶体二氧化硅。选择图：无

10. 发明专利

JP5814548B2 変性無機酸化物微粒子、それが分散した変性無機酸化物微粒子分散液およびそれを含む導電性被膜形成用組成物、ならびにそれらの製造方法有权
标题翻译：改性无机氧化物微粒，修饰的无机氧化物微粒分散液及含它分散在相同的导电涂料组合物和其制备方法
公开(公告)号：JP5814548B2
公开(公告)日：2015-11-17
申请号：JP2010289786
申请日：2010-12-27
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：西田広泰
IPC分类号： C09C3/12 , C09D17/00 , C09D5/24 , C09D7/12 , C09D201/00 , H01B5/14 , H01B1/20 , C01B33/149 , C01B13/14

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