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1. 发明专利

JP2016501818A ＩＲタッチスクリーン用途のための低Ｆｅガラス审中-公开
标题翻译：低费·格拉斯红外触摸屏的应用
公开(公告)号：JP2016501818A
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：JP2015545424
申请日：2013-11-27
申请人：コーニングインコーポレイテッド , コーニングインコーポレイテッド
发明人：ステープルトンキング，ジェフリー , ステープルトンキング，ジェフリー
IPC分类号： C03C3/04 , C03C21/00 , G06F3/041
CPC分类号： C03C3/04 , C03C1/00 , C03C3/00 , C03C4/0092 , C03C4/10 , C03C21/002 , G02B6/0035 , G02B6/0073 , Y10T428/24355 , Y10T428/24628
摘要：電子タッチスクリーン用途における使用のための高光透過ガラスを開示する。ガラス材料は減衰内部全反射用途における使用を主に目的とする。材料内を光が伝播する際の光減衰の量を最小限にするために、ガラス組成物は低濃度の光吸収化合物を含むか、又は低レベルの散乱中心を有する。
摘要翻译：它公开了一种用于在电子触摸屏应用中使用的高透光性玻璃。玻璃材料主要用于在衰减的全内反射的应用中。到内部的材料是光传播到时，最小化光的衰减量，该玻璃组合物具有散射中心的光吸收的化合物在低浓度的含或低的水平。

2. 发明专利

JP2015130273A リチウムイオン二次電池用正極活物質、それを用いたリチウムイオン二次電池用正極及びリチウムイオン二次電池、並びに、リチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法有权
标题翻译：用于锂离子二次电池的正极电极活性材料，使用其和锂离子二次电池的锂离子二次电池的正极和用于锂离子二次电池的正极电极活性材料的生产方法
公开(公告)号：JP2015130273A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：JP2014001250
申请日：2014-01-07
申请人：日立金属株式会社
发明人：遠山達哉 , 高橋心 , 湯浅豊隆 , 所久人 , 軍司章 , 高野秀一 , 中林崇 , 小西宏明 , 馮孝亮 , 古月翔
IPC分类号： H01M4/525 , H01M4/36 , C01G53/00 , C03C3/12 , C03C3/14 , C03C3/16 , C03C3/32 , C03C3/04 , H01M4/505
CPC分类号： Y02P70/54
摘要：【課題】充放電サイクル特性及び放電レート特性に優れるリチウムイオン二次電池用正極活物質、それを用いたリチウムイオン二次電池用正極及びリチウムイオン二次電池、並びに、リチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法の提供。【解決手段】以下の組成式(1)で表わされる固溶体粒子において、固溶体の表層のリチウムを脱離させた後、固溶体粒子の表面をリチウムイオン伝導性ガラスで被覆してリチウムイオン二次電池用正極活物質とする。また、その正極活物質を用いてリチウムイオン二次電池用正極、リチウムイオン二次電池を製造する。xLi 2 MnO 3 —(1−x)LiM y O {(2−3x)/(1−x)} ・・・(1)[xは0
【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有优异的充放电循环特性和放电速率特性的锂离子二次电池用正极活性物质，提供使用该正极活性物质的锂离子二次电池用正极，以及其制造方法用于锂离子二次电池的正极活性物质。解决方案：在由以下组成式（1）表示的固溶体颗粒中，在固溶表面层中解吸锂之后，固溶体颗粒的表面为涂覆锂离子导电玻璃，由此生产用于锂离子二次电池的正极活性材料。使用正极活性物质制造锂离子二次电池用正极和锂离子二次电池。 xLiMnO-（1-x）LiMO ...（1）（x是满足0

3. 发明专利

JP4712028B2 X-ray opaque glass, a method of manufacturing the same, and, use the 有权
公开(公告)号：JP4712028B2
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：JP2007501130
申请日：2004-12-28
申请人：ショットアクチエンゲゼルシャフトSchott AG
发明人：コルベルク、ウーヴェ , ベズィンガー、イェルン , ポイチェルト、ウルリッヒ
IPC分类号： C03C4/08 , A61K6/027 , C03B5/235 , C03B5/43 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C3/095 , C03C3/097 , C03C3/112 , C03C4/00
CPC分类号： C03C4/0007 , A61K6/0005 , A61K6/0008 , A61K6/0073 , A61K6/0215 , A61K6/024 , A61K6/0245 , A61K6/025 , A61K6/0255 , A61K6/0276 , C03C3/06 , C03C3/095 , C03C4/087 , C03C2201/3488 , C03C2201/40 , A61K6/087 , C08L63/00
摘要： The X-ray opaque glass is characterized by a composition, in mol %, of SiO2, 75-98; Yb2O3, 0.1 to 40; and ZrO2, 0 to 40. Preferred embodiments of the glass are free of Al2O3 and B2O3. The glass is produced from the glass batch by melting at a temperature of at least 1500° C. in an iridium or iridium alloy vessel with the assistance of high-frequency radiation. In preferred embodiments of the glass production process at least one raw material ingredient is present in the batch as a nanoscale powder. The glass is useful in dental applications, optical applications, and biomedical applications, or for photovoltaics, or as a target material in PVD processes.

4. 发明专利

JP4104693B2 Method of manufacturing a crystallized glass 失效
公开(公告)号：JP4104693B2
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：JP4659297
申请日：1997-02-28
申请人：月島機械株式会社
发明人：啓一郎宮野 , 健治鈴木
IPC分类号： C02F11/00 , C03B1/00 , C03C1/00 , C03C3/04 , C03C10/00
CPC分类号： C03C1/002 , C03C10/0063

5. 发明专利

JP2008030988A Silica glass material 有权
标题翻译：二氧化硅玻璃材料
公开(公告)号：JP2008030988A
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：JP2006205894
申请日：2006-07-28
申请人： Institute Of National Colleges Of Technology Japan , Univ Of Fukui , 国立大学法人福井大学 , 独立行政法人国立高等専門学校機構
发明人： HORII NAOHIRO , KAMIIDE MITSURU , INOUE AKIHIRO , KUZUU SHIN
IPC分类号： C03C3/04 , C03B20/00 , C03C17/245 , H01J61/30 , H01J61/35
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B2201/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silica glass material which is hardly devitrified even under such a condition that it is brought into direct contact with an active metal or its halide in a high temperature state; and to provide a discharge lamp which is hardly devitrified and has a prolonged service life.
SOLUTION: The silica glass material is used in an application where the silica glass material is used while being brought into contact with an active metal or its halide. The silica glass material is characterized in that a halogen-containing silica glass layer, in which the content of metal impurities is ≤100 ppb and the halogen content is 100-5,000 ppm, is formed on the surface brought into contact with the active metal or its halide. A method for producing the same and a method for preventing devitrification are also provided. Further, the discharge lamp has a light-emitting tube in which the active metal or its halide is enclosed and is characterized in that the halogen-containing silica glass layer is formed on the inner surface of the light-emitting tube.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：即使在高温状态下与活性金属或其卤化物直接接触的条件下也难以脱玻璃的石英玻璃材料; 并且提供几乎不透光并且具有延长的使用寿命的放电灯。解决方案：二氧化硅玻璃材料用于石英玻璃材料与活性金属或其卤化物接触的应用中。二氧化硅玻璃材料的特征在于，在与活性金属接触的表面上形成含有金属杂质含量≤100ppb，卤素含量为100-5,000ppm的含卤素二氧化硅玻璃，或其卤化物。还提供了其制造方法和防止失透的方法。此外，放电灯具有包围活性金属或其卤化物的发光管，其特征在于，在发光管的内表面上形成含卤素的石英玻璃层。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2004312041A Low-dielectric constant material and treatment method by cvd 审中-公开
公开(公告)号：JP2004312041A
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：JP2004200926
申请日：2004-07-07
申请人： Air Products & Chemicals Inc , エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated
发明人： O'NEILL MARK LEONARD , PETERSON BRIAN KEITH , VINCENT JEAN LOUISE , VRTIS RAYMOND NICHOLAS
IPC分类号： C23C16/42 , C03C3/04 , C03C14/00 , C23C16/30 , C23C16/40 , H01B3/12 , H01L21/312 , H01L21/316 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC分类号： H01L21/02131 , C03C3/045 , C03C14/008 , C23C16/30 , C23C16/401 , H01L21/02203 , H01L21/02211 , H01L21/02216 , H01L21/02274 , H01L21/3122 , H01L21/3127 , H01L21/316 , H01L21/31633
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film material which has a low-dielectric constant, an improved mechanical properties, a thermal stability, and a chemical resistance.
SOLUTION: A suitable film is expressed by a formula of Si
v O
w C
x H
y F
z (v + w + x + y + z = 100%, v is 10 to 35 atom %, w is 10 to 65 atom %, y is 10 to 50 atom %, x is 2 to 30 atom %, and z is 0.1 to 15 atom %), and fluorine is substantially not bonded to carbon. A CVD method includes steps of (a) preparing a substrate in a vacuum chamber ; (b) leading a gaseous reagent containing a fluorine-supplying gas, an oxygen-supplying gas, and at least one precursor gas selected from among a group, consisting of an organosilane and an organosiloxane in the vacuum chamber; and (c) causing reaction of the gaseous reagent, by adding energy to the gaseous reagent in the chamber and forming the film on the substrate.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

7. 发明专利

JP3425701B2 失效
公开(公告)号：JP3425701B2
公开(公告)日：2003-07-14
申请号：JP28168893
申请日：1993-10-14
IPC分类号： C03B37/01 , C03C3/04 , C03C3/11 , C03C13/00 , C03C14/00 , D01F9/08

8. 发明专利

JP2003513875A 失效
公开(公告)号：JP2003513875A
公开(公告)日：2003-04-15
申请号：JP2001536481
申请日：2000-10-10
IPC分类号： G02B6/12 , C01B21/082 , C03B19/14 , C03B32/00 , C03C3/04 , C03C3/11 , C03C17/02 , G02F1/13357

10. 发明专利

JP2001261364A GLASS, PLASMA-RESISTANT MEMBER, ELECTROMAGNETIC WAVE TRANSMISSION WINDOW MEMBER, AND PLASMA PROCESSING EQUIPMENT 失效
公开(公告)号：JP2001261364A
公开(公告)日：2001-09-26
申请号：JP2000078950
申请日：2000-03-21
申请人： SUMITOMO METAL IND
发明人： TAKANO YUICHI , TERAO KOICHI
IPC分类号： H05H1/46 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C3/083 , C03C4/00 , C03C14/00 , C23C16/44 , H01J37/32 , H01L21/302 , H01L21/3065
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material having excellent characteristics as the microwave transmission window of a plasma processing equipment similar to quartz glass on one hand and especially possessing corrosion resistance to fluorine- containing plasma on the other hand. SOLUTION: The glass possessing corrosion resistance to fluorine-containing plasma is composed of a first glass phase consisting of Si and O, and a second glass phase consisting of Si, Al and O. The mass ratio of Al to Si in the second glass phase is not smaller than 0.01. The glass is useful for a member for forming a window to introduce electromagnetic waves for a plasma processing equipment or the like.

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