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    • 1. 发明专利
    • Coil lead-out part structure for nuclear fusion device
    • 用于核熔断器件的线圈引出部分结构
    • JPS6122606A
    • 1986-01-31
    • JP14297484
    • 1984-07-10
    • Mitsubishi Atom Power Ind Inc
    • YAMADA MASAO
    • G21B1/11H01F5/04H05H1/12
    • G21B1/11H01F5/04
    • PURPOSE:To prevent the transformation of the surface which comes in contact with an electric insulating layer when a current is applied to a coil as well as to reduce the bending stress of the part located in the vicinity of the lead-out part by connecting the leads of input part and output part directly. CONSTITUTION:The input side and the output side of a feeder 2 are fastened with a binding material 9. A hole 4 is perforated in the vicinity of the lead-out part 3 of a coil 1. The coil conductor 1 is fastened with an insulating fiber 5 such as a glass fiber and the like using said hole 4. Through these procedures, it is unnecessary for the titled coil lead-out structure to be made larger structurally, and sufficient strength can also be maintained.
    • 目的:为了防止当电流施加到线圈时与电绝缘层接触的表面的变形以及通过连接引线部分而减少位于引出部分附近的部分的弯曲应力 直接输入部分和输出部分的引线。 构成:馈线2的输入侧和输出侧用装订材料9紧固。孔4在线圈1的引出部分3的附近穿孔。线圈导体1用绝缘体 使用所述孔4的玻璃纤维等的纤维5。通过这些方法,标题线圈引出结构在结构上不需要更大,并且也可以保持足够的强度。
    • 2. 发明专利
    • Permeability barrier layer
    • 空值
    • JP2011514437A
    • 2011-05-06
    • JP2010543519
    • 2009-01-26
    • エーリコン・トレイディング・アーゲー・トリューバッハ
    • ユルゲン・ラム
    • C23C14/08C01B3/00C23C14/06G21B1/11G21B1/17H01M8/06
    • B65D25/14B65D25/34C23C14/025C23C14/08F16C33/043F16C33/14F16C2223/60G21B1/11H01M8/04089H01M8/2475Y02P70/56Y10T428/13Y10T428/2933Y10T428/31678
    • 水素透過障壁を製造するための方法は、a)少なくとも1つの層(L1、L2、L3)を含む層系(LS)を基材(SUB)上に堆積するステップを含み;ステップa)は、b)少なくとも3元酸化物を含んだ少なくとも1つの水素障壁層(HPBL)を堆積するステップを含むことを特徴とする。 装置は、密閉可能なボリュームと、前記ボリュームを限定する境界の少なくとも一部を形成する壁面とを含み、前記壁面は、少なくとも1つの層を含んだ層系(LS)を含む水素透過障壁を含んでおり、前記層系は、少なくとも3元酸化物を含んでいる少なくとも1つの水素障壁層(HPBL)を含む。 好ましくは、前記少なくとも3元酸化物は、実質的にAl、Cr、およびOからなり、前記少なくとも1つの水素障壁層(HPBL)を堆積する前記ステップは、物理気相成長法、特にカソードアーク蒸着法を使用して実施される。
    • 用于制造氢渗透阻挡层的方法包括以下步骤:a)在衬底(SUB)上沉积包括至少一层(L1,L2,L3)的层系统(LS); 其特征在于步骤a)包括以下步骤:b)沉积包含至少三元氧化物的至少一个氢阻挡层(HPBL)。 该装置包括可密封体积和形成限制所述体积的边界的至少一部分的壁,其中所述壁包括氢渗透屏障,其包括包含至少一层的层系统(LS),其中所述层系统包括至少一个 包含至少三元氧化物的氢阻挡层(HPBL)。 优选地,所述至少三元氧化物基本上由Al,Cr和O组成,并且所述沉积所述至少一个氢阻挡层(HPBL)是使用物理气相沉积法,特别是阴极电弧蒸发法进行的。 优选地,步骤a)包括在所述衬底上沉积以下至少一种:粘合层(AdhL),储氢层(HStL),保护层(ProtL),特别是热阻挡层(ThBL),扩散阻挡层 层(DBL),氧化阻挡层(OxBL),化学阻挡层(ChBL),耐磨层(WRL)。 可以实现优异的氢渗透阻隔性能,并且层系统可以根据设想的应用的要求进行定制。