专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2017524973A リソグラフィ方法及び装置有权
公开(公告)号：JP2017524973A
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：JP2016573790
申请日：2015-06-11
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ. , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：バセルマンズ，ヨハネス，ヤコブス，マシューズ , ブエイ，ウィルヘルムス，ペトルスデ , ブエイ，ウィルヘルムス，ペトルスデ
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F1/42 , G03F7/70191 , G03F7/70775 , G03F9/7019 , G03F9/7049 , G03F9/7088
摘要：測定方法は、多数の放射極を用いて、リソグラフィ装置の投影システムのマスク側のマスク上の回折格子を照明することと、投影システムを介して各照明極ごとに少なくとも2つの生成された異なる回折次数を結合することと、投影システムを用いて回折次数をウェーハ上の格子に投影して、回折次数の回折によって1対の組み合わせ回折次数が形成されるようにすることと、組み合わせ回折次数を、投影システムを介して戻し、組み合わせ回折次数の強度を測定するように構成された検出器に結合することと、組み合わせ回折次数の測定された強度を用いてウェーハ格子の位置を測定することと、を備える。【選択図】図2

2. 发明专利

JP2017509016A データ処理装置を用いたリソグラフィ装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017509016A
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：JP2016552539
申请日：2014-12-17
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ. , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：シュミット−ウィーヴァー，エミル，ピーター , ヘンケ，ウォルフガング , プレンティス，クリストファー , スタールズ，フランク , テル，ウィン，テジッボ
IPC分类号： G03F9/02 , G01B11/02
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70725 , G03F9/7019 , G03F9/7026 , G03F9/7092
摘要：【課題】スループットに悪影響を与えることなく高い解像度のウェーハ高さマップを生成しウェーハレベル位置合わせ性能を向上させる。【解決手段】リソグラフィ装置は、光学投影システムを用いて基板上にパターンを適用する。本装置は、パターン適用の前に基板表面の高さマップを得るための光学レベルセンサ及び関連したプロセッサを含む。コントローラは、パターンを適用する場合に高さマップを用いて投影システムの合焦を制御する。プロセッサは、基板に以前適用された処理に関する情報を用いて基板の少なくとも第1・第2の領域を画定するように、且つ、測定信号を用いて焦点を制御する方法を第1・第2の領域で変動させるように、構成される。例えば光学測定信号から高さ値を計算するためのアルゴリズムを既知の構造及び/又は材料の相違に応じて変動させ得る。特定の領域からの測定値を高さマップの計算から及び/又は合焦での使用から選択的に除外し得る。【選択図】図5

3. 发明专利

JP5928032B2 キャリブレーション用マスクおよびキャリブレーション方法有权
标题翻译：掩模和用于校准的校准方法
公开(公告)号：JP5928032B2
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：JP2012059481
申请日：2012-03-15
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：野村義昭 , 松本隆徳 , 竹下琢郎
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019

4. 发明专利

JP5778703B2 校正システムを有するパターン発生器有权
标题翻译：与校准系统图形发生器
公开(公告)号：JP5778703B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2012555433
申请日：2011-03-03
申请人：マイクロニックアーベー , MYCRONIC AB
发明人：スヴェンソン、アンデシュ , ヨンソン、フレドリク
IPC分类号： G01B11/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7049 , G03F9/7076

5. 发明专利

JP2013195467A Mask for calibration and calibration method 有权
标题翻译：校准和校准方法
公开(公告)号：JP2013195467A
公开(公告)日：2013-09-30
申请号：JP2012059481
申请日：2012-03-15
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： NOMURA YOSHIAKI , MATSUMOTO TAKANORI , TAKESHITA TAKURO
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To allow easy measurement of the resolving power of an image sensor for exposure position adjustment of an exposure device.SOLUTION: Light is transmitted through a mask for calibration including a mask part including an image capture window for image capture, a glass surface part provided below the mask part and constituted of a glass material bonded to the vicinity of the image capture window with an adhesive, a shielding line group of shielding lines provided on the image capture window and the glass surface part and constituted of a shielding material. Light transmitted through parts other than the shielding line group is received, and the received light is converted to image information from the top of the received light, and resolving power information is measured on the basis of the image information.
摘要翻译：要解决的问题：为了容易地测量用于曝光装置的曝光位置调整的图像传感器的分辨率。解决方案：光通过用于校准的掩模传输，包括包括用于图像捕获的图像捕获窗口的掩模部分，玻璃表面部分设置在掩模部分下方并且由粘合剂粘合到图像捕获窗口附近的玻璃材料构成，屏蔽线组设置在图像捕获窗口和玻璃表面部分上，并由屏蔽层材料。接收通过除了屏蔽线组以外的部分的光，接收到的光从接收光的顶部转换为图像信息，并且基于图像信息测量分辨率信息。

6. 发明专利

JP2013175500A Exposure device and exposure method 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：JP2013175500A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：JP2012037417
申请日：2012-02-23
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： ISHIYUKI KAZUTAKA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/70641 , G03F9/7019
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure device able to improve, for example, alignment accuracy, according to an embodiment.SOLUTION: According to an embodiment, an exposure device having an acquiring section and a measuring section are provided. The acquiring section acquires a plurality of measurement values. The measurement values are the measurements of different amounts of focus offset. The measurement values indicate a displacement distribution within a shot area. The measuring section obtains a plurality of distortion errors from the measurement values. According to the amounts of focus offset and the distortion errors, the measuring section obtains the correlation between the amounts of focus offset and alignment correction values. The alignment correction values are values for correcting distortion errors.
摘要翻译：要解决的问题：根据实施例，提供能够改善例如对准精度的曝光装置。解决方案：根据一个实施例，提供一种具有获取部分和测量部分的曝光装置。获取部获取多个测量值。测量值是不同焦距偏移量的测量值。测量值表示拍摄区域内的位移分布。测量部分从测量值获得多个失真误差。根据聚焦偏移量和失真误差，测量部分获得聚焦偏移量和对准校正值之间的相关性。对准校正值是校正失真误差的值。

7. 发明专利

JP2013079939A Position measurement system, lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：位置测量系统，平面设备和设备制造方法
公开(公告)号：JP2013079939A
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：JP2012167132
申请日：2012-07-27
申请人： Asml Netherlands Bv , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人： KOENEN WILLEM HERMAN GERTRUDA ANNA , EUSSEN EMIEL JOZEF MELANIE , VAN DER PASCH ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS , ROBBERT EDGAR VAN LEEUWEN , KOEVOETS ADRIANUS HENDRIK
IPC分类号： G01B21/00 , G01B11/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： H01L23/544 , G03F7/70 , G03F7/70775 , G03F9/7019 , H01L21/682 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2223/5446 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a more accurate position measurement system using a calibration which takes less time than a conventional calibration method.SOLUTION: A position measurement system includes a first part EG, a second part ES and a computational unit. The first part and the second part determine a position of a first member relative to a second member by providing a position signal representing a position of the first part relative to the second part. The computational unit comprises an input terminal for receiving the position signal. The computational unit is configured to, in use, apply a conversion to the position signal to obtain a signal representing a position of the first member relative to the second member, and apply an adjustment to the conversion to at least partly compensate for a drift of the first part or the second part or both. The adjustment is based on a predetermined drift characteristic of the first part or the second part or both respectively. The predetermined drift characteristic includes one or more base shapes of the first part and/or the second part.
摘要翻译：要解决的问题：提供使用比常规校准方法花费更少时间的校准的更精确的位置测量系统。解决方案：位置测量系统包括第一部分EG，第二部分ES和计算单元。第一部分和第二部分通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一部件相对于第二部件的位置。计算单元包括用于接收位置信号的输入端。计算单元被配置为在使用中将转换应用于位置信号以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，并且对转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或两者。该调整基于第一部分或第二部分或两者的预定漂移特性。预定漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基本形状。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式