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    • 9. 发明专利
    • 空間変位ベクトル場を測定するための方法
    • JP2017516101A
    • 2017-06-15
    • JP2016567511
    • 2015-06-17
    • ラヴィジオン・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
    • ヴィーネケ・ベルンハルト
    • G01B11/16G01B11/25
    • G01B11/2513G01B11/167G06T7/0002G06T7/223G06T7/521G06T7/60G06T2207/10028G06T2207/30164
    • 本発明は、被検査物体10の空間変位ベクトル場300を測定するための方法に関する。当該方法の場合、2種類の像、すなわち・少なくとも1つの固有パターン像100,100Fの記録時に、前記被検査物体10が、均一な照射光によって照射される、前記少なくとも1つの固有パターン像100,100Fと、・少なくとも1つの投影パターン像200,200Fの記録時に、前記被検査物体10が、空間変調され、前記被検査物体上に投影された投影パターン像によって照射される、前記少なくとも1つの投影パターン像200,200Fとが、前記被検査物体10から記録される。この場合、・前記固有パターン像100,100Fの記録時点における前記被検査物体10の平面変位ベクトル場110,110Fが、前記固有パターン像100,100Fに割り当てられた前記被検査物体10の表現として前記固有パターン像100,100Fから計算され、・前記投影パターン像200,200Fの記録時点における前記被検査物体10の形状が、前記投影パターン像200,200Fに割り当てられた前記被検査物体10の表現として前記投影パターン像200,200Fから計算され、前記空間変位ベクトル場300が、当該記録された像100,100F;200,200Fに割り当てられた前記被検査物体10の表現から測定される。本発明は、・2種類の像のうちの1つの第1種像100;200が、1つの試験時点tTに記録され、前記2種類の像のうちのそれぞれ1つの第2種像100F,200Fが、この試験時点tTの前及び後の時間離間した2つの記録時点tT−;tT+に記録され、・前記試験時点tTに対する前記被検査物体(10)の対応する表現が、平均算出によって、前記被検査物体(10)の複数の前記第2種像(100F,200R)に割り当てられて計算された表現から推定され、・前記空間変位ベクトル場300の測定が、前記第1種像100,200に割り当てられて計算された前記被検査物体10の表現と、前記第2種像100F,200Fから推定された前記被検査物体の表現とに基づくことを特徴とする方法。(図2)