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1. 发明专利

JPS60195542A Material used for resist 失效
标题翻译：材料用于抵抗
公开(公告)号：JPS60195542A
公开(公告)日：1985-10-04
申请号：JP5114484
申请日：1984-03-19
申请人： Nippon Oil Co Ltd
发明人： TSUCHIYA SHIYOUZOU , AOKI NOBUO
IPC分类号： G03F7/20 , C08G75/00 , C08G75/22 , C08L81/06 , G03C1/72 , G03C5/08 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/039 , C08G75/22 , C08L81/06 , C08L2666/02
摘要： PURPOSE:To obtain a material for use in a positive type electron beam resist superior in dry etching resistance and high in sensitivity and resolution by using a material composed essentially of a polymer having specified fundamental units in molecular structure. CONSTITUTION:A resist material is composed essentially of a polymer having in the molecular structure, fundamental units each of them represented by formula I in which each of R1-R3 is H or 1-6C hydrocarbon residue; and R4 is 1- 20C hydrocarbon residue optionally substd. by one or more F for H. This polymer is obtained by copolymerizing a compd. represented by formula II with SO2 at -100-+100 deg.C in the presence of a radical catalyst. To use this copolymer as a resist material, it is dissolved in a solvent, such as chloroform to prepare 3-40wt% soln., applied to a substrate, and when needed, it is preheated at 100-200 deg.C.
摘要翻译：目的：通过使用基本上由分子结构中具有特定基本单位的聚合物组成的材料，获得用于耐干蚀刻性优异且灵敏度和分辨率高的正型电子束抗蚀剂的材料。构成：抗蚀剂材料基本上由具有分子结构的聚合物组成，基本单元各自由式I表示，其中R1-R3各自为H或1-6C烃残基; 并且R 4是任选取代的1-20个碳氢化合物残基。通过一个或多个F用于H.该聚合物通过将化合物由式II表示，在自由基催化剂存在下，在-100- + 100℃下用SO 2。为了使用该共聚物作为抗蚀剂材料，将其溶解在溶剂如氯仿中以制备3-40重量％的溶剂，施加到基材上，并且当需要时，其在100-200℃下预热。

2. 发明专利

JP2017075243A ジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体、及びその製造方法。有权
公开(公告)号：JP2017075243A
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2015203565
申请日：2015-10-15
申请人：日東紡績株式会社
发明人：山田信幸 , 文屋勝
IPC分类号： C08G75/22
CPC分类号： C08G75/22
摘要：【課題】高分子量かつハロゲン等の不純物の含有量が低いジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体、及びその様な共重合体を比較的簡便かつ低コストで製造することができる製造方法を提供する【解決手段】特定の構造を有するジアリルアミン類のスルホン酸塩、又はアルキルサルフェート塩と二酸化硫黄とを共重合して得られ、GPC測定により得られる重量平均分子量が15万以上、重合度1000以上である共重合体。特定の構造を有するジアリルアミン類のスルホン酸塩、又はアルキルサルフェート塩と二酸化硫黄とを、エチレングリコール中、又はプロピレングリコールモノメチルエーテル中で共重合する工程を有する、共重合体の製造方法。【選択図】なし

3. 发明专利

JP5409396B2 Additive composition suitable for antistatic treatment and the conductive improvement of non-living organic materials 有权
公开(公告)号：JP5409396B2
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：JP2009552178
申请日：2008-02-28
申请人：ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピアBasf Se
发明人：ポッセルトディートマー , メーリングフランク−オラフ , ランゲアルノ , フィンキアアーニャ , コルマンクラウディウス
IPC分类号： C09K3/16 , C08G75/22
CPC分类号： H01B1/125 , C08G75/18 , C08G75/22 , C08L39/04 , C08L81/06 , C10L1/143 , C10L1/1616 , C10L1/1641 , C10L1/2225 , C10L1/2364 , C10L1/2383 , C10L1/2387 , C10L1/2431 , C10L1/2437 , C10L1/2475 , C10M157/06 , C10M161/00 , C10M2203/065 , C10M2205/02 , C10M2205/0206 , C10M2219/044 , C10M2221/04 , C10M2221/0405 , C10N2230/28 , C10N2230/66 , C10N2240/04 , C10N2240/10 , C10N2260/09 , C08L2666/04 , C10M2217/024 , C10M2209/086 , C10M2217/06 , C10M2217/0245 , C10M2209/0863 , C10M2217/065
摘要： An additive formulation suitable for antistatic modification and improving the electrical conductivity of inanimate organic material, consisting essentially of (A) from 1 to 50% by weight of an olefin-sulfur dioxide copolymer, (B) from 1 to 50% by weight of a compound which comprises one or more basic nitrogen atoms and has at least one relatively long-chain linear or branched hydrocarbon radical having at least four carbon atoms or an equivalent structural element which ensures the solubility of component (B) in the inanimate organic material, (C) from 0.1 to 30% by weight of an oil-soluble acid and (D) from 1 to 80% by weight of a high-boiling organic solvent which consists of one or more molecule types, where at least 80% by weight of these molecule types have a boiling point of more than 150° C. at standard pressure, where the sum of all components adds up to 100% by weight.

4. 发明专利

JP5510333B2 Intracellular introduction methods and compositions for use therein of gene 有权
公开(公告)号：JP5510333B2
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：JP2010533895
申请日：2009-10-13
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：一人池本
IPC分类号： C12N15/09
CPC分类号： C08G75/22 , C08L81/06

5. 发明专利

JPWO2010044395A1 遺伝子の細胞内導入方法及びそれに用いる組成物有权
公开(公告)号：JPWO2010044395A1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：JP2010533895
申请日：2009-10-13
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：池本　一人 , 一人池本
IPC分类号： C12N15/09
CPC分类号： C08G75/22 , C08L81/06
摘要：【課題】本発明は、実用的で高い導入効率が得られる、遺伝子の細胞内導入方法及びそれに用いる組成物を提供する。【解決手段】式1に示す繰り返し構造を有するジアリルアミン二酸化硫黄共重合物またはその塩を含む組成物と遺伝子の混合物を細胞に接触させることによって、DNAやRNA等の遺伝子を標的細胞内に安全かつ簡便に、しかも高い遺伝子導入率で特定部位の細胞に導入することが可能になる。【化1】(nは1以上の整数を表す)【選択図】なし

6. 发明专利

JP6350829B2 ジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体、及びその製造方法。有权
公开(公告)号：JP6350829B2
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：JP2015203565
申请日：2015-10-15
申请人：日東紡績株式会社
发明人：山田信幸 , 文屋勝
IPC分类号： C08G75/22
CPC分类号： C08G75/22 , C08F2/06 , C08K5/23 , C09D11/106 , C09D181/06

7. 发明专利

JP5748070B2 ジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体の製造方法有权
标题翻译：二烯丙基胺及其制造方法二氧化硫的共聚物
公开(公告)号：JP5748070B2
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：JP2012517236
申请日：2011-05-13
申请人：日東紡績株式会社
发明人：佐藤裕輔 , 福島祐介 , 中田泰仁
IPC分类号： C08G75/22
CPC分类号： C08G75/00 , C08G75/22

8. 发明专利

JPWO2011148862A1 ジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2011148862A1
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：JP2012517236
申请日：2011-05-13
申请人：日東紡績株式会社
发明人：佐藤　裕輔 , 裕輔佐藤 , 祐介福島 , 祐介福島 , 中田　泰仁 , 泰仁中田
IPC分类号： C08G75/22
CPC分类号： C08G75/00 , C08G75/22
摘要：酸及びラジカル重合開始剤の存在下、極性溶媒中でジアリルアミン類と二酸化硫黄とを共重合させることにより、従来の製造方法で得られるよりも高分子量でありかつ水溶性であるジアリルアミン類と二酸化硫黄との共重合体を製造する製造方法を提供する。

9. 发明专利

JP2010520343A Additive composition suitable for antistatic treatment and the conductive improvement of inanimate organic material 有权
公开(公告)号：JP2010520343A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：JP2009552178
申请日：2008-02-28
申请人：ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピアBasf Se
发明人：フィンキアアーニャ , ランゲアルノ , コルマンクラウディウス , ポッセルトディートマー , メーリングフランク−オラフ
IPC分类号： C09K3/16 , C09D7/12 , C09D201/00 , C10L1/224 , C10L1/24 , C10M133/16 , C10M133/56 , C10M135/10 , C10N30/00 , C10N40/04 , C10N40/25
CPC分类号： H01B1/125 , C08G75/18 , C08G75/22 , C08L39/04 , C08L81/06 , C10L1/143 , C10L1/1616 , C10L1/1641 , C10L1/2225 , C10L1/2364 , C10L1/2383 , C10L1/2387 , C10L1/2431 , C10L1/2437 , C10L1/2475 , C10M157/06 , C10M161/00 , C10M2203/065 , C10M2205/02 , C10M2205/0206 , C10M2219/044 , C10M2221/04 , C10M2221/0405 , C10N2230/28 , C10N2230/66 , C10N2240/04 , C10N2240/10 , C10N2260/09 , C08L2666/04 , C10M2217/024 , C10M2209/086 , C10M2217/06 , C10M2217/0245 , C10M2209/0863 , C10M2217/065
摘要： An additive formulation suitable for antistatic modification and improving the electrical conductivity of inanimate organic material, consisting essentially of (A) from 1 to 50% by weight of an olefin-sulfur dioxide copolymer, (B) from 1 to 50% by weight of a compound which comprises one or more basic nitrogen atoms and has at least one relatively long-chain linear or branched hydrocarbon radical having at least four carbon atoms or an equivalent structural element which ensures the solubility of component (B) in the inanimate organic material, (C) from 0.1 to 30% by weight of an oil-soluble acid and (D) from 1 to 80% by weight of a high-boiling organic solvent which consists of one or more molecule types, where at least 80% by weight of these molecule types have a boiling point of more than 150° C. at standard pressure, where the sum of all components adds up to 100% by weight.

10. 发明专利

JP2009529584A Base potential polymers for photoresist composition 审中-公开
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2009529584A
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：JP2008557848
申请日：2007-03-06
申请人：エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
发明人：アブダラ・デイヴィット , ホウリハン・フランシス
IPC分类号： C08G75/20 , G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/091 , C08G75/20 , C08G75/22 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111
摘要：少なくとも一つのスルホニル基を含み、このスルホニル基に対してα位及び／またはβ位及び／またはγ位にある少なくとも一つの炭素原子がヒドロキシル基を有し、この際、このヒドロキシル基は保護されているかまたは保護されていない塩基可溶性ポリマーが開示される。
摘要翻译：包含至少一个磺酰基的碱性可溶性聚合物，其中相对于磺酰基的α-位和/或/或位置和/或γ位上的至少一个碳原子具有羟基，其中羟基被保护或描述不受保护的。

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