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1. 发明专利

JP5485188B2 Resist underlayer film material and pattern forming method using the same 有权
公开(公告)号：JP5485188B2
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：JP2011006307
申请日：2011-01-14
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：勤荻原 , 大佑郡 , 祐介美谷島 , 武渡辺 , 俊彦藤井 , 剛金生
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C08G10/02 , G03F7/094

2. 发明专利

JP5370158B2 Underlayer film forming composition and multi-layer resist pattern forming method for lithography 有权
公开(公告)号：JP5370158B2
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：JP2009544661
申请日：2008-12-01
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：大小黒 , 豪東原 , 誠二北 , 光晴北村 , 雅司荻原
IPC分类号： G03F7/11 , C08G8/38 , C08G10/02 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： C08G10/02 , G03F7/094
摘要： A composition for forming an underlayer film for lithography for imparting excellent optical characteristics and etching resistance to an underlayer film for lithography, an underlayer film being formed of the composition and having a high refractive index (n) and a low extinction coefficient (k), being transparent, having high etching resistance, containing a significantly small amount of a sublimable component, and a method for forming a pattern using the underlayer film are provided. The composition for forming an underlayer film contains a naphthalene formaldehyde polymer having a specific unit obtained by reacting naphthalene and/or alkylnaphthalene with formaldehyde, and an organic solvent.

3. 发明专利

JP5870918B2 アルキルナフタレンホルムアルデヒド重合体の精製方法有权
标题翻译：净化烷基萘甲醛系聚合物的方法
公开(公告)号：JP5870918B2
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：JP2012509315
申请日：2011-04-05
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：岡田悠 , 東原豪
IPC分类号： C08G10/02
CPC分类号： C08G10/02 , C08L61/18

4. 发明专利

JPWO2013179660A1 液状レゾール型フェノール樹脂および湿式ペーパー摩擦材有权
标题翻译：液态甲阶型酚醛树脂和湿纸摩擦构件
公开(公告)号：JPWO2013179660A1
公开(公告)日：2016-01-18
申请号：JP2014518285
申请日：2013-05-29
申请人：住友ベークライト株式会社
发明人：裕司鈴木 , 裕司鈴木
IPC分类号： C08G8/04 , C08J5/14 , C09K3/14
CPC分类号： C08G10/02 , C07C39/18 , C08G8/08 , C08G8/20 , C08G14/04 , F16D69/026
摘要：すべてのフェノール構造単位の少なくとも1つ以上のメタ位に,炭素数10以上の直鎖不飽和炭化水素基が結合している液状レゾール型フェノール樹脂。
摘要翻译：至少一个或多个的所有酚结构单元的间位，液态甲阶型酚醛树脂是具有10个或更多个碳原子键合的直链不饱和烃基。

5. 发明专利

JPWO2011125326A1 アルキルナフタレンホルムアルデヒド重合体の精製方法有权
公开(公告)号：JPWO2011125326A1
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：JP2012509315
申请日：2011-04-05
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：悠岡田 , 悠岡田 , 豪東原 , 豪東原
IPC分类号： C08G10/02
CPC分类号： C08G10/02 , C08L61/18
摘要：本発明は、金属含有量の低減されたアルキルナフタレンホルムアルデヒド重合体の工業的に有利な精製方法を提供することを目的とする。解決手段としては、アルキルナフタレンとホルムアルデヒドとを反応させて得られるアルキルナフタレンホルムアルデヒド重合体、及び、有機溶媒を含む溶液を、酸性の水溶液と接触させることを特徴とする。

6. 发明专利

JPWO2003055927A1 芳香族オリゴマーの製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2003055927A1
公开(公告)日：2005-05-12
申请号：JP2003556455
申请日：2002-12-26
申请人：新日鐵化学株式会社
发明人：利英千崎 , 利英千崎 , 高弘今村 , 高弘今村 , 和義堀部 , 和義堀部 , 吉田　智昭 , 智昭吉田 , 篤彦片山 , 篤彦片山 , 康男和田 , 康男和田 , 勝秀野口 , 勝秀野口
IPC分类号： C08G10/02
CPC分类号： C08G10/02
摘要：本発明は、分離が難しい多環芳香族化合物とホルムアルデヒド反応物である芳香族オリゴマーを含む有機層と酸触媒を含む水層を簡便な方法で効率よく分離して、不純物の少ない有機層を得て、これから高純度の芳香族オリゴマーを製造する方法に関する。本発明は、多環芳香族化合物をホルムアルデヒドで酸触媒の存在下で縮合した芳香族オリゴマー反応液から酸触媒を含む水層とオリゴマーを含む有機層を層分離するに当たり、有効量のノニオン系、カチオン系等の界面活性剤と、酸触媒の酸を1〜70%中和する量に相当するアルカリを添加してエマルション相を破壊して、層分離を行い、分離された有機層から芳香族オリゴマーを回収することからなる芳香族オリゴマーの製造方法である。

7. 发明专利

JP5742715B2 芳香族炭化水素樹脂及びリソグラフィー用下層膜形成組成物有权
标题翻译：芳族烃树脂和下层膜的形成光刻用组合物
公开(公告)号：JP5742715B2
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：JP2011531933
申请日：2010-09-14
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：井出野隆次 , 北誠二 , 荻原雅司 , 東原豪
IPC分类号： C08G61/02 , G03F7/11 , G03F7/26 , C08G10/02
CPC分类号： C08G10/02 , C08G61/02 , C08L65/00 , C09D161/18 , G03F7/11 , C08G2261/148 , C08G2261/342 , C08G2261/42

8. 发明专利

JP5249138B2 Hydraulic composition dispersant 有权
公开(公告)号：JP5249138B2
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：JP2009140994
申请日：2009-06-12
申请人：花王株式会社
发明人：良仁名嘉 , 修一藤田 , 利正濱井 , 大輔浜田 , 桂一郎佐川
IPC分类号： C04B24/26 , C04B24/22 , C04B28/02 , C04B103/40
CPC分类号： C04B24/226 , C04B24/2641 , C04B24/30 , C04B2103/408 , C08F220/06 , C08F220/28 , C08G10/02 , C08L61/02

9. 发明专利

JP2012145897A Resist underlayer film material and pattern forming method using the same 有权
标题翻译：使用相同的抗静电膜材料和图案形成方法
公开(公告)号：JP2012145897A
公开(公告)日：2012-08-02
申请号：JP2011006307
申请日：2011-01-14
申请人： Shin Etsu Chem Co Ltd , 信越化学工業株式会社
发明人： OGIWARA TSUTOMU , KOORI DAISUKE , BIYAJIMA YUSUKE , WATANABE TAKESHI , FUJII TOSHIHIKO , KANAO TAKESHI
IPC分类号： G03F7/11 , C08G8/20 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C08G10/02 , G03F7/094
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist underlayer film material, from which an underlayer film can be formed, the film capable of reducing reflectance as an underlayer film for a three-layer resist process (that is, having optimal n-value and k-value as an antireflection film), having excellent filling characteristics and high resistance against pattern bending, in particular, preventing collapse or distortion of lines after etching in a thin high-aspect line having a width of less than 60 nm, and to provide a pattern forming method using the same.SOLUTION: A resist underlayer film material contains at least a polymer obtained by condensing one kind or more of compounds expressed by general formula (1-1) and/or (1-2), and one kind or more of compounds of benzaldehyde having a hydroxyl group and/or naphthaldehyde having a hydroxyl group and/or an equivalent thereof.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够形成下层膜的抗蚀剂下层膜材料，能够降低作为三层抗蚀剂工艺的下层膜的反射率的膜（即，具有最佳n- 值和k值作为抗反射膜），具有优异的填充特性和高抗图案弯曲性，特别是防止在宽度小于60nm的薄型高纵横线中蚀刻后的线的塌陷或变形，以及以提供使用该图案形成方法的图案形成方法。抗蚀剂下层膜材料至少含有通过将一种或多种通式（1-1）和/或（1-2）表示的化合物缩合得到的聚合物，以及一种或多种具有羟基的苯甲醛和/或具有羟基和/或其等同物的萘醛。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2012508909A Anti-reflective coating composition comprising a fused aromatic ring 审中-公开
公开(公告)号：JP2012508909A
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：JP2011543827
申请日：2009-03-30
申请人：エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
发明人：アンヤディーグウー・クレメント , マッケンジー・ダグラス , ラーマン・エム・ダリル
IPC分类号： G03F7/11 , C08G8/04 , H01L21/027
CPC分类号： C08G10/02 , G03F7/091 , H01L21/0276
摘要：本発明は、（ｉ）構造（１）のポリマー主鎖中に縮合芳香環を有する少なくとも１個の単位、（ｉｉ）構造（２）を有する少なくとも１個の単位、および（ｉｉｉ）構造（３）のポリマー主鎖中に環式脂肪族部分を有する少なくとも１個の単位を含むポリマーを含むスピン・コーティング可能な有機反射防止コーティング組成物に関する（式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ）。（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）中、Ｆｒ
１は、３個以上の芳香環を有する置換または非置換縮合芳香環部分であり、Ｒ'およびＲ''は独立に、水素、ＣｒＣ４アルキル、Ｚ、ＣｒＣ４アルキレンＺから選択され、ここで、Ｚは置換または非置換芳香族部分であり、Ｒ
１は、水素または芳香族部分から選択され、Ｂは、置換または非置換脂環式部分である。本発明はさらに、本組成物をイメージングする方法に関する。
【化１】

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