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1. 发明专利

JP5465584B2 Method of manufacturing a pyrazine derivative 有权
公开(公告)号：JP5465584B2
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：JP2010090058
申请日：2010-04-09
申请人：日本化学工業株式会社
发明人：大輔間山
IPC分类号： C07F9/6509 , C07B53/00 , C07F5/02 , C07F9/50
CPC分类号： C07F9/65683 , C07B53/00 , C07F9/5036 , C07F9/650982

2. 发明专利

JP2008520623A Production method of the acyl host fan and its derivatives 有权
公开(公告)号：JP2008520623A
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：JP2007541935
申请日：2005-11-14
申请人：チバホールディングインコーポレーテッドCiba Holding Inc.
发明人：ヴォルフ，ジャン−ピエール , グリュッツマッハー，ハンスイェルク , シュタイン，ダニエル , ディートリカー，クルト , ブルクハルト，シュテファン , ムーレル，ペーター
IPC分类号： C07F9/50 , C08F2/50
CPC分类号： G03F7/029 , C07F9/5036 , C07F9/5337 , C07F9/5537 , C07F9/65515 , C07F9/6552
摘要：本発明は、式（Ｉ）の（ビス）アシルホスファン（式中、ｎ及びｍは互いに独立して１又は２であり；ｎ＝１の場合、Ｒ
１は、例えば、非置換で直鎖又は分岐鎖のＣ
1 〜Ｃ
18 アルキル若しくはＣ
2 〜Ｃ
18 アルケニルであるか、又はフェニルであり、Ｒ
1 は、ｎ＝２の場合、例えば上記で定義された一価ラジカルの二価ラジカルであり；Ｒ
2 は、例えばＣ
1 〜Ｃ
18 アルキル、Ｃ
3 〜Ｃ
12 シクロアルキル、Ｃ
2 〜Ｃ
18 アルケニル、メシチル、フェニル、ナフチルであり；Ｒ
3 は、Ｒ
1 で定義されたラジカルのうちの１つである）の製造方法であって、ａ）例えばリン原子のホルマール酸化状態が（−３）を越えるリン元素〔Ｐ〕
∞ 、Ｐ（Ｈａｌ）
3 又は他のリン化合物を、還元金属と、溶媒中、場合により触媒又は活性化剤の存在下で接触させて、金属リン化物Ｍｅ
3 Ｐ若しくはＭｅ′
3 Ｐ
2 （ここで、Ｍｅはアルカリ金属であり、そしてＭｅ′はアルカリ土類金属である）を得るか、又は金属ポリリン化物を得る工程；ｂ）任意に、プロトン供給源を、場合により触媒又は活性化剤の存在下で加えて、金属二水素リン化物ＭｅＰＨ
2 を得る工程；ｃ）式ＩＩＩのｍ個の酸ハロゲン化物若しくは式ＩＶのｍ個のカルボン酸エステルとのによるか、後続アシル化反応する工程、例えば式Ｉにおいてｍ＝１の場合、式ＩＶの１つのカルボン酸エステル、続いて式ＩＩＩの１つの酸ハロゲン化物、若しくはその逆により（ここで、Ｒはアルコールの残基であり、そしてＲ
2 は上記で定義されたとおりである）；ｄ）求電子剤Ｒ
1 Ｈａｌ又は他の求電子剤とアルキル化反応させて、式Ｉの化合物を得る工程に関する。続いて、酸化工程を行い、モノ−及びビスアシルホスファンオキシド及びモノ−及びビスアシルホスファンスルフィドを得ることができ、それらは光開始剤として用いられる。

4. 发明专利

JP4850353B2 Organometallic mono acyl alkyl phosphine 有权
公开(公告)号：JP4850353B2
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：JP2001174045
申请日：2001-06-08
申请人：チバホールディングインコーポレーテッドCiba Holding Inc.
发明人：フークゲープハルド , ヴォルフジャン−ピエール
IPC分类号： C07F9/50 , A61K6/00 , C07F1/02 , C07F9/28 , C07F9/53 , C07F9/655 , C07F19/00 , C08F2/46 , C08F2/50 , C08F4/00 , C08F4/08 , C08K5/5397 , C09D4/00 , C09D5/00 , C09D5/03 , C09D7/12 , C09D11/101 , C09D201/02 , C09J4/00 , C09J11/06 , C09J201/02 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/029 , A61K6/0052 , B33Y70/00 , C07F9/28 , C07F9/5036 , C07F9/5337 , C07F9/65502 , C08F2/46 , C08K5/5397 , C09D11/101 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0384 , G03F7/0388 , Y10T428/26 , Y10T428/31504
摘要： Compounds of the formula I in which Ar is a group or unsubstituted or substituted cyclopentyl, cyclohexyl, naphthyl, biphenylyl or an O-, S- or N-containing 5- or 6-membered heterocyclic ring; R 1 and R 2 are C 1 -C 20 alkyl, OR 11 , CF 3 or halogen; R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, OR 11 or halogen; R 6 is unsubstituted or substituted C 1 -C 24 alkyl, C 2 -C 24 alkyl, which is interrupted by O, S or NR 14 and is unsubstituted or substituted; C 2 -C 24 alkenyl, uninterrupted or interrupted by O, S or NR 14 and unsubstituted or substituted; unsubstituted or substituted C 7 -C 24 arylalkyl; C 4 -C 24 cycloalkyl, uninterrupted or interrupted by O, S and/or NR 14 ; or C 8 -C 24 arylcycloalkyl; R 11 is C 1 -C 20 alkyl, C 3 -C 8 cycloalkyl, phenyl, benzyl or C 2 -C 20 alkyl, interrupted by O or S and unsubstituted or substituted; R 12 and R 13 are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 3 -C 8 cycloalkyl, phenyl, benzyl or C 2 -C 20 alkyl, interrupted by O atoms and unsubstituted or substituted; or R 12 and R 13 together are C 3 -C 5 alkylene, uninterrupted or interrupted by O, S or NR 14 ; R 14 is hydrogen, phenyl, C 1 -C 12 alkyl or C 2 -C 12 alkyl, interrupted by O or S and unsubstituted or substituted; and M is hydrogen, Li, Na or K; are valuable intermediates for the preparation of unsymmetrical bisacylphosphine oxides and monoacylphosphine oxides.

5. 发明专利

JP2006528153A Method of manufacturing acyl phosphane and their derivatives 有权
公开(公告)号：JP2006528153A
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：JP2006520822
申请日：2004-07-09
申请人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッドCiba Specialty Chemicals Holding Inc.
发明人：ヴォルフ，ジャン−ピエール , ガイアー，イエンズ , グリュッツマッハー，ハンスイェルク , シェーラー，マルクス , シェーンベルク，ハルトムート , シュタイン，ダニエル , ゾンマーラーデ，ラインハルト・ハー , ブールマーズ，スワド , ブルクハルト，シュテファン , ムーレル，ペーター
IPC分类号： C07F9/53 , C07F9/50
CPC分类号： C07F9/5036 , C07F9/5337
摘要：本発明は、新規かつ選択的な、式Ｉのモノ−及びビスアシルホスファン（ｎおよびｍは、各々互いに独立に、１または２であり；Ｒ
1 がｎ＝１である場合、例えばフェニルであり、Ｒ
1 がｎ＝２である場合、例えばＣ
1 〜Ｃ
18 アルキレン、又はフェニレンであり；Ｒ
2 は、例えばＣ
1 〜Ｃ
18 アルキル、フェニル、置換フェニルであり；Ｒ
3 は、例えばＣ
1 〜Ｃ
18 アルキルである）の製造方法であって、（１）式ＩＩａのハロゲン化第一リンまたは式ＩＩｂのハロゲン化第一リンオキシドまたは式ＩＩｃのハロゲン化第一リンスルフィドを、プロトン源の存在下に（還元）、溶媒中でアルカリ金属と反応させ（金属化）；（２）式ＩＩＩのｍ個の酸ハロゲン化物と引き続き反応させることによる製造方法に関する。酸化工程を、モノ−及びビスアシルホスフィンオキシド又はモノ−及びビスアシルホスフィンスルフィドを得るために続けてもよい。

6. 发明专利

JP2005509685A Multimeric forms of acyl phosphine and its derivatives 审中-公开
公开(公告)号：JP2005509685A
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：JP2003545667
申请日：2002-11-13
申请人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッドCiba Specialty Chemicals Holding Inc.
发明人：ヴォルフ，ジャン−ピエール , フーク，ゲプハルト
IPC分类号： C03C25/10 , C07F9/50 , C07F9/53 , C07F9/58 , C08F2/46 , C08F2/50 , C08F10/00 , G03F7/029
CPC分类号： G03F7/029 , B33Y70/00 , C07F9/5036 , C07F9/5337 , C07F9/582 , C08F2/50
摘要：式Ｉで示される化合物〔式中、Ｅは、Ｏ又はＳであり、ｘは、０又は１であり、Ａは、非置換であるか、若しくはハロゲン、Ｃ
1 〜Ｃ
4 アルキル若しくはＣ
1 〜Ｃ
4 アルコキシで置換された、シクロペンチル、シクロヘキシル、ナフチル、ビフェニリル、アントラシル、又はＯ、Ｓ若しくはＮを含む五若しくは六員複素環であるか、あるいはＡは、式IIの基であり、Ｒは、非置換若しくは置換Ｃ
1 〜Ｃ
24 アルキル；不連続のＯ、Ｓ又はＮＲ
14 で１回以上中断され、かつ非置換若しくは置換のＣ
2 〜Ｃ
24 アルキル；非中断であるか、又は不連続のＯ、Ｓ若しくはＮＲ
14 で１回以上中断され、かつ非置換若しくは置換のＣ
2 〜Ｃ
24 アルケニル；非中断であるか、又は不連続のＯ、Ｓ若しくはＮＲ
14 で１回以上中断され、かつ非置換若しくは置換のＣ
5 〜Ｃ
24 シクロアルケニル；非置換であるか、又はアリール基において置換されたＣ
7 〜Ｃ
24 アリールアルキル；非中断であるか、又はＯ、Ｓ若しくはＮＲ
14 で１回以上中断され、かつ非置換若しくは置換のＣ
4 〜Ｃ
24 シクロアルキル；Ｃ
8 〜Ｃ
24 アリールシクロアルキル、又はＣ
8 〜Ｃ
24 アリールシクロアルケニルであるか；あるいはＲは、式IIIの基であり、Ｗは、結合、−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＯ−Ｎ（Ｒ
15 ）−であり、Ｌは、２、３若しくは４価の結合基であり、ｎは、２、３又は４の数である〕。

7. 发明专利

JP5951479B2 ポリマーナノ粒子有权
标题翻译：聚合物纳米粒子
公开(公告)号：JP5951479B2
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：JP2012505021
申请日：2010-04-16
申请人：イーティーエイチ・チューリッヒ
发明人：ハンスイェルク・クリーツマヒェール , ティモ・オット
IPC分类号： C08F2/24 , C08F2/50
CPC分类号： C08F228/02 , C07F9/5036 , C07F9/5045 , C07F9/5337 , C07F9/591 , C07F9/65061 , C07F9/65062 , C08F112/08 , C08F122/10 , C08F2/24 , C08F2/50 , C08F212/08 , C08F222/30

8. 发明专利

JP2013534935A D1479 their use in stabilizing liquid bap photoinitiators and radiation-curable composition 有权
公开(公告)号：JP2013534935A
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：JP2013511421
申请日：2011-06-21
申请人：ディーエスエムアイピーアセッツビー.ブイ.
发明人：ティモシー，エドワードビショップ， , エドワード，ジョセフマーフィー， , ジョン，エドモンドサウスウェル， , サテンドラサーマー， , テヨンリー，
IPC分类号： C09D4/00 , C07C57/13 , C07C271/28 , C07F9/142 , C07F9/30 , C07F9/50 , C07F9/53 , C07F9/6571 , C08F2/46 , C08F20/00 , C09D7/12
CPC分类号： C07F9/5036 , C03C25/1055 , C03C25/106 , C03C25/246 , C03C25/25 , C04B41/009 , C04B41/483 , C04B41/63 , C07F9/5337 , C08F2/40 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08K5/50 , C09D133/08 , C04B28/02 , C04B41/0045 , C08F2220/302 , C08F226/06 , C08F2220/281 , C08F220/06
摘要： The invention relates to radiation curable compositions comprising a liquid 0/s(acyl)phosphine photo initiators of formula (I): wherein each of Ar1, Ar2 and Ar3 is independently a substituted or unsubstituted aryl group. The invention also relates to stabilized forms of liquid bis(acyl)phosphines of formula (I) and radiation curable composition comprising said stabilized photoinitiators. The radiation curable compositions are selected from the group consisting of an optical fiber coating composition and a coating composition capable of radiation cure on concrete and a coating composition capable of radiation cure on metal.

10. 发明专利

JP2008526918A Acyl phosphane, and manufacturing method of these oxides and sulfides 有权
公开(公告)号：JP2008526918A
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：JP2007550781
申请日：2006-01-09
申请人：チバホールディングインコーポレーテッドCiba Holding Inc.
发明人：ゾンマーラーデ，ラインハルト・ハー , フィッシャー，ヴァルター , フリッチェ，カタリナ
IPC分类号： C07F9/50 , C07B61/00
CPC分类号： C07F9/5068 , C07F9/5036 , C07F9/5337
摘要：式Ｉ：
Ｒ
１Ｐ（ＣＯＲ
２）
２
〔式中、
Ｒ
１は、非置換フェニル、又は１〜５つのハロゲン、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルキル、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルキルチオ及び／若しくはＣ
１〜Ｃ
８ −アルコキシにより置換されているフェニルであり；
Ｒ
２は、Ｃ
１〜Ｃ
１８ −アルキル又はＣ
２〜Ｃ
１８ −アルケニル；Ｃ
１〜Ｃ
１８ −アルキル、又はハロゲン、−ＯＲ
１０、−ＯＣＯ-Ｒ
１０、−ＯＣＯ−Ｈａｌ、−ＣＯＯ−Ｒ
１０、−Ｎ（Ｒ
１１）−ＣＯ−Ｒ
１０、−Ｎ（Ｒ
１１）−ＣＯ−Ｈａｌ、−ＣＯ−ＮＲ
１１Ｒ
１０、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−ＯＲ
１０又は−ＣＨ＝ＣＨ−フェニルにより１回又は１回以上置換されているＣ
２〜Ｃ
１８ −アルケニル；−Ｃ（Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル）＝Ｃ（Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル）−ＣＯ−ＯＲ
１０又は−Ｃ（Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル）＝Ｃ（Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル）−フェニル；Ｃ
５〜Ｃ
１２ −シクロアルキル、Ｃ
２〜Ｃ
１８ −アルケニル、フェニル−Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル、フェニル、ナフチル、ビフェニル又は５員若しくは６員の−Ｏ−、Ｓ−若しくはＮ含有複素環であり、基フェニル、ナフチル、ビフェニル又は５員若しくは６員の−Ｏ−、Ｓ−若しくはＮ含有複素環は、非置換であるか、又は１〜５つのハロゲン、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルキル、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルコキシ及び／若しくはＣ
１〜Ｃ
８ −アルキルチオで置換されており；
Ｒ
１０は、水素、Ｃ
１〜Ｃ
１８アルキル、１個又は数個の非連続−Ｏ−原子で中断されているＣ
２〜Ｃ
１８アルキル、Ｃ
５〜Ｃ
１２ −シクロアルキル、フェニル−Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル、Ｃ
２〜Ｃ
１８ −アルケニルであり、フェニル、ナフチル又はビフェニルは、非置換であるか又は１〜５つのＣ
１〜Ｃ
８ −アルキル、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルコキシ、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルキルチオ及び／若しくはハロゲンで置換されており；
Ｒ
１１は、水素、Ｃ
１〜Ｃ
１８アルキル、１個又は数個の非連続Ｏ原子で中断されているＣ
２〜Ｃ
１８アルキル、Ｃ
５〜Ｃ
１２ −シクロアルキル、Ｃ
２〜Ｃ
１８ −アルケニル、フェニル−Ｃ
１〜Ｃ
４ −アルキル、フェニル、ナフチル、ピリジルであり、基フェニル、ナフチル又はピリジルは、非置換であるか又は１〜５つのＣ
１〜Ｃ
８ −アルキル、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルコキシ、Ｃ
１〜Ｃ
８ −アルキルチオ及び／若しくはハロゲンで置換されている〕
で示されるビス−アシルホスファンの製造方法であって、
ａ）式ＩＩ：
Ｒ
１Ｐ（Ｃｌ）
２
で示されるジクロロフェニルホスファンを、２０〜２００℃の範囲の温度及び大気圧から２０barの水素圧下で、水素化触媒、第三級脂肪族アミン又は芳香族アミンの存在下、及び水素化条件下で非反応性である非プロトン性溶媒の存在下で、水素を用いて選択的還元して、環状フェニルホスファン（Ｒ
１Ｐ）
ｎ（ｎ＝４〜６）を得る工程；或いはｂ）Ｒ
１Ｐ（Ｃｌ）
２を、８０〜２００℃の範囲の温度及び２０bar〜２５０barの水素圧下で、水素化触媒、第三級脂肪族アミン又は芳香族アミンの存在下、及び水素化条件下で非反応性である非プロトン性溶媒の存在下で、水素を用いて選択的還元して、Ｒ
１ＰＨ
２を得る工程；
ｃ）続いて、適切な塩基の存在下で式ＩＩＩの酸ハロゲン化物：
Ｒ
２ＣＯＨａｌ
（ここでＲ
２は上記で定義されたとおりである）と反応させる工程を含む方法。

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