会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 5. 发明专利
    • 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
    • 用于形成化学放大膜的有机处理液的生产方法,用于形成化学放大膜的有机处理液,图案形成方法,制造电子器件的方法和电子器件
    • JP2014202807A
    • 2014-10-27
    • JP2013076735
    • 2013-04-02
    • 富士フイルム株式会社Fujifilm Corp
    • YAMANAKA TSUKASAKAWAMOTO TAKASHIIGUCHI NAOYA
    • G03F7/32G03F7/038G03F7/039H01L21/027
    • G03F7/32C07C29/76C07C45/786C07C67/48C07C67/56G03F7/0382G03F7/0397G03F7/325C07C69/24C07C31/125C07C49/04
    • 【課題】特に、有機系現像液を用いて微細化(例えば、30nmノード以下)パターンを形成するネガ型パターン形成技術において、パーティクルの発生を低減可能な、化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、並びに、これを用いた化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】液入口部と、液出口部と、前記液入口部と前記液出口部とを接続する流路内に設けられた濾過フィルター膜とを有する濾過装置に、有機溶剤を含有する液を通過させる工程を有する、化学増幅型レジスト膜のパターンニング用有機系処理液の製造方法であって、前記液入口部における前記液の温度(TI)と、前記液出口部における前記液の温度(To)との差の絶対値(|TI−To|)が、3℃以下であり、前記濾過装置における前記液の濾過速度が0.5L/分/m2以上であり、前記濾過装置における前記液による濾過圧力が0.1MPa以下である、化学増幅型レジスト膜のパターンニング用有機系処理液の製造方法、並びに、これを用いた化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供一种用于图案化化学放大抗蚀剂膜的有机处理液的制备方法,特别是在形成用于形成精细图案的负图案的技术中,能够减少颗粒的产生的液体(例如, 通过使用有机显影剂具有30nm节点或更小的图案的图案),并且使用上述方法提供用于图案化化学放大抗蚀剂膜的有机处理液,图案形成方法,电子器件的制造方法和 电子器件。解决方案:用于图案化化学放大抗蚀剂膜的有机处理液的制备方法包括使包含有机溶剂的液体通过具有液体入口,液体出口和过滤膜的过滤装置的步骤 设置在连接液体入口和液体出口的流动通道中。 液体入口处的液体的温度(T)与液体出口处的液体的温度(T)之差的绝对值(| T-T |)为3℃以下; 过滤装置中的液体的过滤速度为0.5L / min / 并且过滤装置中的液体的过滤压力为0.1MPa以下。 还提供:用于图案化通过上述方法制备的化学放大抗蚀剂膜的有机处理液; 图案形成方法; 电子设备的制造方法; 和电子设备。