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1. 发明专利

JP2012253007A Inspection device 有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2012253007A
公开(公告)日：2012-12-20
申请号：JP2012015875
申请日：2012-01-27
申请人： Ebara Corp , 株式会社荏原製作所
发明人： HATAKEYAMA MASAKI , YOSHIKAWA SEIJI , MURAKAMI TAKESHI , WATANABE KENJI , NAITO YOSHIHIKO , TAIMA YASUSHI , KARIMATA TSUTOMU , HAYASHI TAKEHIDE , TSUKAMOTO KIWAMU , KOHAMA TATSUYA , KOBAYASHI NOBORU
IPC分类号： H01J37/244 , G01N23/225 , G01N23/227 , H01J37/09 , H01J37/29 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/09 , G01N23/22 , G01N23/223 , G01N23/2251 , G01N2223/611 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J37/29 , H01J2237/0048 , H01J2237/022 , H01J2237/032 , H01J2237/038 , H01J2237/045 , H01J2237/0458 , H01J2237/0473 , H01J2237/0492 , H01J2237/061 , H01J2237/06333 , H01J2237/166 , H01J2237/186 , H01J2237/2002 , H01J2237/2007 , H01J2237/2008 , H01J2237/2448 , H01J2237/2482 , H01J2237/2485 , H01J2237/2817 , H01J2237/2855 , H01J2237/2857
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection method and an inspection device capable of improving an inspection accuracy to be applied to a design rule of 5-30 nm.SOLUTION: An inspection device has: beam generation means generating any one of a charged particle and an electromagnetic wave as a beam; a primary optical system introducing the beam to an inspection target held in a working chamber to irradiate the inspection target with the beam; a secondary optical system having a movable type numerical aperture, and a first detector detecting a secondary charged particle generated from the inspection target and passed through the numerical aperture; an image processing system forming an image based on the secondary charged particle detected by the first detector; and a second detector provided between the movable type numerical aperture and the first detector, and detecting a position and shape at a crossover position of the secondary charged particle generated form the inspection target.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够提高应用于5-30nm的设计规则的检查精度的检查方法和检查装置。解决方案：检查装置具有：波束产生装置，其产生带电粒子和电磁波中的任何一个作为波束; 将光束引入到保持在工作室中的检查对象物的主光学系统，用该光束照射检查对象物; 具有可动型数值孔径的次级光学系统，以及第一检测器，检测从检查对象物产生的并通过数值孔径的二次带电粒子; 图像处理系统，其基于由所述第一检测器检测到的所述次级带电粒子形成图像; 以及第二检测器，设置在可动型数值孔径和第一检测器之间，并且检测从检查对象产生的二次带电粒子的交叉位置处的位置和形状。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2014228930A サーボ制御装置审中-公开
标题翻译：伺服控制器
公开(公告)号：JP2014228930A
公开(公告)日：2014-12-08
申请号：JP2013106041
申请日：2013-05-20
申请人：株式会社荏原製作所 , Ebara Corp
发明人： KOBAYASHI NOBORU
IPC分类号： G05D3/12 , G05B13/02 , H02P29/00
摘要：【課題】高いループゲインを要す高精度なステージ機構等のサーボ制御装置におけるサーボ系評価のためのパラメータの実測定が可能なステージ制御装置を提供する。【解決手段】ステージ制御装置100は、ステージ200の位置を計測する位置計測器120と、位置計測器によって計測された位置フィードバック信号とステージ200の軌道指令との偏差を演算する位置偏差演算器130と、位置偏差演算器によって演算された位置偏差信号に基づいてサーボ系の補償を施すための補償信号を生成するPID補償器140と、補償信号と外乱信号とを加算する加算器160と、ステージ200を駆動するモータ210を加算器160によって演算された加算演算信号に応じて駆動するドライバアンプ170と、を備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够实际测量用于评估需要高回路增益的精确级机构的伺服控制器中的伺服系统的参数的级控制器。解决方案：级控制器100包括：位置测量用于测量台200的位置的单元120; 位置偏差计算单元130，用于计算由位置测量单元测量的位置反馈信号与平台200的轨迹指令之间的偏差; PID补偿器140，用于基于由位置偏差计算单元计算的位置偏差信号产生用于补偿伺服系统的补偿信号; 加法器160，用于将补偿信号加到干扰信号上; 以及驱动放大器170，用于响应于由加法器160计算的加法运算信号来驱动马达210驱动载物台200。

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