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1. 发明专利

JP6588819B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6588819B2
公开(公告)日：2019-10-09
申请号：JP2015252297
申请日：2015-12-24
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：高橋弘明 , 藤川和憲 , 小路丸友則 , 石田知正 , 樋口鮎美 , 藤原直澄 , 小森香奈 , 岩畑翔太
IPC分类号： H01L21/304

2. 发明专利

JP6509577B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6509577B2
公开(公告)日：2019-05-08
申请号：JP2015027959
申请日：2015-02-16
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：高橋弘明
IPC分类号： H01L21/304

3. 发明专利

JP6870944B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6870944B2
公开(公告)日：2021-05-12
申请号：JP2016187251
申请日：2016-09-26
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：宗徳皓太 , 林豊秀 , 波多野章人 , 郷原隆行 , 高橋弘明
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304

4. 发明专利

JP6418694B2 基板処理装置および基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP6418694B2
公开(公告)日：2018-11-07
申请号：JP2015064945
申请日：2015-03-26
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：高橋弘明 , 尾辻正幸
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/30604 , H01L21/02057 , H01L21/31111 , H01L21/32134 , H01L21/67028 , H01L21/6708 , H01L21/6833

5. 发明专利

JP2018107401A 基板処理装置および基板処理システム审中-公开
公开(公告)号：JP2018107401A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016255662
申请日：2016-12-28
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：井上正史 , 田中孝佳 , 岩田智巳 , 谷口寛樹 , 新庄淳一 , 高橋弘明 , 樋口鮎美 , 大跡明 , 中野佑太
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/02 , H01L21/304
摘要：【課題】紫外線を用いて複数の処理を行いつつも、サイズの増大を抑制できる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置は、紫外線照射手段2と、基板保持手段31,32を備える。紫外線照射手段2は、処理室11,12の境界に位置し、処理室11,12へ紫外線を照射可能である。基板保持手段31は、処理室11に配置されており、基板を紫外線照射手段2と対向するように保持する。基板保持手段32は、処理室12に配置されており、基板を紫外線照射手段2と対向するように保持する。【選択図】図2

6. 发明专利

JP2016152277A 基板処理装置有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：JP2016152277A
公开(公告)日：2016-08-22
申请号：JP2015027959
申请日：2015-02-16
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：高橋弘明
IPC分类号： H01L21/304
摘要：【課題】基板の主面における第1の流体の流速を速めることができ、これにより、基板の主面に付着したパーティクル等の異物を良好に除去することができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板処理装置は、ノズル4を含む。ノズル4は、第1の流路42が内部に形成された内筒35を有する。ノズル4の内筒35の下端縁と基板Wの上面との間で、環状の下吐出口49が区画される。下吐出口49は、第1の流路42を流れる処理液を水平方向に放射状に吐出する。ノズル4は、ノズル保持ユニット16を介して、鉛直方向に沿う相対変位が可能な状態で、ノズルアーム17によって支持されている。下吐出口49からの第1の流体の吐出により、ノズル4に上向きの力が作用する。これにより、下吐出口49における開口幅W3を極めて微小な幅に設けることができる。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以增加基板主表面上的第一液体的流量的基板处理装置，从而有利地去除附着在基板主表面上的诸如颗粒的异物。解决方案：基板处理装置包括喷嘴4.喷嘴4具有内管35，其内部形成有第一流动通道42。在喷嘴4的内管35的底部边缘和基板W的顶面之间分隔有一个环形的下部排出口49.下部排出口49沿着第一流动通道42沿水平方向方向。喷嘴4由能够沿垂直方向相对移动的状态的喷嘴保持单元16由喷嘴臂17保持。通过从下排出口49排放第一液体，向上的力作用在喷嘴4上。这允许下排出口49形成为具有非常小的开口宽度W3。图4

7. 发明专利

JP6771080B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6771080B2
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：JP2019167572
申请日：2019-09-13
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：高橋弘明 , 藤川和憲 , 小路丸友則 , 石田知正 , 樋口鮎美 , 藤原直澄 , 小森香奈 , 岩畑翔太
IPC分类号： G02F1/13 , G11B5/84 , H01L21/304

8. 发明专利

JP6770887B2 基板処理装置および基板処理システム有权
公开(公告)号：JP6770887B2
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：JP2016255662
申请日：2016-12-28
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：井上正史 , 田中孝佳 , 岩田智巳 , 谷口寛樹 , 新庄淳一 , 高橋弘明 , 樋口鮎美 , 大跡明 , 中野佑太
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/02 , H01L21/304

9. 发明专利

JP6499472B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6499472B2
公开(公告)日：2019-04-10
申请号：JP2015034347
申请日：2015-02-24
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：宗徳皓太 , 高橋弘明
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306

10. 发明专利

JP2018163980A 基板処理方法および基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018163980A
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：JP2017060073
申请日：2017-03-24
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：郷原隆行 , 林豊秀 , 波多野章人 , 宗徳皓太 , 高橋弘明
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/304 , H01L21/027
摘要：【課題】基板の表面に形成されたレジストを良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板の表面からレジストを除去するための基板処理方法において、基板を支持部材に水平に支持させる支持工程と、水蒸気とオゾンガスとの混合ガスを基板Wの表面付近に供給する混合ガス供給工程(ステップT3)と、基板Wの表面付近に供給された混合ガスに紫外線を照射する紫外線照射工程(ステップT6)とが実行される。【選択図】図8

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