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1. 发明专利

JP2020099857A 水処理ユニット、水処理ユニットの製造方法、及び、水処理ユニットの製造装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020099857A
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018238711
申请日：2018-12-20
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中野佑一 , 木村裕哉 , 吉川慎一 , 大塚真之 , 照井茂樹
IPC分类号： C02F3/10 , C02F3/06
摘要：【課題】構造自由度を高めた水処理ユニットを提供する。【解決手段】支持体1aと、支持体1aから離間して配置される支持体1bと、支持体1a及び支持体1bから離間して配置される支持体1cと、可撓性材料により連続的に延在するとともに、支持体1a、支持体1b及び支持体1cにより支持される水処理部材10とを備え、水処理部材10は、支持体1aから支持体1bへと架け渡されて支持体1bで折り返し、さらに支持体1cへと架け渡されるように延在し、支持体1bの外表面と接触することにより、支持体1a、支持体1b及び支持体1cによってジグザグ状に支持される。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2016022432A 圧入水の脱酸素システム审中-公开
标题翻译：注射除水系统
公开(公告)号：JP2016022432A
公开(公告)日：2016-02-08
申请号：JP2014148651
申请日：2014-07-22
申请人：株式会社日立製作所
发明人：渡部雅智 , 中山善雄 , 山田学 , 照井茂樹 , 滑川隆 , 中野佑一 , 大西真人 , 磯上尚志
IPC分类号： B01D19/00 , B01D61/00 , C02F1/70 , E21B43/00 , C02F1/20
摘要：【課題】例えば海洋油田等の設置スペースが限定的な場所であっても、高効率に脱酸素可能な圧入水の脱酸素システムを提供する。【解決手段】減圧することで水中の溶存酸素を除去する膜脱気モジュール31と、膜脱気モジュール31の後段に備えられ、膜脱気モジュール31により脱気された水に対して脱酸素剤を添加することで水中の溶存酸素を除去する処理水タンク61、脱酸素剤タンク62、脱酸素剤供給ポンプ63と、を備え、膜脱気モジュール31は、膜脱気モジュール31に供給される水中の溶存酸素のうちの75%〜90%の溶存酸素が除去されるように構成されている圧入水の脱酸素システム100とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种注射水脱氧系统，即使在诸如海洋油田的有限的安装空间中也能够高效脱氧。解决方案：注射水脱氧系统100包括：去除溶解氧的膜脱气模块31 水减压; 处理水箱61，其设置在膜脱气模块31的后续阶段，并通过将脱氧剂加入到由脱膜模块31脱气的水中，去除水中的溶解氧; 脱氧槽62; 和脱氧剂供给泵63.膜脱气模块31构造成除去要供给到膜脱气模块31的水中的溶解氧中的75-90％的溶解氧。选择的图：图1

3. 发明专利

JP6766004B2 電気防食システム及びそれを備えた海水淡水化プラント有权
公开(公告)号：JP6766004B2
公开(公告)日：2020-10-07
申请号：JP2017076060
申请日：2017-04-06
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中野佑一 , 北村光太郎
IPC分类号： C02F1/44 , B01D61/02 , B01D61/06 , B01D61/10 , B01F3/08 , B01F5/00 , C02F1/70 , C23F13/02

4. 发明专利

JP6622126B2 下水汚泥濃縮機有权
公开(公告)号：JP6622126B2
公开(公告)日：2019-12-18
申请号：JP2016060392
申请日：2016-03-24
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中野佑一 , 照井茂樹 , 大塚真之 , 佐々木暁
IPC分类号： B01D33/06 , B01D24/46 , B01D33/44 , B01D33/58 , C02F11/126

5. 发明专利

JP2016190194A 油分及び水分の回収システム审中-公开
标题翻译：油含量和水分含量恢复系统
公开(公告)号：JP2016190194A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：JP2015071245
申请日：2015-03-31
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中山善雄 , 渡部雅智 , 中野佑一 , 山田学 , 照井茂樹 , 滑川隆 , 大西真人 , 林洋二郎 , 磯上尚志 , 生田創
IPC分类号： B01D3/00 , B01D71/02 , B01D71/06 , C02F11/00 , C02F1/52 , B03C1/00 , B01D53/22
摘要：【課題】設備を安価に小型化しつつ、様々な処理対象物から油分及び水分を回収可能な油分及び水分の回収システムを提供する。【解決手段】油分、水分及び無機塩類を含む処理対象物と、25℃、101kPaで液体となる有機溶剤とを接触させて、前記油分と前記水分と前記無機塩類と前記有機溶剤とを含む混合液を前記固形分から分離する抽出槽3及び固形分分離槽4と、前記混合液を加熱することにより、前記混合液に含まれる前記水分と前記有機溶剤を気化させて、前記混合液から前記水分と前記有機溶剤とを混合気体として気化分離する気化槽5と、気化槽5において前記水分及び前記有機溶剤を気化分離させた後の残留物から前記油分を回収する油水分離槽6と、気化槽5において気化分離された混合気体から前記水分を分離して回収する分離装置7と、を備える【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在低成本地对设备进行小型化的同时从各种处理对象中回收油含量和含水量的含油量和含水量回收系统。解决方案：含油量和水分回收系统包括：提取罐 3和固体分离槽4，其将含有油含量，水分含量和无机盐的处理对象与在25℃和101kPa下成为液体的有机溶剂接触以分离含有油含量的混合液，水分含量，无机盐和有机溶剂; 蒸发箱5，通过加热混合液体蒸发混合液中所含的水分含量和有机溶剂，蒸发并分离作为混合气体的混合气体的水分含量和有机溶剂; 油/水分离罐6，其在水分含量和有机溶剂蒸发并在蒸发箱5中分离后从残余物中回收油含量; 以及分离单元7，其将在蒸发箱5中蒸发并分离的混合气体的水分含量分离以回收含水量。选择图1：图1

6. 发明专利

JP2016022458A 圧入水生産システム有权
标题翻译：注射水生产系统
公开(公告)号：JP2016022458A
公开(公告)日：2016-02-08
申请号：JP2014150648
申请日：2014-07-24
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中山善雄 , 渡部雅智 , 山田学 , 照井茂樹 , 滑川隆 , 中野佑一 , 大西真人 , 植田良平 , 林田恵星
IPC分类号： C02F1/70 , C02F1/76 , C02F1/46 , C02F1/50 , B01D61/02 , C02F9/00 , C02F1/44
摘要：【課題】自己分解する塩素系殺菌剤を用いた場合でも安定して運転可能な圧入水生産システムを提供する。【解決手段】海水に塩素系殺菌剤を添加する殺菌剤貯留タンク2及びポンプ21と、殺菌剤貯留タンク2及びポンプ21によって塩素系殺菌剤が添加された海水中の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度センサ4と、残留塩素濃度センサ4の後段に設置され、前記塩素系殺菌剤が添加された海水に対して、前記海水中の残留塩素を脱塩素化する還元剤を添加する還元剤貯留タンク6及びポンプ7と、還元剤貯留タンク6及びポンプ7により還元剤が添加された海水が透過されることで前記圧入水を得るRO膜10と、残留塩素濃度センサ4により測定された残留塩素濃度に基づいて、殺菌剤貯留タンク2及びポンプ21による塩素系殺菌剤の添加量を制御する演算制御装置42とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：即使在使用引起自身分解的氯碱杀菌剂的情况下，也可以稳定地使用注射用水生产系统。解决方案：提供一种注射用水生产系统，其包括杀菌剂储存罐2和加入将氯碱杀菌剂用于海水; 残留氯浓度传感器4，其通过杀菌剂储存罐2和泵21测量添加有氯碱杀菌剂的海水中残留氯的浓度; 还原剂储存罐6和安装在残留氯浓度传感器4的后级中的泵7，并将添加有氯系杀菌剂的海水中残留氯的脱氯剂的还原剂加入到海水中; 能够通过还原剂储存罐6和泵7通过加入还原剂的海水的渗透而获得注入水的RO膜10; 以及算术控制装置42，其根据残留氯浓度传感器4测定的残留氯浓度，通过杀菌剂储存罐2和泵21控制氯系杀菌剂的添加量。图1

7. 发明专利

JP2019116650A 電気防食システムおよび電解液淡水化プラント审中-公开
公开(公告)号：JP2019116650A
公开(公告)日：2019-07-18
申请号：JP2017250074
申请日：2017-12-26
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中野佑一
IPC分类号： C02F1/46 , B01D61/02 , B01D61/06 , B01D61/04 , C02F1/44 , C23F13/02 , C23F13/08
摘要：【課題】メンテナンス性に優れた電気防食システムを実現する。【解決手段】塩化ナトリウムを含む電解液102を通流し金属部分を有する配管10に結合される主管52と、バイパス管24に接続される分岐部54と、を備えた分岐付配管50と、分岐部54に沿って、絶縁材25を介して配置される電極22と、電極22と、配管10の金属部分と、の間に所定の電圧を印加する防食電源23と、を備え、電極22は、主管52に流れる電解液の次亜塩素酸濃度よりも、バイパス管24に流れる電解液の次亜塩素酸濃度が高くなるように配置されている。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2018178167A 電気防食システム及びそれを備えた海水淡水化プラント审中-公开
公开(公告)号：JP2018178167A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2017076060
申请日：2017-04-06
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中野佑一 , 北村光太郎
IPC分类号： C02F1/44 , B01D61/06 , B01F3/08 , B01F5/00 , C02F1/70 , B01D61/02 , B01D61/10 , C23F13/02
CPC分类号： B01D61/02 , B01D61/06 , B01D61/10 , C02F1/44 , C02F1/70 , C23F13/02 , Y02A20/131
摘要：【課題】所定値以上の防食電圧を印加した場合においても、次亜塩素酸を好適に除去し得る電気防食システム及びそれを備えた海水淡水化プラントを提供する。【解決手段】電気防食システム2は、電解液を通流する配管32に絶縁材(35a,35b)を介して配される電極21と、電極21及び配管32との間に電圧を印加する防食電源22と、少なくとも、配管32に設置され配管32内を通流する電解液の流量を計測する流量計23及び配管32内を通流する電解液中の次亜塩素酸濃度を計測する残塩計24と、を備え、流量計23による電解液の流量の計測値及び残塩計24による電解液中の次亜塩素酸濃度の計測値に基づき、配管32内を通流する電解液に少なくとも次亜塩素酸除去剤を添加するよう制御する制御部20を有する。【選択図】図2

9. 发明专利

JP2018130679A 逆浸透処理装置及び逆浸透処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018130679A
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：JP2017026401
申请日：2017-02-15
申请人：株式会社日立製作所
发明人：北村光太郎 , 中野佑一
IPC分类号： B01D61/58 , B01D61/08 , B01D61/12 , C02F1/44
CPC分类号： B01D61/08 , B01D61/12 , B01D61/58 , C02F1/44
摘要：【課題】鹹水の逆浸透処理を、スケールの堆積を抑制して高い回収率で行える逆浸透処理装置及び逆浸透処理方法を提供する。【解決手段】逆浸透処理装置100は、被処理水を一次処理する逆浸透膜モジュールM1が複数配置された第1ユニット10と、第1ユニット10で分離された濃縮水を後次処理する逆浸透膜モジュールM2が1個又は複数配置された複数の第2ユニット20とを備え、第2ユニット20のそれぞれは、濃縮水供給管21、濃縮水排出管22、供給管バルブV1、排出管バルブV2を有し、濃縮水排出管22のそれぞれと、複数の濃縮水供給管21とは、濃縮水返送管24と返送管バルブV41,V42とを介して管路が繋がっているものである。逆浸透処理方法は、2個以上の第2ユニット20を経由して後次処理をした後、最終段の後次処理を行う第2ユニット20を入れ替えるものである。【選択図】図1

10. 发明专利

JP6250492B2 圧入水生産システム有权
公开(公告)号：JP6250492B2
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：JP2014150648
申请日：2014-07-24
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中山善雄 , 渡部雅智 , 山田学 , 照井茂樹 , 滑川隆 , 中野佑一 , 大西真人 , 植田良平 , 林田恵星
IPC分类号： C02F1/70 , C02F1/76 , C02F1/46 , C02F1/50 , B01D61/02 , C02F9/08 , C02F9/06 , C02F9/00 , C02F1/44

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