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    • 5. 发明专利
    • リードフレーム及びその製造方法
    • 引线框架及其制造的方法
    • JP2017028152A
    • 2017-02-02
    • JP2015146854
    • 2015-07-24
    • 株式会社三井ハイテック
    • 石橋 貴弘久保 公彦古野 綾太勝田 孝明
    • H01L21/60H01L23/28H01L23/50
    • H01L23/49582H01L23/49586H01L23/49548
    • 【課題】半田の濡れ性と樹脂の密着性の両立が図れるリードフレーム及びその製造方法を提供する。 【解決手段】リードフレーム10は、半導体チップ11を半田12を用いて接合し、モールド樹脂13で樹脂封止した半導体装置14に使用するものであり、半田12の接合領域19の表面は、銅の素材又は銅のめっきで構成され、モールド樹脂13の密着領域22の表面は、酸化銅の皮膜23で構成されている。リードフレーム10の製造方法は、銅製の、又は、銅のめっきが施された、リードフレーム材15の表面のうち、モールド樹脂13の密着領域22となる表面にレジスト膜24を形成し、半田12の接合領域19となる表面に金属のめっき処理を行ってめっき皮膜25を形成し、レジスト膜24の除去後、その表面を酸化処理して酸化銅の皮膜23を形成し、めっき皮膜25を除去してリードフレーム材15の表面を露出させる。 【選択図】図1
    • 提供一种引线框架的制造和实现,以实现焊料润湿性和树脂的密合性都相同的方法。 的引线框架10与半导体芯片11和焊料12接合旨在用于在半导体装置14使用在其与模制树脂13时,焊料12的接合区域19的表面,在铜树脂密封 由材料或镀铜的,模制树脂13的接触区域22的表面由铜氧化物涂层23。 用于制造引线框10时,铜或铜镀覆方法被应用于引线框架材料15的表面的,形成在模制树脂13的接触区域22的表面上膜24的抗蚀剂,焊料12 通过在表面上进行金属的电镀工艺形成连接区19,并形成镀敷膜25,除去抗蚀剂膜24,氧化铜的23是由表面氧化而形成的膜,去除电镀膜25 并露出引线框架构件15的表面。 点域1