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    • 4. 发明专利
    • 照明光学装置、露光装置および露光方法
    • 照明光学装置,曝光装置和曝光方法
    • JP2015172749A
    • 2015-10-01
    • JP2015076937
    • 2015-04-03
    • 株式会社ニコン
    • 谷津 修西永 壽工藤 威人
    • G02B19/00G03F7/20
    • 【課題】様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現できる照明光学装置を提供する。 【解決手段】被照射面Mを照明する照明光学装置。照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸AXを含む中心領域に位置する光強度分布と光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段3,4,7,8と、複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段6(6a,6b)とを備えている。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种照明光学装置,其能够实现对具有不同特性的掩模图案的精确传送所需的适当照明条件,例如, 二次光源的光强度分布或极化状态各种各样的照明条件。照明光学装置用于点亮被照射的表面M,并且包括形成光束的照明光瞳形成装置3,4,7和8 具有位于包括光轴AX的中心区域的光强度分布的照明光瞳分布和位于距离光轴的间隔多个周边区域的光强度分布和区域修改装置6(6a和6b) 位于周边区域中的光强度分布的位置和大小,与位于中心区域的光强度分布无关,在照明光学装置的光瞳表面或瞳孔表面附近。