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1. 发明专利

JP2019184536A 磁界測定装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019184536A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2018078865
申请日：2018-04-17
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：春山朋彦
IPC分类号： G01R33/032
摘要：【課題】モータから発生する磁界の強度分布を立体的に測定する。【解決手段】モータ200駆動時の磁界の強度分布の変化を測定する磁界測定装置100であって、第一ティース211に対応する位置に配置される第一磁気光学素子板111と、第二ティース212に対応する位置に配置され、第一磁気光学素子板111と180度未満の所定の角度で配置される第二磁気光学素子板112と、第一磁気光学素子板111、および第二磁気光学素子板112に直線偏光の光を出射する投光手段120と、第一磁気光学素子板111、および第二磁気光学素子板112を透過した所定の偏光方向の光を通過させる偏光フィルタ130と、偏光フィルタ130を通過した光を撮像する撮像手段140とを備える。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2018179730A 応力計測装置及び応力計測方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018179730A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2017079121
申请日：2017-04-12
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：大久保勇佐 , 春山朋彦
IPC分类号： G01L1/00
摘要：【課題】計測対象物に周期的な負荷を与えながら赤外線サーモグラフィを用いて温度分布を計測し、温度分布に基づいた計測対象物の各位置の温度変動量から応力分布を求める応力計測装置において、熱損失を考慮して、より正確な温度変動量を求め、より正確な応力分布を求めることができる、応力計測装置及び応力計測方法を提供する。【解決手段】演算装置は、温度測定装置による温度分布に基づいて、計測対象物の表面の各位置の温度変動量を求める温度変動量演算部と、負荷付与装置から与えた負荷の周期または周波数に応じて、計測対象物の表面における熱の拡散による熱の損失に関する熱拡散損失情報を求める熱損失演算部と、温度変動量を熱拡散損失情報に基づいて補正した、補正温度変動量を求める補正温度変動量演算部と、補正温度変動量に基づいて、負荷に応じた計測対象物の表面の応力分布を求める応力演算部と、を有する。【選択図】図3

3. 发明专利

JP6405945B2 ころ軸受の挙動測定装置および挙動測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP6405945B2
公开(公告)日：2018-10-17
申请号：JP2014240336
申请日：2014-11-27
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：中瀬晶詳 , 東頭秀起 , 春山朋彦 , 南里浩太
IPC分类号： G01P3/36 , G01M13/04 , F16C19/36 , F16C19/52 , G01B11/26

4. 发明专利

JP6330472B2 欠陥検出方法及び欠陥検出システム有权
公开(公告)号：JP6330472B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2014102604
申请日：2014-05-16
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：大久保勇佐 , 春山朋彦 , 山田和明
IPC分类号： G01N25/72

5. 发明专利

JP2017009354A 高速度撮像システム及び高速度撮像方法审中-公开
标题翻译：高速成像系统和高速成像方法
公开(公告)号：JP2017009354A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2015123230
申请日：2015-06-18
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：春山朋彦
IPC分类号： G01N21/27 , H04N5/238 , H04N5/225 , G01P3/36
摘要：【課題】1回の露光時間内に複数回の照射光の照射を行って、1枚の画像内に、移動している撮像対象物を複数回撮像して、撮像装置のフレームレートの上限を超える速度で移動する撮像対象物を撮像できるとともに、各照射時の像を適切に分離することが可能であり、撮像対象物の移動速度をより正確に計測することができる高速度撮像システム及び高速度撮像方法を提供する。【解決手段】高速度撮像手段と光源と画像処理手段とを有する高速度撮像システムであって、高速度撮像手段は、第1所定時間の間隔にて画像を撮像して画像処理手段に出力し、光源は、高速度撮像手段の露光時間内において、異なる出力強度で複数の照射光を、第2所定時間の間隔で照射する。画像処理手段は、異なる輝度の複数の撮像対象物を画像の中から抽出し、各輝度の撮像対象物の位置から求めた移動距離と、第2所定時間と、に基づいて撮像対象物の移動速度を求める。【選択図】図3
摘要翻译：单进行照射多个照射光的倍的曝光时间，在一个图像中，该图像拾取对象由成像多次，成像装置的帧速率的上限移动有可能图像成像对象的速度大于在照射有可能充分地分离，高速成像系统和高可以更精确地测量成像对象的移动速度时的图像移动提供速率成像方法。本发明提供一种具有高速摄像装置与所述光源和所述图像处理装置高速成像系统，高速摄像装置是拍摄图像输出到图像处理装置在第一预定的时间间隔中，光源在第二预定时间间隔的高速摄像装置中，在不同的输出强度的多个照射光，照射的曝光时间。图像处理装置，从图像，从对每个亮度成像的对象的位置而获得的移动距离，并且在第二预定时间中提取多个不同的成像对象的亮度的运动，成像对象基于确定速度。点域

6. 发明专利

JP2015230277A 応力計測システム及び応力計測方法审中-公开
标题翻译：应力测量系统和应力测量方法
公开(公告)号：JP2015230277A
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：JP2014117577
申请日：2014-06-06
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：大久保勇佐 , 春山朋彦
IPC分类号： G01L1/00
摘要：【課題】赤外線カメラにより得られたデータに基づいて測定対象物に発生する応力を計測するために、このデータから不要な成分を除去して、応力測定精度を向上させる。【解決手段】処理装置30は、赤外線カメラ21により得られた測定対象物の温度の時間変化を示す第1時系列データP1の処理を行う。この処理装置30は、第1時系列データP1をフーリエ変換処理して得た第1周波数データS1に対してフィルタ処理を行うことにより第2周波数データS2を生成する。この第2周波数データS2を逆フーリエ変換処理して得た第2時系列データP2を測定対象物に発生している応力を示す応力データに変換する。前記フィルタ処理では、幾何計算により求められた測定対象物に生じる応力発生頻度を示す基本周波数F0及びこの基本周波数F0の整数倍の高次周波数F1,F2それぞれに対応する周波数のデータが、第1周波数データS1から抽出される。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：为了提高测量精度，以便根据由红外摄像机通过从数据中去除不必要的组件而获得的数据来测量测量对象产生的应力。解决方案：处理器30执行处理通过红外线摄像机21获得的第一时间序列数据P1，并指示测量对象的温度的时间变化。处理器30通过对通过对第一时间序列数据P1应用傅里叶变换处理而获得的第一频率数据S1进行滤波处理来创建第二频率数据S2。通过反傅里叶变换处理从第二频率数据S2获得的第二时间序列数据P2被转换为指示在测量对象处产生的应力的应力数据。在滤波处理中，与通过几何计算得到的表示在测量对象产生的应力产生频率的基频F0相对应的频率的数据，也对应于通过几何计算的积分乘法的高次频率F1，F2 从第一频率数据S1导出基频F0。

7. 发明专利

JP5810728B2 電動パワーステアリング装置有权
公开(公告)号：JP5810728B2
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：JP2011174562
申请日：2011-08-10
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：春山朋彦 , 小林恒 , 小野▲崎▼ 徹 , 柴田英紀 , 齋藤明
IPC分类号： F16H1/32 , F16H55/08 , B62D5/04

8. 发明专利

JP2020148610A 潤滑剤の分布状態測定システム及び潤滑剤の分布状態測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020148610A
公开(公告)日：2020-09-17
申请号：JP2019046144
申请日：2019-03-13
申请人：株式会社豊田中央研究所 , 株式会社ジェイテクト
发明人：遠山護 , 大宮康裕 , 村田順司 , 春山朋彦
IPC分类号： G01B11/06 , G01N33/30 , G01M13/04
摘要：【課題】潤滑剤の分布状態を安定的に測定可能な潤滑剤の分布状態測定システム及び潤滑剤の分布状態測定方法を提供する。【解決手段】内輪及び外輪を備えて光を透過し、内輪及び前記外輪の間に励起光により蛍光を発光する量子ドットを分散させた潤滑剤を貯留する貯留部(35)を備えた転がり軸受部(玉軸受3A)と、転がり軸受部を回転させながら貯留部(35)に励起光を照射する照射部(1)と、貯留部(35)を撮影した撮影画像から量子ドットの蛍光強度を2次元測定する画像測定部(3)と、画像測定部により測定された蛍光強度に基づいて、回転する前記転がり軸受内部の潤滑剤の分布状態を導出する演算制御装置(7)と、を備えた潤滑剤の分布状態測定システム(100)。【選択図】図1

9. 发明专利

JP6540261B2 高速度撮像システム及び高速度撮像方法有权
公开(公告)号：JP6540261B2
公开(公告)日：2019-07-10
申请号：JP2015123230
申请日：2015-06-18
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：春山朋彦
IPC分类号： H04N5/235 , H04N5/238 , G01P3/36

10. 发明专利

JP6519313B2 転動体挙動解析方法及び転動体研磨方法有权
公开(公告)号：JP6519313B2
公开(公告)日：2019-05-29
申请号：JP2015103454
申请日：2015-05-21
申请人：株式会社ジェイテクト
发明人：楼黎明 , 春山朋彦
IPC分类号： B24B11/10 , G01B15/00

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