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    • 3. 发明专利
    • ガスバリア性フィルムの製造方法
    • 气体阻隔膜的制造方法
    • JP2016120460A
    • 2016-07-07
    • JP2014261816
    • 2014-12-25
    • 東レ株式会社
    • 森 健太郎朱峰 江美
    • B32B9/00B05D3/04B05D3/06B05D7/24
    • 【課題】 本発明は、高度なガスバリア性を有し、かつ耐屈曲性、密着性に優れたガスバリア性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、高分子基材の少なくとも片側に、無機層[A]とケイ素化合物層[B]とを前記高分子基材側からこの順に有するガスバリア性フィルムの製造方法であって、前記ケイ素化合物層[B]を設ける工程が、ポリシラザン骨格を持つケイ素化合物を含む塗液を塗布して塗膜を設ける工程[a]、前記塗膜を乾燥させる工程[b]、前記塗膜を加湿する工程[c]および前記塗膜に活性エネルギー線照射処理を施す工程[d]をこの順に有するガスバリア性フィルムの製造方法。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种具有高阻气性和优异的柔韧性和粘合性的阻气膜的制造方法。解决方案:一种阻气膜的制造方法,其具有无机层[A]和 在聚合物基材的至少一侧依次由聚合物基材侧形成的硅化合物层[B]包括形成硅化合物层[B]的方法,其中该方法依次具有方法[a] 通过涂布含有具有聚硅氮烷骨架的硅化合物的涂布液,干燥涂膜的方法[b],加湿涂膜的方法[c]和导电的方法[d]来形成涂膜 活性能量束照射到涂膜。选择图:图1