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    • 4. 发明专利
    • 樹脂組成物、硬化膜、積層フィルム、および半導体装置の製造方法
    • 树脂组合物,固化膜,层叠膜,以及半导体装置的制造方法
    • JPWO2014050878A1
    • 2016-08-22
    • JP2013555106
    • 2013-09-25
    • 東レ株式会社
    • 渡邉 拓生拓生 渡邉忠善 李忠善 李
    • C08L79/08C08G73/10C08K5/16C09J11/06C09J179/08H01B17/60
    • H01L21/6836B32B27/281B32B27/34B32B2457/14C08G73/1042C08G73/106C08G73/1082C08G77/455C08K5/05C08L61/24C08L61/28C08L61/32C08L79/08C09J7/00C09J179/08C09J183/10C09J2203/10C09J2203/326C09J2479/08H01L21/302Y10T428/31663
    • 【課題】180℃以下の低温で良好な粘着性を発現し、250℃以上の高温でも分解等による揮発分の発生が無く、また、熱処理工程を通過した後でも接着力の上昇が小さいため、基材の剥離時に室温で容易に剥離することができる高耐熱性の樹脂組成物と、これを用いた硬化膜および積層フィルムを提供すること。【解決手段】ポリイミド系樹脂およびメチロール系化合物を含有する樹脂組成物であって、前記ポリイミド系樹脂が酸二無水物残基およびジアミン残基を有し、前記ジアミン残基として、少なくとも一般式(1)で表されるポリシロキサン系ジアミンの残基および水酸基を有する芳香族ジアミンの残基を有することを特徴とする樹脂組成物と、これを用いた硬化物および積層フィルム。【化1】(nは自然数であって、ポリシロキサン系ジアミンの平均分子量から算出される平均値が5〜30の範囲である。R1およびR2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜30のアルキレン基またはフェニレン基を示す。R3〜R6は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜30のアルキル基、フェニル基またはフェノキシ基を示す。)【選択図】なし
    • A 180℃,表现出令人满意的粘合性在低温下的下方,没有在高温下至少250℃的由分解产生的挥发物,也可用于甚至经过热处理步骤之后增加粘合力小, 和树脂组合物的高耐热性可在室温下容易地剥离在基板的剥离是提供一种固化膜,并使用相同的叠层膜的时间。 本发明涉及一种包含聚酰亚胺树脂和羟甲基化合物的树脂组合物,聚酰亚胺树脂具有酸二酐残基和二胺残基,作为二胺残基,至少通式( 其特征在于具有具有残基和由1表示的聚硅氧烷二胺的羟基的芳族二胺的残基的树脂组合物)时,固化物及使用其的层叠膜。 ## STR1 ##(n是自然数,至30的平均值.R1和R2是在5〜其从基于聚硅氧烷的二胺的均分子量计算,其可以是相同或不同的碳原子 .R3〜R6表示1-30的亚烷基或亚苯基,其可以是相同或不同的碳原子数1〜30的每个的烷基。其中,苯基或苯氧基)装置技术领域