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    • 10. 发明专利
    • 半導体装置の製造方法
    • 制造半导体器件的方法
    • JP2015103582A
    • 2015-06-04
    • JP2013241309
    • 2013-11-21
    • 日東電工株式会社
    • 木村 雄大三隅 貞仁大西 謙司菅生 悠樹宍戸 雄一郎
    • H01L23/373H01L21/52
    • H01L24/27H01L24/83H01L2224/45144H01L2224/45147H01L2224/48091H01L2224/73265H01L2924/181
    • 【課題】 半導体ウエハに熱硬化型ダイボンドフィルムを貼り付き易くすることが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 【解決手段】 熱伝導率が12W/m・K以上の熱伝導性粒子を、熱硬化型ダイボンドフィルム全体に対して75重量%以上含有しており、熱硬化後の熱伝導率が1W/m・K以上であり80℃での溶融粘度が5000Pa・s以下である熱硬化型ダイボンドフィルムを準備する工程と、80℃以下の温度、且つ、1.0MPa以下の圧力で、熱硬化型ダイボンドフィルムと半導体ウェハの裏面とを貼り合わせる貼り合わせ工程とを含む半導体装置の製造方法。 【選択図】 図1
    • 要解决的问题:提供一种制造半导体器件的方法,该半导体器件允许热固性芯片接合膜容易地粘附到半导体晶片上。解决方案:一种制造半导体器件的方法包括以下步骤:制备热固性芯片接合膜, 包括热导率为12W / m·K以上的导热性粒子,占热固化型芯片接合膜的总重量的75重量%以上,其后热固化热导率为1W / m K以上,80℃以下的熔融粘度为5000Pa·s以下。 并且通过在1.0℃以下的压力下,在80℃以下的温度下将热固化型芯片接合薄膜与半导体晶片的背面接合而将热固化型芯片接合薄膜和半导体晶片结合在一起。