专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JPWO2016042835A1 液滴吐出装置およびノズル面の清掃方法有权
公开(公告)号：JPWO2016042835A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016548580
申请日：2015-05-11
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：井上　浩志 , 浩志井上 , 裕司又木 , 裕司又木 , 淳山野辺 , 淳山野辺
IPC分类号： B41J2/165
CPC分类号： B41J2/165
摘要：単位量当たりの液体を吸収する吸収時間が異なる拭取部材を用いた場合でも、ノズル面に付着した液体を拭き取った上で、ノズルから液滴が吐出されなくなる吐出不良を抑制することを目的とする。制御部は、単位量当たりの液体を拭取部材が吸収する吸収時間が短くなる程、拭取部材と液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる第一移動速度を上げ、かつ、拭取部材を移動させる第二移動速度を上げる。

2. 发明专利

JPWO2016047358A1 払拭部材、ノズル払拭ユニット、及び画像形成装置有权
公开(公告)号：JPWO2016047358A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016550057
申请日：2015-08-27
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：裕司又木 , 裕司又木 , 淳山野辺 , 淳山野辺 , 井上　浩志 , 浩志井上
IPC分类号： B41J2/165 , B41J2/01
CPC分类号： B41J2/16535 , B41J2/16538 , B41J2/16544 , B41J2/16552 , B41J2/16585 , B41J2/16588 , B41J29/38 , B41J2002/1655 , B41J2002/16558
摘要：メンテナンス直後の印刷時にスジが発生するのを抑制することができるノズル払拭シート、ノズル払拭ユニット、及び画像形成装置を提供する。液滴を吐出するノズルを備えた吐出ヘッド56Kのノズル面57Kを払拭する払拭部材120であって、払拭部材120へ洗浄液108を付与した後に、払拭部材120へ滴下した液滴の形状が、洗浄液108を付与してから40秒後の液滴の縦横比をRとしたときに以下の条件を満たす。R≧1.3

5. 发明专利

JP5334512B2 Pattern forming method 有权
公开(公告)号：JP5334512B2
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：JP2008244234
申请日：2008-09-24
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：裕司又木
IPC分类号： B05D3/00 , B05D1/26 , B41J2/01
CPC分类号： B41J2/2132
摘要： A pattern forming method includes the step of ejecting droplets of a liquid containing a functional component, from nozzles of an inkjet recording head onto a surface of a substrate in one direction in sequence so as to form a linear pattern on the surface of the substrate, wherein: the inkjet recording head is controlled in such a manner that p ≤ &pgr; ⁢ ⁢ d 6 ⁢ ( &thetas; sin 2 ⁢ &thetas; - cos ⁢ ⁢ &thetas; sin ⁢ ⁢ &thetas; ) ⁢ { tan ⁢ &thetas; 2 ⁢ ( 3 + tan 2 ⁢ &thetas; 2 ) } - 2 3 is satisfied where d denotes a diameter of the droplets of the liquid before depositing on the surface of the substrate, &thetas; denotes a contact angle of the droplets of the liquid with respect to the substrate, and p denotes a dot pitch of the droplets of the liquid that are adjacently deposited on the surface of the substrate, and the droplets of the liquid contain a volatile solvent with volume ratio not less than [ 1 - 6 ⁢ p ⁡ ( &thetas; sin 2 ⁢ &thetas; - cos ⁢ ⁢ &thetas; sin ⁢ ⁢ &thetas; ) ⁢ { tan ⁢ &thetas; 2 ⁢ ( 3 + tan 2 ⁢ &thetas; 2 ) } - 2 3 &pgr; ⁢ ⁢ d ] × 100 ⁢ % .

6. 发明专利

JP5283647B2 Pattern transfer method and pattern transfer apparatus 有权
公开(公告)号：JP5283647B2
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2010046804
申请日：2010-03-03
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：裕司又木
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , B81C99/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A method of performing pattern transfer includes the steps of: applying liquid to a substrate, while performing relative movement of the substrate and a liquid ejection head having a plurality of nozzles, by performing ejection and deposition of a plurality of droplets of the liquid from the nozzles onto the substrate in a state where a shape of each of the droplets upon the deposition is not a single circular shape and each of the droplets does not combine with adjacent another of the droplets on the substrate; and curing the liquid that has been applied to the substrate in the applying step while pressing a pattern forming surface of a stamper having a prescribed projection-recess pattern against the liquid.

9. 发明专利

JPWO2016047193A1 払拭機構、液滴吐出装置および払拭方法有权
公开(公告)号：JPWO2016047193A1
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2016549976
申请日：2015-05-11
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：淳山野辺 , 淳山野辺 , 裕司又木 , 裕司又木 , 井上　浩志 , 浩志井上
IPC分类号： B41J2/165 , B41J2/01
CPC分类号： B41J2/16535 , B05C5/00 , B05C11/10 , B41J2/01 , B41J2/16544 , B41J2/16552 , B41J2002/1655 , B41J2002/16558
摘要：ノズル面を払拭部材により払拭した際におけるノズルへの気泡の侵入を抑制しつつ、ノズル面に付着した液体を吸収する払拭部材の吸収容量を確保できる払拭機構、液滴吐出装置及び払拭方法を提供する。液滴を吐出する複数のノズルが形成されたノズル面78に対して一方の面200Aが接触し、一方の面200A側から他方の面200B側にかけて毛細管を形成する空隙Mを複数有し、複数の空隙Mは一方の面200A側に位置する空隙Mよりも他方の面200B側に位置する空隙Mが大きい払拭部材200により、ノズル面78を払拭する。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB