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    • 4. 发明专利
    • アクティブマトリックス基板
    • 主动矩阵基板
    • JP2015167189A
    • 2015-09-24
    • JP2014041547
    • 2014-03-04
    • 凸版印刷株式会社
    • 宮川 誠
    • H05B33/02H01L51/50
    • 【課題】有機EL素子自体の発光によるTFTの半導体層の劣化防止だけではなく、外光起因によるTFTの半導体層の劣化に対しても耐性のある有機EL表示素子に用いられるアクティブマトリックス基板を提供する。 【解決手段】ガラス基板上にパターン状に形成された画素電極と、画素電極と対向するように設けられた、カソード電極との間に、2次元状に配列された発光画素部と画素毎にTFT(薄膜トランジスタ)19が設けられたアクティブマトリックス基板であって、前記TFT(薄膜トランジスタ)の上部、側部、下部を取り囲むように遮光体6a〜6f、及び15を設けたアクティブマトリックス基板。 【選択図】図15
    • 要解决的问题:提供一种在有机EL显示装置中使用的有源矩阵基板,其不仅防止了由于有机EL元件本身的发光而导致的TFT的半导体层的劣化,而且还具有耐半导体的劣化 在有源矩阵基板中,将二维排列的发光像素部分和各像素的TFT(薄膜晶体管)19设置在形成为玻璃图案的像素电极之间 衬底和设置成面对像素电极的阴极电极。 遮光体6a-6f和15设置成围绕每个TFT(薄膜晶体管)的上部,侧部和下部。
    • 7. 发明专利
    • EL装置、および、EL装置の製造方法
    • EL器件,以及制造EL器件的方法
    • JP2015185574A
    • 2015-10-22
    • JP2014058232
    • 2014-03-20
    • 凸版印刷株式会社
    • 宮川 誠尾▲崎▼ 剛白嵜 友之松田 邦宏
    • H01L29/786H01L51/50H05B33/14G09F9/30H01L27/32G09F9/00G09G3/30G09G3/20H01L21/336
    • 【課題】制御欠陥の発生を抑えることの可能なEL装置、および、EL装置の製造方法を提供する。 【解決手段】前記薄膜トランジスタは、ゲート電極層と、半導体層の有する1つの面に接続する2つの端子電極層であって、チャンネル長方向における前記ゲート電極層の端部と前記半導体層を挟んで対向する前記端子電極層と、を備える。前記1つの面において前記チャンネル長方向に沿った前記端子電極層間の距離がチャンネル長であり、前記チャンネル長方向に沿った前記ゲート電極層の長さがゲート電極長であり、前記ゲート電極長と前記チャンネル長との差がチャンネル長/ゲート電極長差であり、前記保持トランジスタT2のチャンネル長/ゲート電極長差は、前記駆動トランジスタT1のチャンネル長/ゲート電極長差よりも大きい。 【選択図】図15
    • 要解决的问题:提供一种能够抑制控制缺陷的产生的EL器件,并提供一种制造EL器件的方法。解决方案:薄膜晶体管包括:栅极电极层; 以及两个端子电极层,其与包括在半导体层中的一个表面连接,并且在插入半导体层的同时在沟道长度方向上与栅极电极层的端部相对。 在一个表面上,在沟道长度方向上的端子电极层之间的距离是沟道长度,栅极电极层在沟道长度方向上的长度是栅电极长度。 栅电极长度和沟道长度之间的差是沟道长度/栅电极长度差。 保持晶体管T2的沟道长度/栅电极长度差大于驱动晶体管T1的沟道长度/栅电极长度差。