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    • 2. 发明专利
    • 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子及びその偏光素子を備えた表示装置
    • 用于制造极化元件的方法,通过该方法获得的极化元件和包括极化元件的显示装置
    • JP2015212819A
    • 2015-11-26
    • JP2015084482
    • 2015-04-16
    • 三菱化学株式会社
    • 利光 恵理子
    • G02F1/1335C08G59/20G02B5/30
    • 【課題】塗布欠陥がなく、均質な偏光層を容易にパターニングすることができ、偏光層形成後の製造工程で用いられる水や溶剤の影響を受けない偏光素子の製造方法を提供することにある。 【解決手段】 以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法により解決する。 (I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布し、偏光層を形成し、次いで前記偏光層上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。 (II)露光及び現像液による現像により、偏光層及び保護層をパターニングする工程。 (III)前記パターニングされた保護層を、加熱によりメルトフローさせる工程。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种制造偏光元件的方法,通过该方法可以容易地构图不含涂层缺陷的均匀偏振层,并且防止在形成偏振层之后的制造过程中使用的水或溶剂的影响。 解决方案:用于制造包括衬底,偏振层和保护层的偏振元件的方法包括以下步骤:(I)通过在衬底上连续施加用于形成偏振层的组合物并随后形成偏振层的步骤 通过连续施加感光性树脂组合物在偏振层上形成保护层; (II)通过用显影剂曝光和显影来图案化偏振层和保护层的步骤; 和(III)加热图案化保护层以熔化和流动的步骤。
    • 5. 发明专利
    • 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子及びその偏光素子を備えた表示装置
    • 用于制造极化元件的方法,使用该方法获得的极化元件和包括极化元件的显示装置
    • JP2016035553A
    • 2016-03-17
    • JP2015059748
    • 2015-03-23
    • 三菱化学株式会社
    • 内田 直幸利光 恵理子
    • H05B33/02H01L51/50C09B67/22G02F1/1335G02B5/30
    • 【課題】基板上に複数の偏光層をパターニングする簡易な方法を提供することである。また、前記方法で得られた偏光層が、寸法精度に優れ、塗布欠陥のない均一な膜となる方法を提供することである。 【解決手段】以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法により解決する。 以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法。 (I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。 (II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する 工程。 (III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。 【選択図】図2
    • 要解决的问题:提供一种用于在基板上图案化多个偏振层的简单方法,并提供一种获得通过上述方法获得的偏振层中的尺寸精度优异和无涂层缺陷的均匀膜的方法。 提供一种用于制造包括基板,偏振层和保护层的偏振元件的方法,其包括以下步骤:(I)在基板上连续施加用于形成偏振层的组合物以形成偏振层 ,然后通过盐交换使偏振层不溶解; (II)将感光性树脂组合物涂布在不溶解的偏振层上形成保护层; 和(III)在保护层上设置掩模以暴露层并用碱溶液显影层以图案化保护层和不溶性偏振层。选择图:图2
    • 6. 发明专利
    • 光学素子の製造方法
    • 制造光学元件的方法
    • JP2016035562A
    • 2016-03-17
    • JP2015144891
    • 2015-07-22
    • 三菱化学株式会社
    • 利光 恵理子
    • G03F7/00B05D1/36B05D5/06B05D7/00G02B5/30
    • 【課題】塗布欠陥がなく、均質な異方性を有する光学膜を容易にパターニングすることができ、異方性を有する光学膜形成後の製造工程で用いられる水や溶剤の影響を受けない光学素子の製造方法を提供する。 【解決手段】以下の工程を有する、基板、異方性を有する光学膜及び保護層を含む光学素子の製造方法である。(I)基板に異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布して異方性を有する光学膜を形成し、次いで前記異方性を有する光学膜を塩交換によって不溶化処理する工程。(II)不溶化処理した異方性を有する光学膜上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。(III)露光及び現像液による現像により、前記保護層をパターニングする工程。(IV)保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、酸性水溶液又はアルカリ性水溶液に接触後、水洗する工程。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种用于制造光学元件的方法,通过该方法可以容易地构图具有均匀各向异性和无涂层缺陷的光学膜,并且各向异性光学膜不受水或溶剂之后的制造过程中使用的溶剂的影响 提供了一种光学膜的制造方法。提供了一种用于制造包括基板,各向异性光学膜和保护层的光学元件的方法,其包括以下步骤:(I)连续施加用于形成各向异性光学膜的组合物 在基板上形成各向异性光学膜,然后通过盐交换使各向异性光学膜不溶解; (II)在不溶性各向异性光学膜上连续施加感光性树脂组合物以形成保护层; (III)通过用显影剂曝光和显影来图案化保护层; 和(IV)使各向异性光学膜通过显影除去保护层的暴露部分与酸性水溶液或碱性水溶液接触,然后冲洗光学膜。图1
    • 8. 发明专利
    • 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子及びその偏光素子を備えた表示装置
    • ,使用该方法获得的一种制造偏光元件的方法具备偏光元件和偏振元件的显示装置
    • JP5811296B1
    • 2015-11-11
    • JP2015059748
    • 2015-03-23
    • 三菱化学株式会社
    • 内田 直幸利光 恵理子
    • H05B33/02H01L51/50C09B67/22G02F1/1335G02B5/30
    • 【課題】基板上に複数の偏光層をパターニングする簡易な方法を提供することである。また、前記方法で得られた偏光層が、寸法精度に優れ、塗布欠陥のない均一な膜となる方法を提供することである。 【解決手段】以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法により解決する。 以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法。 (I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。 (II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する 工程。 (III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。 【選択図】図2
    • 公开的是提供在衬底上图案化多个偏振层的简单方法。 另外,通过上述方法,高尺寸精度获得的偏振层,是提供为从涂布缺陷均匀的膜的方法。 A具有以下步骤,以解决该基板,用于生产包括偏振层和保护层的偏振元件的方法。 具有以下步骤,基板,偏振层及制造包括所述保护层的偏振元件的方法。 (I)的偏振层形成用组合物到基底上连续涂覆形成的偏振层,然后一个不溶解的盐交换的偏振层的步骤。 (II)到不溶解处理的偏振层,形成涂布的感光性树脂组合物的保护层。 (III)的掩模通过曝光在保护层上,通过使用碱溶液,所述保护层和图案化所述偏振层的不溶化处理的步骤进行显影提供。 .The