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1. 发明专利

JP2016156745A 計測方法および計測装置审中-公开
标题翻译：测量方法和测量装置
公开(公告)号：JP2016156745A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：JP2015035776
申请日：2015-02-25
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴 , 畑田晃宏 , 齊藤優彦
IPC分类号： G01B11/02 , G01B11/24
摘要：【課題】物体の形状に関する情報を算出する際の調整の簡易化、または計測時間の短縮に有利な計測方法を提供する。【解決手段】この計測方法は、撮像素子を用いて物体を撮像して得られた画像に基づいて物体の形状に関する情報を算出するものであり、物体の設計情報を取得する取得工程S101と、取得工程S101で取得された設計情報から特定した物体のフォーカス方向の計測位置に、撮像素子を含む光学系のフォーカス位置を設定する設定工程S102と、設定工程S102で設定されたフォーカス位置で物体を撮像する撮像工程S104と、撮像工程S104で撮像された画像に基づいて物体の形状に関する情報を算出する算出工程S107とを含む。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种有利于在计算与物体的形状有关的信息时简化调整或有利于减少测量时间的测量方法。解决方案：该测量方法被设计为计算与物体的形状有关的信息基于通过使用图像捕获元件捕获对象的图像而获得的图像的方法，所述方法包括：获取步骤S101，用于获取对象的设计信息; 设置步骤S102，用于将包括图像拍摄元件的光学系统的对焦位置设置为从在获取步骤S101中获取的设计信息指定的对象的聚焦方向上的测量位置; 用于捕获在设置步骤S102中设置的对焦位置处的对象的图像的图像拍摄步骤S104; 以及计算步骤S107，用于基于在图像捕获步骤S104中捕获的图像来计算与物体的形状有关的信息。选择的图示：图2

2. 发明专利

JP2017053671A 形状測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017053671A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015176411
申请日：2015-09-08
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G06T7/60 , H04N5/232 , G06T2207/30164
摘要：【課題】測定精度の点で有利な測定方法を提供する。【解決手段】被測定物の形状を測定する測定方法は、光が照射された被測定物を撮像して得られた画像データを取得し被測定物の輪郭形状を測定する測定工程と、測定工程で取得した画像データの外周部に被測定物が存在するか否かを判定する判定工程と、判定工程において、画像データの外周部に被測定物が存在すると判断された場合に、測定領域を変更して測定工程を行って取得した画像データと変更前に取得した画像データとを繋ぎ合せて合成画像データを得る合成工程とを有する。合成画像データについて判定工程を行い、合成画像データの外周部に被測定物が存在しないと判断されるまで合成工程と判定工程とを繰り返す。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2017003469A 三次元計測装置、三次元計測装置の制御方法及びプログラム审中-公开
标题翻译：三维测量设备中，三维测量设备的控制方法和程序
公开(公告)号：JP2017003469A
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2015118605
申请日：2015-06-11
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G06T1/00 , G06T5/50 , G01B11/25
CPC分类号： G01B11/25 , G06T5/50 , G06T7/521 , G06T2207/10144 , G06T2207/20216
摘要：【課題】被検物の三次元形状を高速且つ高精度に計測する。【解決手段】パターンが投影された被検物を撮影して得られた画像に基づいて被検物の三次元形状を計測する三次元計測装置であって、第1の撮影条件及び第2の撮影条件でそれぞれ取得された前被検物の第1の画像及び第2の画像を、パターンを投影するための光源による単位時間当たりの露光量及び当該露光量に対応する輝度値の大小関係が、第1の画像及び第2の画像の間で保持されるように合成する合成部と、合成部により合成された画像に基づいて被検物の三次元形状を計測する計測部とを備える。【選択図】図2
摘要翻译：以高速和高精度地测量所述测试对象的三维形状。一个模式是用于测量基于通过拍摄投影的试样，第一成像条件和第二所获得的图像上的检查对象的三维形状的三维测量装置第一图像和获得的分别拍摄条件之前的对象的第二图像，对应于由光源的曝光量和每单位时间的曝光量用于投影图案的亮度值之间的大小关系包括组合单元，用于组合要由合成单元和测量单元，用于测量测试对象的三维形状被保持在第一和第二图像之间，在合成图像上为主。 .The

4. 发明专利

JP2018077089A 認識装置、決定方法、および物品製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018077089A
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：JP2016218160
申请日：2016-11-08
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G06T7/60 , G01B11/26 , G01B11/00
CPC分类号： G06T7/74 , G06K9/2036 , G06K9/6203 , G06K9/64 , G06K2209/19
摘要：【課題】認識される物体の照明および撮像のうち少なくとも一方の条件の決定に有利な認識装置を提供する。【解決手段】物体4の位置および姿勢のうち少なくとも一方を認識する認識装置は、物体の照明を行い、照明を行われた物体の撮像を行って物体の画像データを取得する取得部(1〜3、5、6)と、画像データと、当該少なくとも一方に関する基準データとの間の相関度としての第1相関度に基づいて、当該少なくとも一方を取得する処理部7と、を有する。処理部は、画像データと基準データとの間の相関度としての第2相関度に基づいて、照明および撮像のうち少なくとも一方の条件を決定する。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2016186469A 情報処理装置、情報処理方法、プログラム审中-公开
标题翻译：信息处理设备，信息处理方法和程序
公开(公告)号：JP2016186469A
公开(公告)日：2016-10-27
申请号：JP2015067067
申请日：2015-03-27
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴 , 吉井裕人 , 吉川博志 , 内山晋二
IPC分类号： B25J19/04 , G01B11/00
CPC分类号： H04N7/183 , B25J9/1697 , G06K9/00201 , G06K9/00664 , G06T7/001 , G06T7/254 , G06T7/521 , G05B2219/37555 , G05B2219/40053 , G06T2207/30164 , Y10S901/47
摘要：【課題】ワークの位置・姿勢の高さ方向の変化も検出する情報処理装置を提供する。【解決手段】明部の領域と暗部の領域とを含む複数のパターンを、複数の対象物体が配置された空間に順次投影し、複数のパターンを順次投影している間に撮像された複数の画像のうちの第1の画像における、第1のパターンの明部の領域と暗部の領域の境界位置に対応する第1の位置を検出し、保持手段9が保持可能な物体を決定し、決定された物体を保持手段に保持させ、保持手段による保持の後に、第1のパターンを投影手段に投影させ、保持手段による保持の後に第1のパターンが投影された状態で画像を取得し、第1のパターンの明部の領域と暗部の領域の境界位置に対応する第2の位置を検出し、第1の位置と前記第2の位置とを比較することにより、空間の中で、対象物体の配置の状態が変化した変化領域を検出する情報処理装置7。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种信息处理装置，其检测工件的高度方向上的位置和姿态的变化。解决方案：信息处理装置7顺序地突出包括亮部分区域和暗部分区域的多个图案在多个目标对象被布置的空间中; 检测在多个图案的顺序投影期间拍摄的多个图像的第一图像中的对应于第一图案的亮部区域和暗部区域之间的边界位置的第一位置; 确定由保持装置9保持的物体，并使保持装置保持所确定的物体; 使投影装置在保持装置保持之后投影第一图案; 当通过保持装置保持之后投影第一图案时获取图像; 检测与第一图案的亮部区域和暗部区域之间的边界位置对应的第二位置; 并且将第一位置与第二位置进行比较，以检测目标对象的排列状态已经改变的空间中的改变区域。图1

6. 发明专利

JP2015175642A 計測装置、および物品の製造方法审中-公开
标题翻译：测量装置和制造方法
公开(公告)号：JP2015175642A
公开(公告)日：2015-10-05
申请号：JP2014050532
申请日：2014-03-13
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G01B11/25
CPC分类号： G01B11/2513 , G01B11/2527 , G02B26/0808 , G02B27/0944 , G02B27/28 , G02B27/4205 , G02B5/3083 , G02F1/1313
摘要：【課題】パターン投影法を用いて被検物の形状を計測する計測装置において、装置の小型化および高精度な計測を実現する上で有利な技術を提供する。【解決手段】被検物の形状を計測する計測装置10は、パターン光を射出する射出部2と、射出部2から射出されたパターン光を被検物1に導くための光学系3と、光学系3と被検物1との間に配置され、光学系3から射出されたパターン光を偏向する偏向部4と、被検物1を光学系3および偏向部4を介して撮像する撮像部5と、撮像部5により撮像された被検物1の画像に基づいて被検物1の形状を決定する処理部7と、を含み、偏向部4は、光学系3から射出されたパターン光を回折させる回折格子4aを有する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：在用于使用图案投影法测量待检查物体的形状的测量装置中，提供有利于减小装置尺寸并实现高精度测量的技术。解决方案：测量装置用于测量待检查物体的形状的装置10包括：用于发射图案光的发射部分2; 用于将从发射部分2发射的图案光引导到待检查物体1的光学系统3; 设置在光学系统3和待检查物体1之间的偏转部分4，并且用于偏转从光学系统3发射的图案光; 用于通过光学系统3和偏转部分4对待检查物体1成像的成像部分5; 以及用于基于由成像部件5成像的被检查物体1的图像来确定被检查物体1的形状的处理部分7.偏转部分4包括用于衍射图案光的衍射光栅4a 从光学系统3发射。

7. 发明专利

JP6548422B2 情報処理装置、情報処理方法、プログラム有权
公开(公告)号：JP6548422B2
公开(公告)日：2019-07-24
申请号：JP2015067067
申请日：2015-03-27
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴 , 吉井裕人 , 吉川博志 , 内山晋二
IPC分类号： G01B11/25 , B25J19/04 , G01B11/00

8. 发明专利

JP2017053670A 被測定物の位置姿勢測定方法有权
公开(公告)号：JP2017053670A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015176410
申请日：2015-09-08
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G01B11/24
摘要：【課題】被測定物の位置および姿勢の測定効率の点で有利な位置姿勢測定方法を提供する。【解決手段】測定方法は、光が照射された被測定物を撮像して得られる画像データに基づく形状測定データを取得する測定工程と、測定工程で取得した形状測定データと、事前に取得した被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する判定工程と、相関度が所定の閾値を超えると判定された場合に、測定工程で取得した形状測定データを用いて被測定物の位置および姿勢を求める工程と、を有する。相関度が所定の閾値を超えないと判定された場合、被測定物の測定領域を変更して形状測定データを取得し、測定領域の変更前に得られた形状測定データと測定領域の変更後に得られた形状測定データとを合わせた形状測定データと、事前に取得した被測定物の形状情報との相関度が所定の閾値を超えるか否かを判定する。【選択図】図2

9. 发明专利

JP6566737B2 情報処理装置、情報処理方法、プログラム有权
公开(公告)号：JP6566737B2
公开(公告)日：2019-08-28
申请号：JP2015123161
申请日：2015-06-18
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G01C3/06 , G01B11/25

10. 发明专利

JP6460944B2 被測定物の位置姿勢測定方法有权
公开(公告)号：JP6460944B2
公开(公告)日：2019-01-30
申请号：JP2015176410
申请日：2015-09-08
申请人：キヤノン株式会社
发明人：中島匡貴
IPC分类号： G01B11/24

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