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1. 发明专利

JP2014529043A 減衰装置有权
标题翻译：减震装置
公开(公告)号：JP2014529043A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2014523297
申请日：2012-07-30
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：マルクス　ハウフ , ハウフマルクス
IPC分类号： F16F15/02 , F16F15/023 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： F16F7/1011 , G03F7/709
摘要：本発明は、システム、特にマイクロリソグラフィック投影露光装置における素子の振動エネルギーを消散させる減衰装置であって、減衰装置は安定な装着手段により素子( 110、 210、 310、 410、 510、 610、 710)に対して装着された振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)を具えており、減衰装置では、振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)が素子内に存在する空洞内に配置されているとともに、空洞内に存在する流体(120、 220、 320、 420、 520、 620、 720)により少なくとも部分的に囲まれており、振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)により質量‐ばねシステムが形成され、質量‐ばねシステムは、振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)の連結点に存在する素子( 110、 210、 310、 410、 510、 610、 710)の振動の並進運動成分を減衰させるようになっており、安定な装着手段は、電気的に制御しうる又は電界或いは磁界を介して制御しうるレオロジー流体で形成されている、減衰装置に関するものである。
摘要翻译：本发明是一个系统，特别是阻尼装置用于通过所述减震装置耗散元件的振动能量在微光刻投射曝光设备，装置稳定的安装装置（110，210，310，410，510，610，710 其连接到振动吸收质量）（115，215，315，415，515，615，715），其包括，在该缓冲装置，振动吸收质量（115，215，315，415，515， 615，715）一起被布置在存在于装置中的空腔中，通过流体存在于空腔（120，220，320，420，520，620，720）至少部分地包围，由质量振动吸收质量（115，215，315，415，515，615，715） - 弹簧系统形成，所述质量 - 弹簧系统中，振动吸收质量（115，215，315，415，515，615 中，存在于连接点715）的元件（110，210，310，410，510，610，710）适于振动的平移运动分量，以衰减，稳定的安装装置被电控，并且可以或电场或可控制经由磁场通过流变流体形成，涉及一种阻尼装置。

2. 发明专利

JP5524067B2 Temperature control device of the optical element 有权
公开(公告)号：JP5524067B2
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：JP2010528303
申请日：2008-10-07
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ハウフマルクス
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/10 , G02B7/182 , G03F7/20 , H01L23/34 , H01L23/38
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B5/08 , G02B5/0891 , G02B7/008 , G02B7/1815 , G03B27/26 , G03F7/70008 , G03F7/70825 , G05D23/1919 , G21K1/067 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

3. 发明专利

JP2016540247A 光学装置用支持装置、光学装置及びリソグラフィーシステム审中-公开
标题翻译：一种光学器件的支撑装置，光学装置和光刻系统
公开(公告)号：JP2016540247A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2016534645
申请日：2014-10-14
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ベイティンガーヘンナー , ベイティンガーヘンナー , マルクス　ハウフ , ハウフマルクス
IPC分类号： G02B7/192 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/181 , G02B26/0816 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要：光学装置(600)用の支持装置(100)を開示し、この支持装置は、第1及び第2支持要素(102,104)と、第1及び第2たわみ軸受(110,112)とを具え、第1及び第2たわみ軸受(110,112)のそれぞれは、第1及び第2支持要素(102,104)を互いに熱伝導性の様式で接続して、第1支持要素(102)を第2支持要素(104)に対して第1方向(x)に可動な様式で保持し、第1支持要素(102)が第2支持要素(104)に対して第1方向(x)に移動する間に、第1及び第2たわみ軸受(110,112)が発生するバネ力(F110,F112)は、部分的に、または完全に互いを無効にし合う。
摘要翻译：公开了一种支撑装置用于光学器件（600）（100），所述支撑装置包括第一和第二支撑元件（102，104），和一个包括第一和第二挠曲件轴承（110，112），所述第一和每个所述第二挠曲轴承（110，112）中，由第一和第二支承元件的连接（102,104）的热传导的方式彼此，相对于第一支撑元件（102）第二支撑元件（104）在可移动的方式在第一方向（x）碲保持，第一支撑元件（102）在第一方向（x）相对于所述第二支撑元件（104），第一和第二移动之间弹簧力偏转轴承（110，112）被产生（F110，F 112）被部分地或完全禁用相互彼此。

4. 发明专利

JP2016517535A 光学系の少なくとも１つの素子を作動させる構成体有权
标题翻译：用于光学系统的至少一个元件操作结构
公开(公告)号：JP2016517535A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：JP2015562005
申请日：2014-02-24
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：マルクス　ハウフ , ハウフマルクス , ラッツェルマーティン , ラッツェルマーティン , ジョアンビュイエドウィン , ジョアンビュイエドウィン
IPC分类号： G02B7/198 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B5/09 , G02B7/1815 , G02B7/1822 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7015
摘要：本発明は、光学系の少なくとも1つの素子を作動させる構成体であって、相互に異なる少なくとも2つの傾斜軸(A1、A2)に関して素子(101)を傾斜させる第1作動ユニット及び第2作動ユニットを有し、第1作動ユニット及び第2作動ユニットはそれぞれ、素子(101)によって画定された領域外に配置されたフレクシャユニット(320)を有し、これらのフレクシャユニット(320)はそれぞれ、第1回転軸(R1)に関して回転可能な第1屈曲要素(321)及び第2回転軸(R2)に関して回転可能な第2屈曲要素(322)を有し、フレクシャユニット(320)のそれぞれについて、2つの関連する回転軸(R1、R2)が、光学素子(101)に関与するフレクシャユニット(320)の仮想接続点(G31)で交差し、この仮想接続点(G31)は、素子(101)によって画定された領域に配置されて素子(101)の回転点を定める構成体に関する。【選択図】図3
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学系统的所述至少一个元件相对于操作时，从彼此至少两个倾斜轴（A1，A2）不同于第一操作单元和第二操作单元倾斜所述装置的结构（101）分别具有第一操作单元和第二操作单元由（320）具有位于所限定的区域之外的设备（101）的弯曲部，这些弯曲部（320），分别具有第二弯曲元件是可转动的（322）相对于所述第一弯曲元件可相对于所述第一旋转轴（R1）（321）和所述第二旋转轴（R2），分别弯曲部（320）为，两个相关的旋转轴（R1，R2）在（320）所涉及的光学元件（101）弯曲单元（G31），虚拟连接点（G31）中，元素的虚拟连接点相交通过把设置在限定所述元件（101）的旋转点定义的区域结构（101）。点域

5. 发明专利

JP2013541829A Multi-facet mirror of the microlithography projection exposure apparatus 有权
公开(公告)号：JP2013541829A
公开(公告)日：2013-11-14
申请号：JP2013525144
申请日：2010-08-25
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ラッセルトルステン , ハウフマルクス
IPC分类号： H01L21/027 , G02B7/198 , G02B26/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B26/0816 , G03F7/70075 , G03F7/70141 , G03F7/70825
摘要：マイクロリソグラフィ投影露光装置のマルチファセットミラー（２６）は、複数のミラーファセットユニットを備える。各ユニットは、本体（４０）、本体（４０）の一端に設けた反射コーティング（４４）、及び反対端に設けた作動面（５０）を備えたミラー部材（３２）を備える。ユニットは、ミラー部材（３２）の非運動時に作動面（５０）が載る静止部材（７０）と、ミラー部材を傾斜軸（５２）に対して傾斜させるよう構成したアクチュエータ（７２）とをさらに備える。アクチュエータは、接触面（８０）と、昇降方向（Ｚ）に沿って作動面を動かすよう構成した昇降部材（７４）とを有する。昇降部材の第１動作状態では、作動面が静止部材に載り、第２動作状態では接触面に載る。変位部材（７６、７８）が、昇降部材が第２動作状態にある間だけ横方向に沿って接触面を変位させる。
【選択図】図３

7. 发明专利

JP2016513292A 光学結像装置のモデルベース制御审中-公开
标题翻译：该光学成像装置的基于模型的控制
公开(公告)号：JP2016513292A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：JP2015559512
申请日：2014-02-28
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：マルクス　ハウフ , ハウフマルクス , ローゼンヘーファーゲラルト , ローゼンヘーファーゲラルト
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B7/008 , G02B7/028 , G03F7/705 , G03F7/70891
摘要：本発明は、特にマイクロリソグラフィー用に設計された結像装置の制御部(108)への入力変数の実際入力値を決定する方法に関するものであり、この入力値は光学結像装置(101)の第1位置に割り当てられ、検出ステップ(112.9)では、結像装置の少なくとも1つの検出装置(110.6)の検出変数の少なくとも1つの実際検出値を第2位置において検出し、決定ステップ(112.3)では、入力変数の実際入力値を、少なくとも1つの実際検出値及び事前に規定可能な第1関係(111.3)を用いて決定する。決定ステップ(112.3)の第1計算ステップ(112.10)では、検出装置(110.6)の第2位置における検出変数の実際計算値を、第2関係(111.4)を用いた計算で確定する。次に、決定ステップ(112.3)の比較ステップ(112.11)では、検出変数の実際計算値を、検出変数の実際検出値と比較する。次に、決定ステップ(112.3)の修正ステップ(112.13)では、第1関係(111.3)の修正を、比較ステップ(112.11)の結果の関数として、第1関係(111.3)と第2関係(111.4)との相互関係を用いて実行する。最後に、決定ステップ(112.3)の修正ステップ(112.13)に後続する第2計算ステップ(112.5)では、入力変数の実際入力値を、第1関係(111.3)を用いて計算する。
摘要翻译：本发明特别涉及一种用于确定设计的用于微光刻至（108）的成像设备的控制单元的输入变量的实际输入值的方法，所述输入值光学成像装置（101）分配给所述第一位置时，所述检测步骤（112.9），在第二位置检测到的成像设备（110.6）的所述至少一个检测器的检测变量中的至少一个的实际检测值，在判定步骤（112.3）输入变量的实际输入值被确定使用至少一个实际测量值和预第一关系可以定义（111.3）。在确定步骤（112.3）（112.10），在所述检测装置（110.6）的第二位置检测到的变量的实际计算值，使用所述第二关系（111.4）通过计算确定的第一计算步骤。接着，比较在所述确定步骤（112.3），检测变量的实际计算值，与所述检测变量的实际检测值进行比较的步骤（112.11）。接着，在校正确定步骤（112.3）（112.13），所述第一关系（111.3）的变形例，作为比较步骤（112.11），第一关系（111.3）和第二关系的结果的函数的步骤（111.4）它执行使用与相互关系。最后，在所述第二计算步骤中，以确定步骤（112.3）的校正步骤（112.13）（112.5），输入变量的实际输入值，使用所述第一关系（111.3）计算之后。

8. 发明专利

JP2015512154A 渦電流ブレーキ付きリソグラフィ装置有权
标题翻译：涡流制动器用的光刻设备
公开(公告)号：JP2015512154A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：JP2014556960
申请日：2013-02-19
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ヴォグラーアレクサンダー , ヴォグラーアレクサンダー , マルクス　ハウフ , ハウフマルクス
IPC分类号： H01L21/027 , G02B7/198 , G03F7/20
CPC分类号： H02K49/04 , G03F7/70258 , G03F7/70766 , G03F7/70825 , G03F7/709 , H02K49/10
摘要：リソグラフィ装置(10)が、このリソグラフィ装置(10)の構造要素(13)の動きを減衰させるための渦電流ブレーキ(30,70)を含む。渦電流ブレーキ(30,70)は、弧状配列の形に配置された複数の磁石、及び各々が隣接する磁石間のそれぞれに配置された複数の導電シート(35,67)を含む。減衰される方向の、磁石と導電シートとの間の相対運動が、導電シート内に渦電流を誘導する。
摘要翻译：一种光刻设备（10）包括用于阻尼光刻设备（10）的结构件（13）的运动的涡流制动器（30，70）。涡流制动器（30，70）包括多个设置在弧形阵列的形状的磁体，以及多个分别设置在每个相邻的磁体导电片（35,67）组成。方向被衰减，所述磁体和所述导电片之间的相对运动，以诱导涡流在导电片。

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