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1. 发明专利

JP2018501094A 有機還元剤による担持されたオレフィンメタセシス触媒の活性化审中-公开
公开(公告)号：JP2018501094A
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：JP2017532964
申请日：2015-12-15
申请人：エー・テー・ハー・チューリッヒ , ETH ZUERICH , 国立大学法人大阪大学
发明人：クリストフコペレ , ビクトルムジェル , 真島和志 , 劒隼人 , 長江春樹
IPC分类号： B01J37/16 , B01J23/28 , B01J23/30 , B01J23/36 , B01J31/22 , C07C6/04 , C07C11/02 , C07C13/02 , C07C15/54 , C07C67/30 , C07C69/593 , C07C69/74
CPC分类号： B01J31/1608 , B01J23/28 , B01J23/30 , B01J23/36 , B01J27/04 , B01J27/0573 , B01J31/0204 , B01J31/0242 , B01J31/0274 , B01J31/0275 , B01J31/1625 , B01J31/2265 , B01J31/4015 , B01J37/16 , B01J2231/543 , B01J2531/64 , B01J2531/66 , C07C6/04 , C07C6/06 , C07C67/333 , C07C67/465 , C07C67/475 , C07C2521/08 , C07C2523/30 , C07C2531/22 , C07C2601/10 , Y02P20/584 , C07C11/08 , C07C11/02 , C07C69/593 , C07C69/533 , C07C69/74
摘要：有機還元剤、特に、EがS及び/又はSeであるMOnEm型の、特にMOn型の担持された触媒を活性化することに適する有機シリコン還元剤であって、Mは、W、Mo、又はReである、有機還元剤、並びにそのメタセシス反応における使用を記載する。還元された触媒は、低温でオレフィンをメタセシス反応させることができ、したがって、官能化オレフィンのメタセシスにも適している。【選択図】図1

3. 发明专利

JP6329067B2 還元剤およびそれを用いた金属の製造方法有权
公开(公告)号：JP6329067B2
公开(公告)日：2018-05-23
申请号：JP2014266775
申请日：2014-12-26
申请人：トヨタ自動車株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：永田直人 , 真島和志 , 劒隼人 , 百合野大雅 , 齊藤輝彦 , 棚橋宏将 , 西山悠 , 川北健人
IPC分类号： B22F9/24

4. 发明专利

JP2015073959A 排ガス浄化用助触媒及びその製造方法有权
标题翻译：用于净化排气的促进剂及其生产方法
公开(公告)号：JP2015073959A
公开(公告)日：2015-04-20
申请号：JP2013212831
申请日：2013-10-10
申请人：トヨタ自動車株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：永田直人 , 小野公靖 , 真島和志 , 劒隼人 , 田中真司 , 戸谷希美
IPC分类号： B01J35/02 , B01D53/94 , F01N3/10 , B01J23/76
摘要：【課題】酸素吸放出材を含む排ガス浄化用助触媒であって、その酸素吸放出能がより改善された排ガス浄化用助触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】銅とセリウムの複合酸化物を該複合酸化物とは異なる金属酸化物に担持してなり、前記複合酸化物の平均粒径が0nm超20nm以下であることを特徴とする排ガス浄化用助触媒が提供される。銅−セリウム多核錯体と、該銅−セリウム多核錯体を溶解するための有機溶媒と、金属酸化物とを含有する混合溶液を調製する工程、並びに前記混合溶液を乾燥させ、得られた生成物を焼成する工程を含むことを特徴とする排ガス浄化用助触媒の製造方法がさらに提供される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种净化排气的促进剂，其包括具有改善的氧吸收/解吸能力的氧吸收/解吸材料，并提供其制造方法。解决方案：用于净化废气的促进剂通过在不同于复合氧化物的金属氧化物上负载铜和铈的复合氧化物，其特征在于复合氧化物的平均粒径大于0nm和20nm以下。制造排气净化促进剂的方法包括：制备含有铜 - 铈多核配合物的混合溶液，用于溶解铜 - 铈多核络合物的有机溶剂和金属氧化物的步骤; 以及干燥混合溶液并烧制所得产物的步骤。

5. 发明专利

JPWO2019168135A1 第四周期遷移金属錯体を触媒とするN,N−ジアルキルアミド化合物からエステル化合物に変換する方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019168135A1
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：JP2019007961
申请日：2019-02-28
申请人：高砂香料工業株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：真島和志 , 長江春樹 , 平井崇裕 , 加藤大樹 , 相馬秀成 , 明比慎也 , 秋山翔子 , 松村和彦 , 松嶋義正
IPC分类号： C07C69/76 , C07C67/03 , B01J31/24 , B01J31/22 , C07C67/20
摘要：本発明は、第四周期遷移金属を有するプレカーサー及び、含窒素化合物又は含リン化合物を反応させることにより得られる第四周期遷移金属錯体を触媒として用いる、N,N−ジアルキルアミド化合物をエステル化合物へ変換する方法に関する。

6. 发明专利

JP2020138938A ジボロン誘導体を用いたアニリン化合物の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020138938A
公开(公告)日：2020-09-03
申请号：JP2019036513
申请日：2019-02-28
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 国立大学法人大阪大学
发明人：中島裕美子 , 佐藤一彦 , 真島和志 , 劒隼人 , 細谷広務 , ミザルカストロルイスカルロス
IPC分类号： C07C211/46 , C07C209/36
摘要：【課題】中性条件下で、芳香族ニトロ化合物を還元してアニリン化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】芳香族ニトロ化合物を還元してアニリン化合物を生成する還元工程を含むアニリン化合物の製造方法であって、該還元工程において、ジボロン酸エステル化合物、並びに、置換若しくは無置換の、ピリジン化合物、ピラジン化合物、ビピリジン化合物及びフェナントロリン化合物からなる群より選択される少なくとも1種の含窒素複素環式化合物を用いることを特徴とする、アニリン化合物の製造方法。【選択図】なし

7. 发明专利

JP6042783B2 排ガス浄化用助触媒の製造方法有权
标题翻译：制造的方法艾滋病废气净化催化剂
公开(公告)号：JP6042783B2
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2013212831
申请日：2013-10-10
申请人：トヨタ自動車株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：永田直人 , 小野公靖 , 真島和志 , 劒隼人 , 田中真司 , 戸谷希美
IPC分类号： B01J35/02 , B01D53/94 , F01N3/10 , B01J23/83

8. 发明专利

JP2019151749A 触媒組成物、ポリアルキレンカーボネート及びその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019151749A
公开(公告)日：2019-09-12
申请号：JP2018038080
申请日：2018-03-02
申请人：三菱ケミカル株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：真島和志 , 長江春樹 , 青木亮太 , 芥川心之介
IPC分类号： C08G64/02 , C08G64/34
摘要：【課題】末端に官能基を有するポリアルキレンカーボネートを低分子量に制御しつつ容易に製造できる触媒組成物、末端に官能基を有するポリアルキレンカーボネート、前記ポリアルキレンカーボネートを低分子量に制御しつつ容易に製造する方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される多核金属錯体と、下記一般式(2)で表される化合物とを含有する触媒組成物を用いる。 LM 1 m M 2 n ・・・(1) (式(1)中、M 1 は周期表第12族に属する元素から選ばれる1種以上の金属であり、M 2 は周期表第3族に属する元素及びランタノイド系元素から選ばれる1種以上の金属であり、LはM 1 及びM 2 の配位子であり、m及びnはそれぞれ1以上の整数である。) R 1 4 QX 1 ・・・(2) (式(2)中、R 1 はアルキル基又はアリール基であり、Qは窒素原子またはリン原子であり、Xはアニオン性基である。) 【選択図】なし

9. 发明专利

JP2019151742A 触媒組成物、ポリアルキレンカーボネート及びその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019151742A
公开(公告)日：2019-09-12
申请号：JP2018037896
申请日：2018-03-02
申请人：三菱ケミカル株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：真島和志 , 長江春樹 , 青木亮太 , 芥川心之介
IPC分类号： C08G64/02 , C08G64/34
摘要：【課題】末端に官能基を有するポリアルキレンカーボネートを低分子量に制御しつつ容易に製造できる触媒組成物、末端に官能基を有するポリアルキレンカーボネート、前記ポリアルキレンカーボネートを低分子量に制御しつつ容易に製造する方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される多核金属錯体と、下記一般式(2)で表されるアルコール化合物とを含有する触媒組成物を用いる。 LM 1 m M 2 n ・・・(1) (式(1)中、M 1 は周期表第12族に属する元素から選ばれる1種以上の金属であり、M 2 は周期表第3族に属する元素及びランタノイド系元素から選ばれる1種以上の金属であり、LはM 1 及びM 2 の配位子であり、m及びnはそれぞれ1以上の整数である。) R 1 OH ・・・(2) (式(2)中、R 1 はアルキル基又はアリール基である。) 【選択図】なし

10. 发明专利

JP2016124824A 還元剤およびそれを用いた金属の製造方法有权
标题翻译：使用其制造金属的还原剂和方法
公开(公告)号：JP2016124824A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2014266775
申请日：2014-12-26
申请人：トヨタ自動車株式会社 , 国立大学法人大阪大学
发明人：永田直人 , 真島和志 , 劒隼人 , 百合野大雅 , 齊藤輝彦 , 棚橋宏将 , 西山悠 , 川北健人
IPC分类号： B22F9/24 , C07F7/10
摘要：【課題】溶媒中での還元反応によって金属イオンを還元し得る新規な還元剤、および前記の還元剤を用いる金属の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式で示される化合物からなる還元剤、 (前記式中、X 1 およびX 2 はそれぞれ同一であるか又は異なって窒素原子あるいはメチン基であり、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 およびR 6 はそれぞれ同一であるか又は異なって水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基である。)および前記還元剤と金属イオン源とを溶媒中で接触させる金属の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可通过溶剂中的还原反应还原金属离子的新型还原剂，以及使用还原剂制造金属的方法。解决方案：还原剂包含由通式表示的化合物（其中X和X相同或不同以表示氮原子或次甲基，R，R，R，R，R Rare相同或不同，表示氢原子，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，仲丁基或叔丁基）。还提供了通过使还原剂与溶剂中的金属离子源接触来生产金属的方法。选择图：无

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