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1. 发明专利

JP2898860B2 失效
公开(公告)号：JP2898860B2
公开(公告)日：1999-06-02
申请号：JP24302693
申请日：1993-09-29
申请人： TOTSUPAN INSATSU KK , OKUNO SEIYAKU KOGYO KK
发明人： FUKUYOSHI KENZO , IMAYOSHI KOJI , KOGA OSAMU , NISHIWAKI KENICHI , MURAHASHI KOICHIRO , MORIKAWA MASAHIRO
IPC分类号： G02B5/02 , G02B5/30 , G02F1/1335

2. 发明专利

JPH0442479B2 失效
公开(公告)号：JPH0442479B2
公开(公告)日：1992-07-13
申请号：JP6669889
申请日：1989-03-17
申请人： OOSAKASHI , OKUNO SEIYAKU KOGYO KK
发明人： ISAKI MASANOBU , ENOMOTO HIDEHIKO , OKUNO KAZUYOSHI , KATAYAMA JUNICHI
IPC分类号： C25D15/02

3. 发明专利

JPH0435874B2 失效
公开(公告)号：JPH0435874B2
公开(公告)日：1992-06-12
申请号：JP18601684
申请日：1984-09-05
申请人： KOGYO GIJUTSU INCHO , OKUNO SEIYAKU KOGYO KK
发明人： ISHIKAWA HIROSHI , SAKAI TETSUO , OGURO KEISUKE , KATO AKIHIKO , SUZUKI HIROSHI , IWAKURA CHIAKI , ZAIRI YASUNORI , MORITSU YUKIKAZU , YAMASHITA YOSHIFUMI
IPC分类号： H01M4/26 , H01M4/24 , H01M4/38

4. 发明专利

JPH0333243B2 失效
公开(公告)号：JPH0333243B2
公开(公告)日：1991-05-16
申请号：JP12501684
申请日：1984-06-20
申请人： OKUNO SEIYAKU KOGYO KK , NIPPON HOSO KYOKAI
发明人： WADA MASATOSHI , MATSUBARA SHIGEKAZU , MORITSU YUKIKAZU , SAKAI TETSUO
IPC分类号： C03C17/22 , C03C21/00 , G02B5/20 , G02B5/22 , H01J29/18 , H01J29/32

5. 发明专利

JPS61113773A Method for plating polyester resin by electroless plating 失效
标题翻译：电沉积聚酯树脂的方法
公开(公告)号：JPS61113773A
公开(公告)日：1986-05-31
申请号：JP23703884
申请日：1984-11-09
申请人： Okuno Seiyaku Kogyo Kk
发明人： KITA TOSHIYUKI , SATO KAZUYA , KAWAGISHI SHIGEMITSU
IPC分类号： C23C18/22 , C23C18/24 , C23C18/26 , C23C18/32
CPC分类号： C23C18/24
摘要： PURPOSE:To plate polyester resin with high adhesion by successively bringing the resin into contact with a soln. contg. a sexivalent chromium compound and sulfuric acid and/or phosphoric acid and with an aqueous soln. of heterocyclic carbonate or a soln. of the carbonate in a solvent and by carrying out pretreatment and electroless plating as usual. CONSTITUTION:Polyester resin is brought into contact with a soln. contg. a sexivalent chromium compound and sulfuric acid and/or phosphoric acid, e.g., a soln. contg. 5-85g/l dichromate and 50-700ml/l sulfuric acid. The resin is further brought into contact with an aqueous soln. contg. 30-100g/l heterocyclic carbonate or a soln. of the carbonate in a solvent. Pretreatment and electroless plating are then carried out as usual.
摘要翻译：目的：通过连续使树脂与溶胶接触，对高粘合性的聚酯树脂进行印刷。对比等价铬化合物和硫酸和/或磷酸以及含水溶胶。的杂环碳酸酯或溶胶。的碳酸酯溶剂，并像往常一样进行预处理和化学镀。构成：聚酯树脂与溶胶接触。对比等价铬化合物和硫酸和/或磷酸，例如溶胶。对比 5-85g / l重铬酸盐和50-700ml / l硫酸。树脂进一步与水溶胶接触。对比 30-100g / l杂环碳酸酯或溶胶。的碳酸酯在溶剂中。然后按常规进行预处理和化学镀。

6. 发明专利

JPS5855171B2 JPS5855171B2 - 失效
公开(公告)号：JPS5855171B2
公开(公告)日：1983-12-08
申请号：JP6901377
申请日：1977-06-10
申请人： Sumitomo Noogatatsuku Kk , Okuno Seiyaku Kogyo Kk
发明人： SAKANO HAJIME , KAWAGISHI SHIGEMITSU , KODAMA MIKIO , ITO AKITOSHI , SHOJI TOSHIHIRO , TERADA YOSHUKI , YOSHIDA ISAO
IPC分类号： C08K3/00 , C08J7/04 , C08J7/12 , C08K3/02 , C08K3/04 , C08L1/00 , C08L7/00 , C08L21/00 , C08L23/00 , C08L27/00 , C08L33/00 , C08L33/02 , C08L51/00 , C08L51/02 , C08L67/00 , C08L77/00 , C08L101/00 , C23C18/16 , C25D5/54 , C25D5/56

7. 发明专利

JP2919039B2 失效
公开(公告)号：JP2919039B2
公开(公告)日：1999-07-12
申请号：JP25851990
申请日：1990-09-27
申请人： NIPPON HOSO KYOKAI , OKI DENKI KOGYO KK , OKUNO SEIYAKU KOGYO KK
发明人： SAKAI TETSUO , TAKANO YOSHIMICHI , TERAO YOSHITAKA , KOIWA ICHIRO , KOBAYASHI HIROMI , SASAKI KENSUKE , WADA MASATOSHI
IPC分类号： G02B5/20 , H01J11/12 , H01J11/24 , H01J11/36 , H01J11/40 , H01J11/42 , H01J11/44 , H01J11/48 , H01J11/50 , H01J17/49

8. 发明专利

JPH0456784B2 失效
公开(公告)号：JPH0456784B2
公开(公告)日：1992-09-09
申请号：JP21040286
申请日：1986-09-05
申请人： KOGYO GIJUTSU INCHO , OKUNO SEIYAKU KOGYO KK
发明人： WAKABAYASHI NOBORU , TAKENAKA HIROTAKA , NISHIWAKI KENICHI , ZAIRI YASUNORI , MORITSU YUKIKAZU
IPC分类号： C04B35/622 , C04B35/00 , C04B35/632

9. 发明专利

JPH0251194B2 失效
公开(公告)号：JPH0251194B2
公开(公告)日：1990-11-06
申请号：JP14621582
申请日：1982-08-25
申请人： OKUNO SEIYAKU KOGYO KK , TOKYO NYUUKUTORONIKUSU KK , NIPPON HOSO KYOKAI
发明人： WADA MASATOSHI , NINOMYA KENJIRO , SAKAI TETSUO
IPC分类号： G09F9/00 , G02B5/20 , G02B5/22 , H01J5/08 , H01J9/20 , H01J9/227 , H01J29/18 , H01J29/32

10. 发明专利

JPS6139235A Production of magnetic recording medium 失效
标题翻译：磁记录介质的生产
公开(公告)号：JPS6139235A
公开(公告)日：1986-02-25
申请号：JP16004284
申请日：1984-07-30
申请人： Okuno Seiyaku Kogyo Kk
发明人： YAMASHITA YOSHIFUMI , KAWAGISHI SHIGEMITSU
IPC分类号： G11B5/858 , G11B5/64 , G11B5/72 , G11B5/73 , G11B5/738 , G11B5/84
摘要： PURPOSE: To decrease a deterioration in recording density and to prevent a corrosion of a magnetic film, blank material, etc. by forming directly a potective film on the magnetic film which is activated by using a weakly acidic W alkaline electroless plating liquid.
CONSTITUTION: The magnetic film is first activated by a catalytic soln. The activation is executed by dipping the blank material on which the magnetic film is formed for 30secW10min into the catalytic soln. at 50W60°C. The catalytic soln. prepd. by adding about 1W20cc/l HCl (86%) according to need to a soln. of preferably 3W5g/l rhodium chloride in order to dissolve the catalytic material is used. The magnetic film is made active to the succeeding electroless rhodium plating or electroless ruthenium plating by dipping the blank material into such catalytic soln. The surface is thereby roughened and the adhesion of the plating film is improved. The magnetic film is then subjected to the electroless rhodium plating or electroless ruthenium plating as the protective film. The plating liquid adjusted to preferably about 8W12pH is used.
COPYRIGHT: (C)1986,JPO&Japio
摘要翻译：目的：通过在弱酸性碱性化学镀液中活化的磁性膜上直接形成有机膜，减少记录密度的劣化，防止磁性膜，空白材料等的腐蚀。构成：磁性膜首先被催化剂溶液活化。通过将形成有磁性膜的坯料浸入催化剂溶液中30秒-10分钟进行活化。在50-60℃ 催化剂准备通过根据需要加入约1-20cc / l的HCl（86％）。为了溶解催化材料，优选使用3-5g / l氯化铑。通过将空白材料浸入这种催化剂溶胶中，使磁性膜对随后的无电铑镀或无电镀钌有活性。表面被粗糙化，并且镀膜的附着力得到改善。然后对磁性膜进行化学镀铑或无电镀钌作为保护膜。使用调节至优选约8-12pH的电镀液。

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