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    • 5. 发明专利
    • 新規なヒドロキサム酸誘導体の製造方法
    • 一种制造新型异羟肟酸衍生物的方法
    • JP2017014199A
    • 2017-01-19
    • JP2016125855
    • 2016-06-24
    • 富山化学工業株式会社
    • 馬場 康隆古関 優長遠 裕介
    • C07C259/06C07D309/12
    • Y02P20/55
    • 【課題】光学純度が高く、優れたウルジルジホス−3−O−アシル−Nアセチルグルコサミンデアセチラーゼ(LpxC)阻害活性を有する化合物の工業的製造方法の提供。 【解決手段】(2S)−2−((4−((4−((1S)−1,2−ジヒドロキシエチル)フェニル)エチニル)ベンゾイル)(メチル)アミノ)−N−ヒドロキシ−N’,2−ジメチルマロンアミドで例示されるLpxC阻外活性を有する化合物又はその塩の、中間体が、式[3]又は[4]で表される化合物又はその塩である製造方法。 (R 1 及びR 2 は各々独立に置換/非置換のC 1−6 のアルキル基;R a はアミノ保護基;R b はカルボキシル保護基;R c はヒドロキシル保護基) 【選択図】なし
    • 的光学纯度高,从而提供具有优异Urujirujihosu -3-O-酰基-N乙酰基葡糖胺脱乙酰酶(LpxC)抑制活性的化合物的工业制造方法。 A(2S)-2 - ((4 - ((4 - ((1S)-1,2-二羟基乙基)苯基)乙炔基)苯甲酰基)(甲基)氨基)-N-羟基-N”,2 - 其具有如例示的二甲基丙二酰胺方法的中间一个LpxC阻外活性的化合物或其盐是由下式表示的化合物[3]或[4]。 (R1和R2各自独立地为取代/未取代的C 1-6烷基; R a是氨基保护基团; R b表示羧基保护基; R c'是羟基保护基)装置技术领域