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81. 发明专利

JP5204582B2 Method for producing acylated silsesquioxane 有权
公开(公告)号：JP5204582B2
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：JP2008208739
申请日：2008-08-13
申请人： AzエレクトロニックマテリアルズIp株式会社
发明人：裕治田代 , 高志關藤 , 敦子能谷 , 孝文岩田 , 敏章野中 , 大志横山
IPC分类号： C08G77/08 , C08G77/14 , G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/075

82. 发明专利

JP2013516514A Moisture curable siloxane-containing and fluorocarbon-containing compounds, and polymers formed from the compounds 有权
公开(公告)号：JP2013516514A
公开(公告)日：2013-05-13
申请号：JP2012547126
申请日：2010-12-20
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ジー．ハンセンリチャード , エス．ヘイズデイビッド , エス．アイヤースレシュ , ダブリュ．フランクジョン , シー．クマーラメシュ
IPC分类号： C08G69/42 , C08G77/14 , C08G77/24 , C08G77/46 , C08G77/48 , C08K3/36 , C08K5/5415 , C08L83/06 , C08L83/12 , C08L83/14 , C09J7/02 , C09J11/08 , C09J183/06 , C09J183/12
CPC分类号： C08G77/382 , C08G65/007 , C08G65/336 , C08G77/452 , C08G77/46 , C08G2650/48 , C08L83/04 , C09J183/10 , C09J183/12 , Y10T83/929
摘要：シロキサン含有反応性化合物は、水分硬化性アルコキシシラン官能性末端基を含み、更に、フルオロカーボン含有セグメントも含む。シロキサン含有及びフルオロカーボン含有反応性化合物は、シロキサン含有及びフルオロカーボン含有オキサミド化合物、又はアミン化合物から調製することができる。シロキサン含有及びフルオロカーボン含有ポリマーは、この反応性化合物を水と反応させることにより調製できる。このシロキサン含有及びフルオロカーボン含有ポリマーは、剥離材料又は接着剤であり得る。

83. 发明专利

JP2013067799A Composition and anti-reflective coating for photolithography 有权
标题翻译：用于光刻胶的组合物和抗反射涂层
公开(公告)号：JP2013067799A
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：JP2012208064
申请日：2012-09-21
申请人： Dow Global Technologies Llc , ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー , Rohm & Haas Electronic Materials Llc , ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
发明人： RAO YUANQIAO , AUGER ROBERT L , KIARIE CECILIA W , SRIVASTAVA YASMIN N , SULLIVAN CHRISTOPHER P
IPC分类号： C08L43/04 , C08F30/08 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08J7/04 , C08L83/04 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/091 , C08G77/08 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08G77/80 , C08L83/04 , G03F7/0751 , C08L83/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for photolithography.SOLUTION: The composition contains a polymer composed of a polymer containing the following A and a polymer formed from silane; wherein A is a structural unit 1 represented by formula (1) (in the formula, L is a C-C bond; and M is a divalent bonding group; having a group selected from an oxygen-containing group and halide on Si).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于光刻的组合物。解决方案：组合物含有由含有以下A的聚合物和由硅烷形成的聚合物构成的聚合物; 其中A是由式（1）表示的结构单元1（在该式中，L是C-C键; M是二价键合基团;在Si上具有选自含氧基团和卤化物的基团）。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

84. 发明专利

JP5158589B2 Silicone copolymer 有权
公开(公告)号：JP5158589B2
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：JP2007298977
申请日：2007-11-19
申请人：東レ・ファインケミカル株式会社
发明人：健西川 , 久西谷
IPC分类号： C08G77/04 , C08G77/06 , C08G77/14

86. 发明专利

JPWO2011013630A1 ナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物有权
公开(公告)号：JPWO2011013630A1
公开(公告)日：2013-01-07
申请号：JP2011524771
申请日：2010-07-26
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：敏竹井 , 敏竹井 , 智也大橋 , 智也大橋
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , C08G59/20 , C08G77/14 , C08G77/20
CPC分类号： G03F7/0757 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08G77/045 , C08G77/14 , C09D183/06 , G03F7/0002 , G03F7/0752 , G03F7/11 , G03F7/2051
摘要：【課題】パターン形成プロセスのナノインプリントリソグラフィーにおいてナノインプリント用レジストの下層に使用されるレジスト下層膜を熱焼成、光照射又はその両方によって硬化させ形成する組成物を提供する。【解決手段】ナノインプリントを用いるパターン形成プロセスにおいてナノインプリントに使用されるレジストの下層膜を熱焼成、光照射又はその両方を行うことによって形成するための組成物であって、ケイ素原子を含む重合性化合物(A)、重合開始剤(B)、及び溶剤(C)を含むナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物。前記重合性化合物(A)が、ケイ素原子を5乃至45質量%含有するものである。前記重合性化合物(A)が、カチオン重合可能な反応性基を少なくとも一つ有する重合性化合物、ラジカル重合可能な反応性基を少なくとも一つ有する重合性化合物、又はそれらの組み合わせであり、前記重合開始剤(B)が光重合開始剤である。【選択図】なし

89. 发明专利

JP2012236893A Epoxy-modified silicone composition 审中-公开
标题翻译：环氧改性硅酮组合物
公开(公告)号：JP2012236893A
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：JP2011106189
申请日：2011-05-11
申请人： Asahi Kasei Chemicals Corp , 旭化成ケミカルズ株式会社
发明人： KURODA YOSHITO , MURATA KENJI
IPC分类号： C08L63/00 , C08G59/14 , C08G77/14 , C08K5/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy-modified silicone composition whose cured material has favorable transparency and excellent light resistance, heat-fading resistance, adhesiveness, and has excellent storage stability even when exposed to high-temperature environment in transport or storage, and also to provide a curable epoxy-modified silicone composition containing the above composition.SOLUTION: The epoxy-modified silicone composition contains 0.0005-5 pts.mass of at least one antioxidant selected from the group consisting of phenolic, phosphoric, sulfuric and amine-based antioxidants based on 100 pts.mass of an epoxy-modified silicone represented by an average composition formula (1) [wherein Rs are each independently (A) a monovalent aliphatic organic group, (B) a monovalent aromatic organic group or (C) a monovalent organic group; and Rs are each independently an organic group containing epoxy groups].
摘要翻译：要解决的问题：提供一种环氧改性的有机硅组合物，其固化物具有良好的透明性和优异的耐光性，耐褪色性，粘合性，并且即使在暴露于运输中的高温环境下也具有优异的储存稳定性并且还提供含有上述组合物的可固化的环氧改性的有机硅组合物。环氧改性的有机硅组合物含有0.0005-5重量份的至少一种选自酚，磷酸，硫酸和胺系抗氧化剂的抗氧化剂，其基于100重量份的环氧改性由平均组成式（1）表示的硅氧烷[其中，R（SP）=“POST”> 1各自独立地为（A）一价脂族有机基团，（B）一价芳族有机基团或（C ）一价有机基团; 并且R 2 各自独立地为含有环氧基的有机基团]。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

90. 发明专利

JP5091664B2 Polymer composition 有权
公开(公告)号：JP5091664B2
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：JP2007508294
申请日：2005-04-18
申请人：ノル‐エクスインダストリーアーエス
发明人：マーンレ、フェルディナン , シモン、クリスチャン , ベイリシュ、イェスト , ハェウゲ、ロゲル , アルネクレッペ、エミル , ロゲルロェードセス、カーレ , ゲレインラーセン、アーゲ
IPC分类号： C08L23/00 , B32B9/04 , B32B27/32 , C08G20060101 , C08G77/04 , C08G77/06 , C08G77/14 , C08G77/22 , C08G77/26 , C08G77/38 , C08J3/22 , C08K5/00 , C08K5/54 , C08K5/5419 , C08L23/02 , C08L101/00
CPC分类号： B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/32 , B32B2323/00 , C08K5/0008 , C08K5/098 , C08L23/02 , C08L23/06 , C08L23/10 , C08L2207/066 , C08L83/00 , C08L2666/04
摘要： Polymer composition comprising a) 10-99.99% by weight of at least one polyolefin, b) 0-50% by weight of a thermoplastic that is not a polyolefin, c) 0.005-1% by weight of per se known polymer additives, as well as an additional component chosen among d) at least one polybranched organic/inorganic hybrid polymer which has an inorganic core carrying organic branches, the core and branches forming a particulate structure, or/and e) a fat-soluble metal compound prepared by reacting a metal salt and an acidic, organic compound in a process in which a suitable oxidation agent ensures that all the metal in the end product is present in its highest stable oxidation state at standard conditions (25° C. and maximum 98% humidity).

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