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71. 发明专利

JPH0624106B2 失效
公开(公告)号：JPH0624106B2
公开(公告)日：1994-03-30
申请号：JP9725387
申请日：1987-04-20
申请人： II TSUEE TEE INTEGUREITETSUDO SAAKITSUTO TESUCHINGU G FUYUA HARUPURAITAAPURYUUFUTEHINIKU MBH
发明人： YURUGEN FUROOJEN , EERITSUHI PURIISU
IPC分类号： H01J37/12 , G01Q30/02 , H01J37/10 , H01J37/141 , H01J37/145

72. 发明专利

JPH0447944B2 失效
公开(公告)号：JPH0447944B2
公开(公告)日：1992-08-05
申请号：JP22289384
申请日：1984-10-25
申请人： NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE
发明人： MORITA HIROBUMI , HOSOKAWA TERUO , SHIMIZU AKIRA , FUJINAMI AKIHIRA
IPC分类号： H01J29/58 , H01J37/10 , H01J37/145 , H01J37/21 , H01L21/027

73. 发明专利

JPH02230647A MULTI-POSITION DEVICE AND ITS MANUFACTURE 失效
公开(公告)号：JPH02230647A
公开(公告)日：1990-09-13
申请号：JP606490
申请日：1990-01-12
申请人： I C T INTEGUREETETSUDO SAAKITS
发明人： SHIYUTEFUAN RANIO , MAKUSHIMIRIAN HAIDAA
IPC分类号： H01J37/145 , H01J37/153
摘要： PURPOSE: To lessen a vacuum device, reduce a surface area of a part arranged in a vacuum, eliminate non-conductive surface in the periphery of a particle beam, and form a mechanically stable structure, by arranging only a part generating an electric field and/or magnetic field in a vacuum tube. CONSTITUTION: Relating to a center axis OA of a mounting part J in an adjusting means of electron microscope, electron/ion beam recorder, etc., a multi-pole element is symmetrically arranged, by mounting elements pH, pH' of this multi-pole element, a several number of field generators PS, PS' are firmly connected to the mounting part J, the multi-pole element is provided in an excitation coil, device SP, SP' of the generator PS, PS'. The generator PS, PS' is arranged in a beam tube SR, it is arranged coaxially in the mounting part J. This beam tube SR is made of electric insulating material by ceramic or aluminum oxide and the like, to be provided with an air-tight hole for inserting the mounting bar pH, pH'.

74. 发明专利

JPS62256352A STATIC AND MAGNETIC COMPOSITE LENS OF PARTICLE BEAM APPARATUS 失效
公开(公告)号：JPS62256352A
公开(公告)日：1987-11-09
申请号：JP9725387
申请日：1987-04-20
申请人： SIEMENS AG
发明人： YURUGEN FUROOJIEN , EERITSUHI PURIISU
IPC分类号： H01J37/12 , G01Q30/02 , H01J37/10 , H01J37/141 , H01J37/145

75. 发明专利

JPS61208736A SCAN PARTICLE MICROSCOPE 失效
公开(公告)号：JPS61208736A
公开(公告)日：1986-09-17
申请号：JP5027586
申请日：1986-03-07
申请人： SIEMENS AG
发明人： YURUGEN FUROOJIEN , RAINAA SHIYUPEERU
IPC分类号： H01J37/145 , H01J37/06 , H01J37/153 , H01J37/28

76. 发明专利

JPS61165941A DEVICE FOR IRRADIATING CHARGED PARTICLES 失效
公开(公告)号：JPS61165941A
公开(公告)日：1986-07-26
申请号：JP641086
申请日：1986-01-17
申请人： HITACHI LTD
发明人： TAMURA HIFUMI , ISHITANI SUSUMU , SHIMASE AKIRA
IPC分类号： H01J37/252 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/147
摘要： PURPOSE:To enable the focal distances of an electron beam and an ion beam to be arbitrarity varied by using a charged particle source from which both the electron beam and the ion beam can be produced and appropriately reducing the diameters of these beams by the combination of electrostatic lenses and magnetic field lenses. CONSTITUTION:A scanning electron microscope-secondary ion mass spectrography complex device or a similar device includes a charged particle source 1 for simultaneously producing electrons and ions, electrostatic lenses 3 and 8, magnetic field lenses 4 and 9, a diaphragm 7 and a deflecting electrode 10. An ion beam 6 is focused by a two-step lens system consisting of electrostatic lenses 3 and 8 without being influenced by the lens effect of the magnetic field lenses 4 and 9. The diameter of the electron beam is reduced to a very small level by a complex four-step lens system consisting of the lenses 3, 4, 8 and 9. Secondary electrons 16 are detected and the detection result is displayed on a CRT 15. Secondary ions 17 are analyzed by a mass spectrometer 18. Accordingly, it is possible to irradiate both the ion beam 6 and the electron beam upon a sample 11 by the combination of the electrostatic and the magnetic field lenses.

77. 实用新型

JPS58110956U 失效
公开(公告)号：JPS58110956U
公开(公告)日：1983-07-28
申请号：JP637982
申请日：1982-01-22
IPC分类号： H01J37/073 , G01Q30/20 , H01J37/08 , H01J37/10 , H01J37/12 , H01J37/252 , H01J37/145

78. 发明专利

JPWO2019224896A1 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の検出器位置調整方法有权
公开(公告)号：JPWO2019224896A1
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：JP2018019569
申请日：2018-05-22
申请人：株式会社日立ハイテク
发明人：今井悠太 , 笹島正弘 , 高鉾良浩
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/244 , H01J37/20 , H01J37/145 , H01J37/153
摘要：減速光学系を備える荷電粒子線装置において、対物レンズ−試料間の構造物による減速電界の変化と軸ずれを抑制することで、照射系・検出系への悪影響を低減する。荷電粒子線装置は、電子源2と、電子源からのプローブ電子線を試料12に集束させる対物レンズ4と、プローブ電子線を加速させる加速電極3と、加速電極内に設けられる第1検出器6と、加速電極との間にプローブ電子線に対する減速電界を形成し、プローブ電子線がその開口を通過する減速電極5と、減速電極と試料との間に挿入される第2検出器7とを有し、第2検出器は、減速電極の開口よりも大きい開口部9を有し、開口部の周囲に感受面8が設けられる。

79. 发明专利

JP2020503644A 複数の荷電粒子ビームを使用する装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020503644A
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：JP2019530771
申请日：2017-12-22
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：レン,ウェイミン , リウ,シュエドン , フー,シュエラン , チェン,ゾンウェイ
IPC分类号： H01J37/145 , H01J37/28 , H01J37/244 , H01J37/141
摘要：本開示は、回転防止レンズを提案し、ビームレット事前形成メカニズムを有するマルチビーム装置の回転防止集光レンズとして回転防止レンズを使用する。回転防止集光レンズは、その電流を変更する際にビームレットの回転角度を変更しないまま保持し、それにより、ビームレット事前形成メカニズムが、未使用の電子の進行をできる限り妨げることができるようにする。このように、マルチビーム装置は、高分解能及び高スループットでサンプルを観察することができ、半導体製造業においてウェーハ/マスク上の欠陥を検査及び/又は再調査するための歩留まり管理ツールとして適している。【選択図】図2E

80. 发明专利

JP2019536250A 試験片を検査する方法および荷電粒子マルチビーム装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019536250A
公开(公告)日：2019-12-12
申请号：JP2019529641
申请日：2017-11-27
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド , テクニシェユニヴェルシテイトデルフト
发明人：フロジエンユルゲン , クルートピーター
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/14 , H01J37/145 , H01J37/28
摘要：荷電粒子ビーム装置内で1次荷電粒子ビームレットのアレイによって試験片を検査する方法が記載される。この方法は、荷電粒子ビームエミッタによって1次荷電粒子ビームを生成することと、1次荷電粒子ビームによって多開孔レンズ板を照射して、1次荷電粒子ビームレットのアレイを生成することと、開孔部を含む少なくとも2つの電極によって像面湾曲を補正することと、1次荷電粒子ビームレットをレンズによって対物レンズの方へ誘導することと、レンズ内に配置された偏向器アレイを通って1次荷電粒子ビームレットを案内することであり、レンズおよび偏向器アレイの複合動作により、1次荷電粒子ビームレットが対物レンズのコマフリー点を通って誘導される、案内することと、対物レンズによって試験片上の別個の場所に1次荷電粒子ビームレットを集束させることとを含む。【選択図】図1

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