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    • 65. 发明专利
    • 電子デバイス
    • 电子设备
    • JPWO2014141330A1
    • 2017-02-16
    • JP2015505079
    • 2013-08-20
    • パナソニック株式会社
    • 吉田 秀樹秀樹 吉田洋 日比野洋 日比野
    • H05B33/04B32B27/06H01L51/50H05B33/02
    • H01L51/5259B32B27/08B32B27/18B32B2264/102B32B2264/105B32B2457/00B32B2457/20
    • 本技術によるフレキシブルEL表示装置などの電子デバイスは、無機材料からなる無機膜(22)と高分子材料からなる高分子膜(23)とを積層した第1のバリア膜(24)と、無機材料からなる無機膜(27)と高分子材料からなる高分子膜(28)とを積層した第2のバリア膜(29)とを有している。第1のバリア膜(24)と第2のバリア膜(29)とにより薄膜トランジスタアレイ装置(25)と発光部(26)とを封止した構成を備えている。高分子膜(23)、(28)は、高分子材料中に、シリカ系粒子、Fe系粒子、モンモリロナイト粒子、シリカコート粒子、ゼオライト粒子の中から選ばれる少なくとも1種類のナノ微粒子を含む材料により構成している。
    • 根据本技术,通过由无机材料制成的(23)由聚合材料制成和(24)的无机膜和(22)的聚合物薄膜层合而成的第一阻挡膜,无机材料的电子设备,诸如柔性EL显示器件 它的无机薄膜(27)由聚合物材料制成的聚合物膜(28)而制成的层压层(29)的第二阻挡膜。 它有密封所述薄膜晶体管阵列装置(25)和通过第一势垒层(24)和所述第二阻挡层(29)的发光部(26)的结构。 聚合物膜(23),(28),在聚合物材料中,所述基于二氧化硅的颗粒,铁基颗粒,蒙脱石颗粒,二氧化硅涂覆的颗粒,含有至少一种从沸石颗粒中选择的纳米颗粒的材料的 它被配置。
    • 66. 发明专利
    • 耐溶剤性基材
    • 耐溶剂基材
    • JP2016150576A
    • 2016-08-22
    • JP2015030924
    • 2015-02-19
    • 国立大学法人京都大学
    • 杉村 博之一井 崇宇都宮 徹
    • C08J7/00C23C14/12B32B27/06B32B27/00
    • 【課題】耐溶剤性に優れた耐溶剤性基材および耐溶剤性に優れた耐溶剤性基材を効率よく製造することができる耐溶剤性基材の製造方法を提供する。 【解決手段】耐溶剤性を有する基材であって、樹脂材料の表面上にポリオルガノシロキサン層が形成されていることを特徴とする耐溶剤性基材、ならびに樹脂材料の表面上にポリオルガノシロキサン層が形成された耐溶剤性基材の製造方法であって、樹脂材料と、オルガノシラン化合物、オルガノシロキサン化合物およびオルガノシラザン化合物からなる群より選ばれたケイ素含有化合物とを密閉空間内で水分の存在下で加熱し、ケイ素含有化合物を気化させ、加水分解させるとともにケイ素含有化合物の加水分解生成物を樹脂材料の表面上で縮重合させ、樹脂材料の表面上にポリオルガノシロキサン層を形成させることを特徴とする。 【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供耐溶剂性优异的耐溶剂基材,并提供耐溶剂性基材的制造方法,其中可以有效地制备耐溶剂性优异的耐溶剂基材。溶液:溶剂 具有耐溶剂性的基材是通过在树脂材料的表面上形成聚有机硅氧烷层得到的。 制造在树脂材料表面形成有聚有机硅氧烷层的耐溶剂基材的方法包括以下步骤:加热树脂材料和含硅化合物,所述含硅化合物选自有机硅烷化合物,有机硅氧烷化合物 和有机硅氮烷化合物,在存在水分的气密密封空间中,使含硅化合物蒸发并水解,使含硅化合物的水解产物在树脂材料和聚有机硅氧烷层的表面上进行缩聚反应 形成在树脂材料的表面上。选择图:无