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61. 发明专利

JPWO2012008472A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物有权
公开(公告)号：JPWO2012008472A1
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：JP2012524568
申请日：2011-07-13
申请人：日本化薬株式会社
发明人：美彩都大西 , 美彩都大西 , 尚子今泉 , 尚子今泉 , 酒井　亮 , 亮酒井 , 那央本田 , 那央本田 , 清柳　正幸 , 正幸清柳
IPC分类号： G03F7/004 , C08G59/06 , C08G59/68 , G03F7/038 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0045 , C08G59/687 , C08L63/04 , C09J163/00 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/039 , G03F7/0757 , H05K3/287 , Y10S430/115 , Y10S430/122
摘要：光カチオン重合開始剤(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)とを含む感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤(A)が下記式(1)【化1】で表される光カチオン重合開始剤(A−1)である、感光性樹脂組成物。

62. 发明专利

JP5277867B2 Positive photosensitive resin composition, pattern - down method for manufacturing and electronic components 有权
公开(公告)号：JP5277867B2
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：JP2008278104
申请日：2008-10-29
申请人：日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
发明人：知典峯岸 , 健一岩下
IPC分类号： G03F7/023 , C08G73/22 , G03F7/004
CPC分类号： H01L21/0274 , C08G73/22 , C08L79/04 , G03F7/0233 , G03F7/0757 , G03F7/40
摘要： Provided are a positive photosensitive resin composition that is developable in an alkaline aqueous solution and gives a good shaped pattern that is excellent in heat resistance and mechanical property, a method for producing the pattern and an electronic component. The positive photosensitive resin composition contains (a) polybenzoxazole or a polybenzoxazole precursor polymer having a structural unit represented by either a general formula (1) or (2) and satisfying conditions (i) and/or (ii), (b) a compound that generates an acid by being irradiated with active light ray and (c) a compound having a structure represented by a general formula (3) crosslinkable or polymerizable with said component (a).

63. 发明专利

JPWO2011155382A1 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子有权
公开(公告)号：JPWO2011155382A1
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：JP2011535336
申请日：2011-06-02
申请人：東レ株式会社
发明人：妹尾　将秀 , 将秀妹尾 , 藤原　健典 , 健典藤原 , 将福原 , 将福原 , 諏訪　充史 , 充史諏訪 , 栄悟山本 , 栄悟山本 , 圭一内田 , 圭一内田
IPC分类号： G03F7/023 , C08K5/057 , C08K5/07 , C08K5/28 , C08K5/5415 , C08L83/06 , G03F7/004 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G77/02 , C08G77/14 , C08G77/80 , C09D183/06 , G03F7/0045 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , C08L83/00
摘要： (a)一般式(1)で表されるオルガノシランの1種以上を反応させることによって合成されるポリシロキサン、(b)キノンジアジド化合物、(c)溶剤、および(d)一般式(2)で表されるシリケート化合物を含有する感光性シロキサン組成物。【化1】(式中、R1は水素、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表し、複数のR1はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。R2は水素、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアシル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表し、複数のR2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を表す。)【化2】(式中、R3からR6はそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアシル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表す。pは2〜10の整数を表す。)高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ耐薬品性が良好な硬化膜を得ることができる感光性シロキサン組成物を提供できる。

64. 发明专利

JP2013147546A Uv-curable adhesive silicone composition, uv-curable adhesive silicone composition sheet, optical semiconductor apparatus, and method for manufacturing the same 有权
标题翻译：紫外线固化性硅氧烷组合物，紫外线固化性粘合剂硅酮组合物，光学半导体装置及其制造方法
公开(公告)号：JP2013147546A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：JP2012007890
申请日：2012-01-18
申请人： Shin-Etsu Chemical Co Ltd , 信越化学工業株式会社
发明人： KASHIWAGI TSUTOMU , SHIOBARA TOSHIO
IPC分类号： C08L83/07 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08L83/05 , C09J183/05 , C09J183/07 , H01L23/29 , H01L23/31
CPC分类号： G03F7/0751 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08G77/70 , C08G77/80 , C08L83/04 , C08L2205/02 , C09J183/04 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/40 , H01L23/296 , H01L33/56 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , H01L2224/73265 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a UV-curable adhesive silicone composition that is in a plastic solid state or a semi-solid state in an uncured state at room temperature and therefore is easy to handle, can uniformly disperse a phosphor and cover a surface of an LED chip, and can readily form a cured layer only on a necessary portion.SOLUTION: A UV-curable adhesive silicone composition includes: (A) an organopolysiloxane having a resin structure, consisting of RSiO, RSiO, and RRSiOunits, wherein Rrepresents a vinyl group or an allyl group, and 5 to 300 RSiOunits are continuously repeated, (B) an organohydrogenpolysiloxane having a resin structure consisting of RSiO, RSiO, and RHSiOunits, wherein 5 to 300 RSiOunits are continuously repeated, and (C) a photoactive catalyst, wherein the UV-curable adhesive silicone composition is in a plastic solid state or a semi-solid state in an uncured state at room temperature.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供在室温下处于未固化状态的塑料固态或半固态的UV固化型粘合性有机硅组合物，因此易于处理，可以均匀地分散荧光体并覆盖表面的LED芯片，并且可以容易地在必要部分上形成固化层。解决方案：UV可固化粘合性有机硅组合物包括：（A）具有由RSiO，RSiO和RRSiOunits组成的树脂结构的有机聚硅氧烷，其中R代表乙烯基或烯丙基，连续重复5〜300个RSiOunits，（B）具有由RSiO，RSiO和RHSiOunits组成的树脂结构的有机氢聚硅氧烷，连续重复5〜300个RSiOunits，（C）光活性催化剂，其中所述UV可固化粘合性有机硅组合物在室温下处于未固化状态的塑料固态或半固态。

65. 发明专利

JPWO2011136073A1 ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法有权
公开(公告)号：JPWO2011136073A1
公开(公告)日：2013-07-18
申请号：JP2012512783
申请日：2011-04-18
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：大吾一戸 , 大吾一戸
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/075 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0757 , G03F7/40
摘要：本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に、下記式(1)で表される基を有する構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位(II)とを含む重合体、[B]シロキサンポリマー、及び[C]光酸発生体を含有するポジ型感放射線性組成物である。[B]シロキサンポリマーは、下記式(2)で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であることが好ましい。[A]重合体と[B]シロキサンポリマーの合計に対する[A]重合体の質量比は5質量%以上95質量%以下であることが好ましい。

66. 发明专利

JP2013129649A Silicon compound, condensation product, resist composition using the same, and pattern formation method using the same 审中-公开
标题翻译：硅化合物，凝结产物，使用它们的抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：JP2013129649A
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：JP2012238210
申请日：2012-10-29
申请人： Central Glass Co Ltd , セントラル硝子株式会社
发明人： YAMANAKA KAZUHIRO , OGAWA TAKESHI
IPC分类号： C07F7/18 , C07C381/12 , C08G77/28 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0755 , C07F7/1836 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757 , G03F7/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicon compound that can be easily synthesized by using a hydrolyzable silicon compound such as alkoxysilane and has, in its molecule, a hydrolyzable group of an alkoxy group or the like and a photoacid generating group capable of being dissociated to generate an acid by irradiation with a high-energy ray.SOLUTION: The silicon compound is represented by general formula (1): RASiB(1). In the formula, R1 is each independently a hydrogen atom, a C1-C20 linear or C3-C20 branched or cyclic hydrocarbon group; a carbon atom of the hydrocarbon group may be replaced by an oxygen atom; and the hydrocarbon group may contain a fluorine atom; A is an acid decomposable group; B is a hydrolyzable group; n is an integer of 0 to 2; m is an integer of 1 to 3; and n+m is an integer of 1 to 3.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以通过使用可水解的硅化合物如烷氧基硅烷容易地合成的硅化合物，并且在其分子中具有烷氧基等的可水解基团和能够解离的光致酸产生基团通过用高能射线照射产生酸。解决方案：硅化合物由通式（1）表示：RASiB（1）。在该式中，R 1各自独立地为氢原子，C 1 -C 20直链或C 3 -C 20支链或环状烃基; 烃基的碳原子可以被氧原子代替; 并且所述烃基可以含有氟原子; A是酸分解基团; B是可水解的基团; n为0〜2的整数， m为1〜3的整数。 n + m为1〜3的整数。

67. 发明专利

JP2013122479A Chemically amplified negative resist composition, photosetting dry film, method for manufacturing the same, method for forming pattern, and protective film of electric electronic component 有权
标题翻译：化学放大抗蚀剂组合物，光电干燥膜，其制造方法，形成图案的方法和电子电子部件的保护膜
公开(公告)号：JP2013122479A
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：JP2011269970
申请日：2011-12-09
申请人： Shin Etsu Chem Co Ltd , 信越化学工業株式会社
发明人： TAKEMURA KATSUYA , WATANABE TAKESHI , MIYAZAKI TAKASHI
IPC分类号： G03F7/004 , C07D295/08 , C07D295/12 , C08G77/50 , G03F7/038 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03C1/805 , B32B3/266 , G03C2001/7635 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/38 , G03F7/40 , Y10T428/24331 , Y10T428/24612
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemically amplified negative resist composition suitable for forming a fine pattern and giving a pattern such as a hole pattern and a space pattern, which solves such a problem that the size of a pattern upper part becomes smaller than the size of a pattern lower part.SOLUTION: The chemically amplified negative resist composition comprises: (A) a resin having a crosslinking group or a reaction point generating a crosslinking reaction in the molecule; (B) a crosslinking agent; (C) a photoacid generator that is decomposed by light at a wavelength of 190 to 500 nm to generates an acid; (D) a solvent; and (E) one or more amine compounds having a fluorinated alkyl group. With the resist composition, a fine pattern can be formed. The pattern profile of an obtained hole pattern or a space pattern is a positive tapered shape (normal tapered shape), in which the size of a pattern upper part is larger than the size of a pattern lower part. Otherwise, with the resist composition, an overhang shape with a pattern upper part extremely protruding can be improved.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供适合于形成精细图案并给出诸如孔图案和空间图案的图案的化学放大型负型抗蚀剂组合物，其解决了图案上部的尺寸变为小于图案下部的尺寸。化学放大型负性抗蚀剂组合物包含：（A）具有交联基团的树脂或分子中产生交联反应的反应点; （B）交联剂; （C）在190〜500nm波长的光分解产生酸的光酸产生剂; （D）溶剂; 和（E）一种或多种具有氟化烷基的胺化合物。通过抗蚀剂组合物，可以形成精细图案。获得的孔图案或空间图案的图案轮廓是图形上部的尺寸大于图案下部的尺寸的正锥形（正锥形）。否则，通过抗蚀剂组合物，可以提高图案上部极突出的突出形状。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

68. 发明专利

JP2013097002A Method for forming pattern, laminate resist pattern, laminate film for organic solvent development, resist composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device 有权
标题翻译：用于形成图案，层状电阻图案，有机溶剂开发用层压膜，耐蚀组合物，制造电子器件的方法和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2013097002A
公开(公告)日：2013-05-20
申请号：JP2011236455
申请日：2011-10-27
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIRAKAWA MICHIHIRO , KATO KEITA , OTANI TADAHIRO , NAKAMURA ATSUSHI , TAKAHASHI HIDETOMO , IWATO KAORU
IPC分类号： G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , H01L21/0271
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a pattern for preventing pattern collapse in a process of forming a negative pattern by organic solvent development, and to provide a laminate resist pattern formed by the method, a laminate film for organic solvent development suitably used for the pattern forming method, a resist composition suitably used for the pattern forming method, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: The method for forming a pattern includes steps of: (a) forming a first film on a substrate by using a first resin composition (I) containing a resin, in which the content of a repeating unit having a group that is decomposed by the action of acid to produce a polar group is 20 mol% or less with respect to the whole repeating units of the resin; (b) forming a second film on the first film by using a second resin composition (II), which is different from the first resin composition (I) and which contains a resin having a group that is decomposed by the action of acid to produce a polar group, and a compound that generates acid by irradiation with actinic rays or radiation; (c) exposing the laminate film having the first film and the second film to light; and (d) forming a negative pattern by developing the first film and the second film in the exposed laminate film by using a developing solution containing an organic solvent.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过有机溶剂显影在形成负型图案的过程中形成用于防止图案塌陷的图案的方法，并且提供通过该方法形成的层压抗蚀剂图案，用于有机的层压膜适合用于图案形成方法的溶剂显影，适用于图案形成方法的抗蚀剂组合物，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：形成图案的方法包括以下步骤：（a）通过使用含有树脂的第一树脂组合物（I）在基材上形成第一膜，其中具有以下基团的重复单元的含量：相对于树脂的整个重复单元，通过酸的作用分解以产生极性基团为20摩尔％以下; （b）通过使用与第一树脂组合物（I）不同的第二树脂组合物（II）在第一膜上形成第二膜，并且含有具有通过酸作用分解的基团的树脂以产生极性基团和通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物; （c）使具有第一膜和第二膜的层压膜曝光; 和（d）通过使用含有有机溶剂的显影液在显影的层叠膜中显影第一膜和第二膜来形成负图案。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

69. 发明专利

JP2013083996A Touch panel member 有权
标题翻译：触控面板会员
公开(公告)号：JP2013083996A
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：JP2012269010
申请日：2012-12-10
申请人： Toray Ind Inc , 東レ株式会社
发明人： SUWA MITSUFUMI , ARAKI HITOSHI , OKAZAWA TORU
IPC分类号： G03F7/004 , G02B1/10 , G02B1/14 , G03F7/038 , G03F7/075
CPC分类号： G02B1/11 , G02B1/10 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/0047 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/0757
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel member provided with a molybdenum-containing metal wiring covered with a cured film of an alkali developable negative photosensitive resin composition which has excellent pattern processability to form into a cured film having high hardness, high transparency, and excellent resistance to moist heat by UV curing and thermal curing.SOLUTION: A touch panel member is provided with a molybdenum-containing metal wiring covered with a cured film of a negative photosensitive resin composition which contains (A) alkali-soluble resin having a carboxylic acid equivalent in the range of 200 g/mol to 1,400 g/mol, (B) a photopolymerization initiator, (C) a polyfunctional monomer, (D) a zirconium compound.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种触摸面板构件，其设置有覆盖有可显影的负型感光性树脂组合物的固化膜的含钼金属布线，其具有优异的图案加工性以形成具有高硬度的固化膜，高透明度，耐紫外线固化和热固化优异的耐湿热性。解决方案：触摸面板部件设有覆盖有负型感光性树脂组合物的固化膜的含钼金属配线，该负型感光性树脂组合物含有（A）羧酸当量在200g / 摩尔至1,400g / mol，（B）光聚合引发剂，（C）多官能单体，（D）锆化合物。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

70. 发明专利

JP2013083963A Method for forming pattern, and polysiloxane composition 有权
标题翻译：形成图案的方法和多晶硅组合物
公开(公告)号：JP2013083963A
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：JP2012211580
申请日：2012-09-25
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： DEI KEI , MORI TAKASHI , TAKANASHI KAZUNORI
IPC分类号： G03F7/075 , C08K5/16 , C08L83/08 , G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： B81C1/00396 , B81C1/00388 , B81C2201/0198 , C08G77/14 , C08G77/24 , C08G77/388 , C09D183/08 , G03F7/0046 , G03F7/0752 , G03F7/0757 , G03F7/094 , G03F7/11 , H05K3/061 , H05K2203/05
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a pattern, which allows a silicon-containing film to have enhanced processability for fluorine gas etching and enhanced resistance to oxygen gas etching and is capable of forming a fine pattern.SOLUTION: A method for forming a pattern comprises the steps of: (1) forming a silicon-containing film on the upper face side of a substrate to be processed by using a polysiloxane composition; (2) forming a resist pattern on the silicon-containing film; (3) forming a silicon-containing pattern by dry etching the silicon-containing film using the resist pattern as a mask; and (4) forming a pattern on the substrate to be processed by dry etching the substrate using the silicon-containing pattern as a mask. The polysiloxane composition contains [A] a polysiloxane including a fluorine atom and [B] a crosslinking accelerator.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种形成图案的方法，其允许含硅膜具有增强的氟气蚀刻加工性能和增强的耐氧气蚀刻性能，并且能够形成精细图案。解决方案：用于形成图案的方法包括以下步骤：（1）通过使用聚硅氧烷组合物在待加工基材的上表面上形成含硅膜; （2）在含硅膜上形成抗蚀剂图案; （3）通过使用抗蚀剂图案作为掩模将含硅膜干蚀刻来形成含硅图案; 和（4）通过使用含硅图案作为掩模将衬底干蚀刻在待处理衬底上形成图案。聚硅氧烷组合物含有[A]含氟原子的聚硅氧烷和[B]交联促进剂。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

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