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    • 63. 发明专利
    • ディスプレイ装置用加飾フィルム及びその製造方法並びにディスプレイ装置用保護パネル及びその製造方法
    • 用于为显示装置的显示装置及其制造方法,以及保护面板以及它们的制造方法,装饰膜,其
    • JPWO2013057850A1
    • 2015-04-02
    • JP2013539497
    • 2012-03-30
    • 日本写真印刷株式会社株式会社サンパック
    • 哲哉 伊藤哲哉 伊藤友久 細谷友久 細谷
    • G09F9/00
    • G09F9/30G02B1/105G02B1/14
    • 長期間にわたって印刷パターンの平面的な外観形状を印刷ボケの無い鮮明な形状にすることができるようにして、安価で高品質の加飾フィルム及び保護パネルを製造できるようにする。ディスプレイ装置2の表示面3を飾る領域である加飾領域a2と、表示面3を外部から視認できる表示領域a1とを有している加飾フィルム6である。この加飾フィルムは、ベースフィルム13と、このベースフィルム上に形成された印刷パターン14とを有している。加飾領域a2は印刷パターン14が在る領域であり、表示領域a1は印刷パターン14が無い領域である。印刷パターンa2は、ベースフィルム13上に印刷によって形成した初期印刷層14’に打抜き加工を施して加飾領域a2に対応した形状に形成されており、表示領域a1は初期印刷層14’から打抜き加工によって除去された領域に対応している。
    • 印刷图案的长期平面外部形状,以便能够清楚的形状而不在打印模糊,以便能够生产高品质的装饰膜和以低成本保护面板。 装饰区域a2是显示装置2中,装饰膜6和显示区域的面积装饰显示面3 A1是可见的显示面3从外部。 装饰膜包括基膜13和形成在该基膜上的印刷图案14。 装饰区域a2为其中位于所述印刷图案14,显示区域A1是没有印刷图案14的区域的区域。 通过印刷上从冲压印刷图案A2,基膜13“的形状形成对应进行针刺装饰区域A2中,显示区域A1最初印刷层14”的初始印刷层14形成 它通过机械加工对应于去除区域。
    • 65. 发明专利
    • フィルム表面処理方法及び装置
    • 膜的表面处理方法和装置
    • JPWO2013031714A1
    • 2015-03-23
    • JP2013531297
    • 2012-08-27
    • 積水化学工業株式会社
    • 淳之介 村上淳之介 村上良憲 中野良憲 中野平 長谷川平 長谷川
    • C08J7/18C08J7/00
    • C08J7/042C08J7/18G02B1/105G02B1/14
    • 偏光板の保護フィルム等に用いる樹脂製の被処理フィルムの接着性を向上させるとともに、接着によって形成された偏光板等のフィルム積層体の耐温水性を高める。第1処理部(91)において、重合性モノマー及び架橋性添加成分を含有する第1ガスを被処理フィルム(9)に接触させる(第1処理工程)。第1処理工程後又は第1処理工程と併行して、窒素等の放電生成ガスをプラズマ化して被処理フィルム(9)に接触させる(第2処理工程)。架橋性添加成分の重合性モノマーに対する含有率を所定範囲内に設定し、好ましくは上記含有率を0.5wt%〜10wt%にする。上記架橋性添加成分は、好ましくはジアリル化合物、アルキン化合物、又はケイ素アルコキシド化合物とする。上記放電生成ガスに0.5vol%以下の酸素を加えてもよい。
    • 它提高由在保护膜或类似物的偏振片使用的树脂的处理膜,提高偏振片的薄膜层压或通过粘合剂形成等的耐热水性的粘附。 在第一处理单元(91),含有聚合性单体和可交联的添加剂组分的第一气体被带入与所述处理的膜(9)(第一处理步骤)接触。 在与第一处理步骤或所述第一处理步骤中,如氮气为等离子体被带入与处理过的膜(9)(第二处理步骤)接触放电产生气体后平行。 为聚合性单体的交联的预定范围内设置的添加剂组分,的0.5%(重量)10%(重量),优选的内容的内容。 该交联添加剂组分优选为二烯丙基化合物,炔化合物,或硅醇盐化合物。 到排出的产物气体可被添加到0.5体积%或以下的氧。
    • 66. 发明专利
    • ガスバリア性フィルムおよびその製造方法、ならびにこれを用いた電子素子用基板
    • 气体阻隔性膜及其制造方法以及使用其的电子装置用基板,
    • JPWO2013031687A1
    • 2015-03-23
    • JP2013531282
    • 2012-08-24
    • コニカミノルタ株式会社
    • 純一 河野純一 河野秀敏 江連秀敏 江連
    • B32B27/20B32B27/00G02F1/1333
    • G02B1/105B29C41/24B29C47/0021B29C47/065B29C55/12B29K2001/08B29K2995/0067B29K2995/0069G02B1/14Y10T428/31975
    • 本発明のガスバリア性フィルムは、セルロースナノファイバーの水酸基の水素原子の少なくとも一部が炭素数1〜8のアシル基で置換された、表面修飾セルロースナノファイバーを含有し、マトリックス樹脂の含有量が前記セルロースナノファイバーと前記マトリックス樹脂との合計量に対して10質量%以下であるシート状基材と、前記シート状基材の少なくとも片面に形成されたガスバリア層と、を有する。また、本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、セルロースナノファイバーの水酸基の水素原子の少なくとも一部を炭素数1〜8のアシル基で置換して表面修飾セルロースナノファイバーを得、前記表面修飾セルロースナノファイバーを溶融押出法または溶液キャスト法で製膜してシート状基材を得る工程Aと、前記シート状基材上にガスバリア層を形成する工程Bと、を有する。
    • 本发明的气体阻隔性膜,所述纤维素纳米纤维的羟基的氢原子的至少一部分被置换为具有酰基的碳原子数为1〜8,含有表面改性的纤维素纳米纤维,其中所述基质树脂的含量 它有一个片状基体材料是不超过10%,相对于与基体树脂的纤维素纳米纤维的总量的重量,并形成了气体阻隔层上,所述片状基材的至少一个表面上。 制造本发明的气体阻隔性膜的制造方法,在用具有碳原子数为1〜8的酰基取代的纤维素纳米纤维的羟基的氢原子的至少一部分,其中所述表面改性的纤维素,得到表面改性的纤维素纳米纤维 并获得片状基材和的工序的膜中的纳米纤维熔体挤出法或溶液流延法,以及形成在基体材料片材的气体阻挡层的步骤B中。