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61. 发明专利

JP2017145512A フレーム一体型の樹脂層付き金属マスクの製造方法有权
公开(公告)号：JP2017145512A
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：JP2017100301
申请日：2017-05-19
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：武田利彦 , 小幡勝也 , 西村祐行
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
CPC分类号： H01L51/0011 , B05B12/20 , B05B15/045 , C23C14/042 , C23C16/042 , C23F1/02 , C23F1/12 , C23F1/14 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L51/0021 , H01L51/5012 , H01L51/5221 , H01L51/56
摘要：【課題】大型化した場合でも高精細化と軽量化の双方を満たすことができる蒸着マスクの製造方法、及び高精細な有機半導体素子を製造することができる有機半導体素子の製造方法を提供すること。【解決手段】金属板の一方の面に樹脂層が設けられている樹脂層付き金属板を準備する工程と、前記樹脂層付き金属板における金属板に対し、当該金属板のみを貫通するスリットを形成することにより樹脂層付き金属マスクを形成する工程と、その後、前記金属マスク側からレーザーを照射し、前記樹脂層に蒸着作製するパターンに対応した開口部を縦横に複数列形成することにより樹脂マスクを形成する工程と、から蒸着マスクを製造する。【選択図】図1

62. 发明专利

JP2017133095A 物品、タービン部品、及びエーロフォイルの処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017133095A
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：JP2016203998
申请日：2016-10-18
申请人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
发明人：ローレンス・マシュー・レヴィ , クリストファー・エドワード・トンプソン , ローレンス・ジェームズ・ウィムス
IPC分类号： F02C7/00 , F01D25/00 , C23C24/04
CPC分类号： C23C24/04 , B23P6/007 , C23C4/18 , C23F1/02 , F01D5/005 , F05D2230/232
摘要：【課題】エーロフォイルなどのガスタービンエンジンの部品が、動作中に擦り減りタービンの効率が低下しない物品、タービン部品、及びエーロフォイルの処理方法を提供する。【解決手段】溶着困難(htw)合金を含むタービン部品106のためのタービン部品処理方法として、低温噴射装置304から構造材料302の複数の粒子を低温噴射し、複数の粒子を塑性変形させることにより、非変質表面300に塗布する。複数の粒子に衝撃を与えて、構造材料302とhtw合金との間に機械的な結合を形成することを含む。【選択図】図3

63. 发明专利

JPWO2014175071A1 銅およびモリブデンを含む多層膜のエッチングに使用される液体組成物、およびその液体組成物を用いた基板の製造方法、並びにその製造方法により製造される基板有权
标题翻译：在多层膜的蚀刻中使用的液体组合物，包括铜和钼，以及使用该液体组合物的制造衬底的方法，以及通过该制造方法制造的基板上
公开(公告)号：JPWO2014175071A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015513673
申请日：2014-04-09
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：聡玉井 , 邦夫夕部
IPC分类号： H01L21/308 , C23F1/18 , C23F1/26 , H01L21/28 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , H01L21/336 , H01L21/768 , H01L23/532 , H01L29/786
CPC分类号： H01L21/47635 , C09K13/00 , C23F1/02 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1259 , H01L29/45 , H01L29/66969 , H01L29/7869 , H05K3/067 , H05K2201/0338
摘要：本発明は、銅およびモリブデンを含む多層膜のエッチングに使用される液体組成物および銅およびモリブデンを含む多層膜のエッチングのエッチング方法、並びに基板を提供する。本発明においては(A)マレイン酸イオン供給源、(B)銅イオン供給源、並びに(C)1−アミノ−2−プロパノール、2−(メチルアミノ)エタノール、2−(エチルアミノ)エタノール、2−(ブチルアミノ)エタノール、2−(ジメチルアミノ)エタノール、2−(ジエチルアミノ)エタノール、2−メトキシエチルアミン、3−メトキシプロピルアミン、3−アミノ−1−プロパノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、1−ジメチルアミノ−2−プロパノール、2−(2−アミノエトキシ)エタノール、モルホリン、および4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリンからなる群より選ばれる少なくとも一種であるアミン化合物を含み、かつpH値が4〜9である液体組成物を用いる。
摘要翻译：本发明是用于蚀刻的多层膜，其包括在多层膜的蚀刻包括铜和钼中使用的液体组合物和铜和钼，以及在基板的蚀刻方法。在本发明中（A）马来酸离子源，（B）铜离子源，和（C）1-氨基-2-丙醇，2-（甲基氨基）乙醇，2-（乙基氨基）乙醇，2- - （丁基氨基）乙醇，2-（二甲基氨基）乙醇，2-（二乙基氨基）乙醇，2-甲氧基乙胺，3-甲氧基丙胺，3-氨基-1-丙醇，2-氨基-2-甲基-1- - 其特征在于，2-丙醇，1-二甲基氨基-2-丙醇，2-（2-氨基乙氧基）乙醇，吗啉，和4-（2-羟乙基）胺化合物是至少一种选自由吗啉组成的组，和使用液体组合物的pH值是4-9。

64. 发明专利

JPWO2014125972A1 連続メッキ用パターニングロールの製造方法有权
标题翻译：制造图案化的方法，用于连续电镀辊
公开(公告)号：JPWO2014125972A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2014543384
申请日：2014-02-05
申请人：株式会社シンク・ラボラトリー
发明人：重田　龍男 , 龍男重田
IPC分类号： C25D7/06 , C23C16/04 , C23C16/27 , C23F1/00 , C23F1/02
CPC分类号： C25D5/48 , C23C16/042 , C23F1/02 , C25D7/0657
摘要：サイドエッチングの問題を解消し、絶縁層の密着性に優れた連続メッキ用パターニングロール及びその製造方法を提供する。メッキ可能な円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、露光・現像せしめてレジストパターン部と非レジストパターン部を形成し、前記非レジストパターン部の前記円筒状金属基材をエッチングせしめてエッチング凹部を形成し、前記エッチング凹部及びレジストパターン部の表面にDLC被覆膜を形成し、前記レジストパターン部上に形成されたDLC被覆膜を前記レジストパターン部ごと剥離せしめ、前記エッチング凹部内に前記DLC被覆膜が残存してなるようにした。
摘要翻译：消除了侧面蚀刻的问题，提供优异的图案辊和用于所述绝缘层的连续镀覆密合性及其制造方法。镀层的表面上的光致抗蚀剂可以被圆筒形的金属基材涂覆，曝光和显影使其形成抗蚀剂图案部分和非抗蚀剂图案部分，并允许以蚀刻非抗蚀剂图案部的筒状金属基体材料蚀刻凹部，其中，所述蚀刻凹部和所述抗蚀剂图案部分表面上形成DLC覆盖膜，抗蚀剂形成在剥离带来各抗蚀剂图案部分的，在凹部的蚀刻图案部分DLC覆盖膜所述DLC覆盖膜被设置在要被剩下。

65. 发明专利

JP2016537207A 非平行アイランドエッチング有权
标题翻译：非平行岛蚀刻
公开(公告)号：JP2016537207A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2016525973
申请日：2013-10-30
申请人：ヒューレット−パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. , ヒューレット−パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P.
发明人：マッケイ，ロジャー，エイ , サディク，パトリック，ダブリュー
IPC分类号： B81C1/00 , B01D39/16 , B01D39/20 , C23F1/00
CPC分类号： C23F1/16 , B81B2201/058 , B81C1/00119 , B81C1/00539 , B81C2201/0115 , B81C2201/014 , C23C14/5873 , C23F1/02 , H01M4/0492 , H01M4/386
摘要：エッチングアイランドが、基板の第1の面と、該第1の面に非平行な該基板の第2の面に形成される。該基板の該第1の面及び該第2の面は、該エッチングアイランドと反応する溶液に同時にさらされて、該第1の面内及び該第2の面内へと延在する多孔質領域を同時に形成する。【選択図】図1
摘要翻译：蚀刻岛屿，衬底的第一表面上，形成非平行衬底到第一表面的第二表面上。第一表面和所述衬底的所述第二表面同时暴露于与所述蚀刻反应岛的溶液，多孔区域延伸到第一和第二平面的平面在同一时间形成。点域1

67. 发明专利

JP2015506583A 窒化チタンを選択的にエッチングするための組成物および方法有权
标题翻译：组合物和方法用于选择性地蚀刻所述氮化钛
公开(公告)号：JP2015506583A
公开(公告)日：2015-03-02
申请号：JP2014550456
申请日：2012-12-27
申请人：インテグリス,インコーポレイテッド
发明人：バーンズ，ジェフリー，エー． , クーパー，エマニュエル，アイ． , チェン，リ−ミン , リッピー，スティーブン , ラジャラム，レカー , トゥ，シェン−ハン
IPC分类号： H01L21/308 , H01L21/304 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC分类号： C09K13/10 , C09K13/00 , C09K13/06 , C09K13/08 , C11D7/02 , C11D7/08 , C11D7/3209 , C11D11/0047 , C23F1/02 , C23F1/30 , C23F1/40 , H01L21/02063 , H01L21/31144 , H01L21/32134
摘要：金属導体、例えば、タングステンおよび絶縁体材料と比較して、窒化チタンおよび/またはフォトレジストエッチング残渣材料をその上に有するマイクロエレクトロニクスデバイスから窒化チタンおよび/またはフォトレジストエッチング残渣材料を選択的に除去するために有用な組成物。除去組成物は少なくとも1種の酸化剤および1種のエッチング液を含有し、選択性を確実にするために、様々な腐食抑制剤を含有してもよい。
摘要翻译：金属导体，例如，与钨和绝缘材料，从和/或光致抗蚀剂蚀刻残留物材料具有氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残留物材料在其顶部上选择性地去除所述微电子器件氮化钛相比组合物是有用的。去除组合物包括至少一种氧化剂和蚀刻溶液的一个，以确保选择性可包含多种腐蚀抑制剂。

69. 发明专利

JP5528106B2 How to use the dry non-plasma processing system and the system 有权
公开(公告)号：JP5528106B2
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：JP2009516607
申请日：2007-04-26
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：ケント，マーティン , ジェイストラング，エリック
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： B05B12/12 , B05B12/04 , B05B13/02 , C01B7/191 , C09K13/08 , C23F1/02 , C23F1/12 , H01L21/02049 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L21/30621 , H01L21/31116 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/68742

70. 发明专利

JP5524272B2 Mask manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5524272B2
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：JP2012101652
申请日：2012-04-26
申请人：三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd.
发明人：プルシンスキーバレリー , 元植玄 , 興烈羅 , 旻首金 , 宰敏洪 , 瑩信表
IPC分类号： C23C14/04 , G03F1/76
CPC分类号： G03F1/20 , C23F1/02 , G03F1/76 , G03F1/80

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