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51. 发明专利

JP2021168273A 電子線発生源、電子線照射装置、及びX線照射装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021168273A
公开(公告)日：2021-10-21
申请号：JP2020071470
申请日：2020-04-13
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：原口大 , 長谷川義人
IPC分类号： G21K5/04 , G21K5/02 , H01J19/16 , H01J35/06 , H01J35/00 , H01J1/18 , H01J1/22 , H05G1/00 , H01J19/12
摘要：【課題】電子放出部に対して張力保持部の押圧力又は引張力を適切に作用させて、電子放出部の軸ずれを抑制することができる電子線発生源を提供する。【解決手段】電子線照射装置1は、軸線L上において延在し、電子を放出するフィラメント10と、フィラメント10の一方の端部に連結された可動体21と、可動体21を軸線Lに沿って移動可能に支持する筐体22と、可動体21に対して引張力を付与することによって、フィラメント10の張力を保持するばね23と、を有する。可動体21及びばね23は、それぞれ軸線L上に配置されている。【選択図】図6

53. 发明专利

JP6951174B2 電子ビーム装置及び電子ビームの位置ずれ補正方法有权
公开(公告)号：JP6951174B2
公开(公告)日：2021-10-20
申请号：JP2017181809
申请日：2017-09-21
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：中山田憲昭
IPC分类号： H01J37/305 , G03F7/20 , H01L21/027

54. 发明专利

JP6951027B2 X線管有权
公开(公告)号：JP6951027B2
公开(公告)日：2021-10-20
申请号：JP2017156612
申请日：2017-08-14
申请人：キヤノン電子管デバイス株式会社
发明人：伊藤崇之
IPC分类号： H01J35/06

55. 发明专利

JPWO2020166111A1 質量分析装置有权
公开(公告)号：JPWO2020166111A1
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2019030136
申请日：2019-08-01
申请人：株式会社島津製作所
发明人：狭間一
IPC分类号： H01J49/00 , H01J49/02 , H01J49/42
摘要：イオントラップ(2)を有し、共鳴励起排出を利用して質量走査を行う質量分析装置であって、矩形波高電圧及び矩形波低電圧を生成する電圧生成部(4,5)と、精密なm/z値が既知である複数の較正用試料を対象として、矩形波高電圧の電圧振幅を調整しつつ、検出対象のイオンのm/zを走査するように矩形波高電圧及び矩形波低電圧の周波数を同期的に走査する質量分析を実施した結果に基づいて、複数の較正用試料にそれぞれ対応するm/zにおける質量誤差が許容範囲に収まる電圧振幅調整情報を取得する電圧振幅調整情報取得部(72)と、目的試料に対する所定のm/z範囲に亘る質量分析の実行時に、電圧振幅調整情報に基づいて、矩形波高電圧の周波数の走査に伴ってその電圧振幅を変化させるように電圧発生部を制御する制御部(76)と、を備える。これによれば、共鳴励起排出を利用した質量走査を行う場合におけるマススペクトルの質量精度を向上させることができる。

56. 发明专利

JPWO2020110276A1 荷電粒子線装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020110276A1
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2018044109
申请日：2018-11-30
申请人：株式会社日立ハイテク
发明人：三羽貴文 , 菅野誠一郎 , 宮豪
IPC分类号： H01J37/28 , H01L21/66 , H01J37/20
摘要：試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供する。測定用試料が設置される試料ステージと、前記測定用試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって放出される荷電粒子を検出する検出器と、を備える荷電粒子線装置であって、前記測定用試料とともに前記試料ステージに保持される異物観察用試料と、前記異物観察用試料の上の異物を観察する異物観察部と、を備えることを特徴とする。

58. 发明专利

JP2021527316A ガリウムを用いたイオン注入プロセスおよび装置有权
公开(公告)号：JP2021527316A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2021512885
申请日：2019-09-11
申请人：インテグリス・インコーポレーテッド
发明人：スウィーニー, ジョーゼフディー. , デプレ, ジョセフロバート , タン, イン , イェデイブ, シャラドエヌ , ジョーンズ, エドワードエドミストン , バイル, オレグ
IPC分类号： H01J37/08 , H01J27/02
摘要：イオン源チャンバと、イオン源チャンバ内の、またはイオン源チャンバと関連付けられた消耗可能な構造物とを含むイオン注入のためのイオン源装置が記述されており、前記消耗可能な構造物が、ガスの形態のドーパントをイオン源チャンバに放出するために、反応性ガスとの反応を受けやすい固体ドーパント源材料を含み、固体ドーパント源材料は、窒化ガリウム、酸化ガリウム(これらのいずれも、ガリウム同位体に関して同位体濃縮されていてもよい)、またはこれらの組合せを含む。【選択図】図6

59. 发明专利

JP2021163755A 電子回折ホログラフィ审中-公开
公开(公告)号：JP2021163755A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2021054628
申请日：2021-03-29
申请人：エフイーアイカンパニ , FEI COMPANY
发明人：アレクサンダーヘンストラ , ユチェンデン , ホルガーコール
IPC分类号： G03H5/00 , H01J37/26 , G01N23/04 , H01J37/10
摘要：【課題】未知の構造の試料に対して、回折ホログラフを生成する方法を提供する。【解決手段】電子回折ホログラフィを使用してサンプルを調査するための方法は、サンプルに向けて複数の電子を放出し、複数の電子を第1の電子ビームおよび第2の電子ビームに形成し、および2つのビームが異なる焦点面を有するように、2つのビームのうちの少なくとも一方の焦点特性を修正する初期ステップを含む。2つのビームが異なる焦点面を有する場合、方法は、第1の電子ビームがサンプルにまたはサンプルの近くに焦点面を有するように、第1の電子ビームを集束させることと、第2の電子ビームが、サンプルに入射し、かつ回折面内に焦点面を有するように、第2の電子ビームを集束させることと、を含む。次いで、第1の電子ビームと回折された第2の電子ビームとの干渉パターンが、回折面内に検出され、次いで、回折ホログラフを生成するために使用される。【選択図】図1

60. 发明专利

JPWO2020110163A1 質量分析装置有权
公开(公告)号：JPWO2020110163A1
公开(公告)日：2021-10-07
申请号：JP2018043313
申请日：2018-11-26
申请人：株式会社島津製作所
发明人：藤岡真悟 , 西口克 , 石原ひかる
IPC分类号： H01J49/04 , H01J49/42 , G01N27/62 , H01J49/16
摘要：本発明の一態様である質量分析装置は、導電性の探針(14)と、探針(14)に高電圧を印加する高電圧発生部(16)と、探針(14)の先端に試料の一部を付着させるべく、所定位置にある試料(132)に探針(14)の先端が接触する試料採取位置(142)とその先端が試料(132)から離れたイオン生成位置(141)との間で探針(14)を移動させる探針移動部と、イオン生成位置(141)にある探針(14)に高電圧が印加されることで発生した試料成分由来のイオンを、大気圧雰囲気中から真空雰囲気中へ取り込むために、イオン生成位置(141)にある探針(14)と試料(132)との間に設けられたイオン取込口(201)と、イオン生成位置(141)にある探針(14)と試料(132)との間であって、探針移動部による探針の移動経路(140)を避けて設けられ、且つ所定の電位が付与されている補助電極(13)と、を備える。

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