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51. 发明专利

JP5739360B2 ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法有权
标题翻译：的含硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物和图案形成方法
公开(公告)号：JP5739360B2
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：JP2012029230
申请日：2012-02-14
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：荻原勤 , 上田貴史 , 種田義則
IPC分类号： C08L83/06 , C08G77/14 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027 , C09K3/00 , C08L83/04
CPC分类号： G03F7/0752 , C07F7/1804 , C07F7/1836 , C07F7/184 , C08L83/06 , C09D183/06 , G03F7/0751 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/36 , G03F7/40 , H01L21/306 , C08G77/14 , G03F7/2041

52. 发明专利

JP5729270B2 LEDリフレクターとして有用な白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物を用いた光半導体装置有权
标题翻译：使用有用的硅氧烷树脂组合物和所述组合物作为LED反射器的光半导体装置
公开(公告)号：JP5729270B2
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：JP2011253955
申请日：2011-11-21
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：堤吉弘
IPC分类号： C08K3/00 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L33/60 , C08G77/14 , F21V7/00 , F21V7/22 , C08L83/06

53. 发明专利

JP5718573B2 トコフェロールの使用有权
公开(公告)号：JP5718573B2
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：JP2009553171
申请日：2008-03-11
IPC分类号： C08G77/08 , C08G77/14 , C08K5/14 , C08L83/06

54. 发明专利

JP2015072329A ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法有权
标题翻译：用于形成电阻膜和形成方法的含硅组合物
公开(公告)号：JP2015072329A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：JP2013207169
申请日：2013-10-02
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：荻原勤 , 美谷島祐介
IPC分类号： G03F7/075 , H01L21/027 , C08G77/14 , G03F7/11
CPC分类号： H01L21/3086 , C08L83/04 , C09D183/04 , G03F7/0752 , G03F7/094 , G03F7/11 , H01L21/02126 , H01L21/02282 , H01L21/3081 , H01L21/3085 , H01L21/31116 , H01L21/31122 , H01L21/32139 , C08G77/045 , C08G77/18
摘要：【課題】極めて塗布欠陥が少なく、微細パターンにおける密着性やエッチング選択性に優れるレジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物を提供する。【解決手段】1種以上の下記一般式(1)で示される化合物を含むケイ素化合物(A−1)を加水分解もしくは縮合、又はその両方を行うことにより得られるケイ素含有化合物(A 1 )を含有するケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。【化1】 (式中、Rは炭素数1〜6の有機基であり、R a 、R b 、R c は置換又は非置換の炭素数1〜30の1価の有機基、w=0又は1、x=0、1、2又は3、y=0、1又は2、z=0、1、2又は3である。また、w=0のとき、5≧x+z≧1であり、(x,z)=(1,1)、(3,0)、(0,3)となる場合は含まない。また、w=1のとき、7≧x+y+z≧1であり、(x,y,z)=(1,1,1)となる場合は含まない。) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于形成抗蚀底膜的含硅组合物，其用于形成具有极少涂层缺陷和优异的粘附性和蚀刻选择性的抗蚀底膜。精细图案。解决方案：含硅用于形成抗蚀剂底层膜的组合物包括通过进行水解，缩合或这两者包含至少一种由下述通式（1）表示的化合物的硅化合物（A-1）而获得的含硅化合物（A）。式中，R表示碳原子数1〜6的有机基团。 R，R和R表示具有1至30个碳原子的取代或未取代的一价有机基团; w为0或1; x为0,1,2或3; y为0,1或2; z为0,1,2或3; 并且当w = 0时，除了（1,1），（3,0）或（0,3）的组合（x，z）之外，5≥x+z≥1。并且当w = 1时，除了（1,1,1）的组合（x，y，z），7≥x+ y +z≥1。

55. 发明专利

JPWO2013031985A1 感光性アルカリ可溶シリコーン樹脂組成物有权
标题翻译：感光性碱可溶有机硅树脂组合物
公开(公告)号：JPWO2013031985A1
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013531441
申请日：2012-08-31
申请人：旭化成イーマテリアルズ株式会社
发明人：大和齋藤 , 大和齋藤 , 珠莉岩間 , 珠莉岩間 , 徹勝又 , 徹勝又 , 由香佐々木 , 由香佐々木 , 正志木村 , 正志木村 , 治美松田 , 治美松田
IPC分类号： G03F7/075 , C08F230/08 , C08F290/08 , C08G77/14 , C08G77/20 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/038
CPC分类号： C09D183/06 , C08F230/08 , C08F290/08 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08L83/06 , C09D163/04 , C09D167/00 , C09D175/04 , G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/0757 , C08L33/00 , C08L63/00 , C08L75/00
摘要： 1分子内にカルボキシル基又はジカルボン酸無水物基を有するアルカリ可溶性シリコーン樹脂(A);酸価が10〜200mgKOH/gであるアルカリ可溶性樹脂(B);及び光重合開始剤(C)を含む感光性アルカリ可溶シリコーン樹脂組成物であって、該(A)成分若しくは(B)成分は、光重合性不飽和二重結合基を有するか、又は該感光性アルカリ可溶シリコーン樹脂組成物は、光重合性不飽和二重結合を有する化合物(D)をさらに含む、前記感光性アルカリ可溶シリコーン樹脂組成物が提供される。
摘要翻译：感光包括和光聚合引发剂（C）;具有羧基或在一个分子中的二羧酸酐基团的碱溶性的有机硅树脂（A）;酸值碱可溶性树脂（B）为10〜200 /克一性的碱溶性的有机硅树脂组合物中，组分（a）或（B）成分，无论是具有光聚合性不饱和双键基团，或感光性碱可溶有机硅树脂组合物，还包括具有（D）光聚合性不饱和双键的化合物，提供了感光性碱可溶有机硅树脂组合物。

56. 发明专利

JP5684364B2 シロキサン化合物及び硬化性樹脂組成物有权
标题翻译：硅氧烷化合物和固化性树脂组合物
公开(公告)号：JP5684364B2
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：JP2013231643
申请日：2013-11-08
申请人：日本化薬株式会社
发明人：直房宮川 , 直房宮川 , 義浩川田 , 義浩川田 , 政隆中西 , 政隆中西 , 智江佐々木 , 智江佐々木 , 窪木　健一 , 健一窪木 , 静青木 , 静青木 , 瑞観鈴木 , 瑞観鈴木 , 正人鎗田 , 正人鎗田 , 小柳　敬夫 , 敬夫小柳
IPC分类号： C08G77/14 , C08G59/20 , C08L83/04 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L33/52
CPC分类号： H01L23/296 , C08G59/306 , C08G59/3254 , C08L83/06 , H01L33/56 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

59. 发明专利

JP5568314B2 Adhesives based on polyorganosiloxane compound 有权
公开(公告)号：JP5568314B2
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：JP2009554279
申请日：2009-02-12
申请人：リンテック株式会社
发明人：幹広樫尾 , 高玉田
IPC分类号： C09J183/08 , C08G77/14 , C08G77/24 , C08G77/26
CPC分类号： C09J183/08 , C08G77/04 , C09J183/06

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