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51. 发明专利

JPWO2017146152A1 積層体、積層体の製造方法、半導体デバイス、および、半導体デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2017146152A1
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：JP2017550955
申请日：2017-02-23
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：岩井悠 , 川端健志 , 渋谷明規
IPC分类号： B32B27/34 , B32B7/02 , B32B27/00 , G03F7/027 , G03F7/037 , G03F7/20
CPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00 , B32B27/34 , G03F7/027 , G03F7/40 , H01L23/12 , H01L23/14
摘要：樹脂層と樹脂層の密着性に優れた積層体、ならびに、積層体の製造方法、半導体デバイス、および、半導体デバイスの製造方法の提供。基板と、少なくとも2層の樹脂層とを有し、上記樹脂層は、それぞれ独立に、膜面の少なくとも一部において、他の樹脂層と接しており、それぞれ独立に、ヤング率が2.8GPaを超えて5.0GPa以下、かつ、破断伸びが50%を超えて200%以下であり、さらに、3次元ラジカル架橋構造を有し、上記樹脂層のうち、少なくとも1層は、ポリイミドおよびポリベンゾオキサゾールの少なくとも1種を含む、積層体。

52. 发明专利

JP2016219459A 保護膜形成用組成物、保護膜の製造方法、保護膜の剥離方法审中-公开
标题翻译：保护膜形成用组合物，在制造保护膜的保护膜的剥离方法的方法
公开(公告)号：JP2016219459A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2015099191
申请日：2015-05-14
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：米久田康智 , 渋谷明規 , 小島雅史 , 山本長生
IPC分类号： C08L25/18 , C08L61/14 , C08G8/30 , C08F212/14 , H01L21/312
摘要：【課題】本発明の課題は、段差基板への埋め込み性に優れ、ボイドなどの欠陥の発生が抑制され、平坦な保護膜を形成できる保護膜形成用組成物を提供することである。また、本発明の課題は、保護膜の製造方法および保護膜の剥離方法を提供することにもある。【解決手段】本発明の保護膜形成用組成物は、段差基板の埋め込みに使用される保護膜形成用組成物であって、上記保護膜形成用組成物が、樹脂P1および組成物C1の少なくとも一方を含有する。樹脂P1は、フェノール性水酸基およびビニルエーテル基を有する樹脂である。組成物C1は、フェノール性水酸基を有する樹脂P2およびビニルエーテル基を有する樹脂P3を含む組成物である。【選択図】なし
摘要翻译：本发明的一个目的是具有优异的填充性成阶梯状基板，诸如空隙缺陷的发生被抑制，它是提供一种保护膜形成能够形成平坦的保护膜的组合物。本发明的另一个目的还在于提供的制造方法的一种分离方法和保护膜的保护膜。本发明的保护膜形成组合物是保护膜形成在嵌入用的组合物步骤的基板，所述保护膜形成组合物包含至少一种树脂P1和C1的组合物含一个。树脂P1是具有酚羟基基团和乙烯基醚基的树脂。组合物C1是包括具有树脂P2和乙烯基具有酚羟基醚基团的树脂P3的组合物。系统技术领域

53. 发明专利

JP6002705B2 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：的图案形成方法，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，抗蚀剂膜，以及一种制造电子器件的方法
公开(公告)号：JP6002705B2
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：JP2014030830
申请日：2014-02-20
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：片岡祥平 , 渋谷明規 , 福原敏明 , 古谷創 , 白川三千紘
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C311/51 , C08F20/18 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/038 , C07C233/04 , C07C235/88 , C07C25/18 , C07C311/03 , C07C311/06 , C07C311/51 , C07C311/53 , C07C381/12 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D411/06 , C08F220/26 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/325 , H01L21/0275 , C07C2101/14 , C07C2103/74

54. 发明专利

JP5997982B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，使用该组合物，图案形成方法，和电子装置的制造方法的抗蚀剂膜
公开(公告)号：JP5997982B2
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：JP2012191849
申请日：2012-08-31
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：後藤研由 , 渋谷明規 , 片岡祥平 , 山口修平 , 松田知樹 , 加藤啓太
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/027 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C311/09 , C07C323/21 , C07D217/02 , C07D217/08 , C07D279/12 , C07D285/15 , C07D295/067 , C07D295/26 , C07D319/14 , C07D327/02 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D339/08 , C07D411/04 , C07D413/04 , C07D417/04 , C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , C07C2101/14 , C07C2102/42 , C07C2103/74

55. 发明专利

JP5879229B2 パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP5879229B2
公开(公告)日：2016-03-08
申请号：JP2012181891
申请日：2012-08-20
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：渋谷明規 , 片岡祥平 , 松田知樹 , 福原敏明 , 後藤研由
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/30 , C07C381/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274

57. 发明专利

JP5745391B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス有权
标题翻译：使用该组合物中的该电子装置的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，和抗蚀剂膜图案形成方法，制造方法，以及电子设备
公开(公告)号：JP5745391B2
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：JP2011266158
申请日：2011-12-05
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：岩戸薫 , 渋谷明規
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004

58. 发明专利

JP2015102749A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、並びに、電子デバイス有权
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀膜和使用其的图案形成方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2015102749A
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：JP2013244229
申请日：2013-11-26
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：北村哲 , 片岡祥平 , 渋谷明規 , 加藤啓太
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：【課題】露光ラチチュード及び焦点深度ラチチュードが大きく、かつ、LWRの小さいパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、並びに、電子デバイスを提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される光酸発生剤(A)と、酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する樹脂(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成具有宽曝光宽容度和聚焦深度纬度和低LWR的图案的有源光敏感或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法，制造电子器件和电子器件。解决方案：活性光敏感或辐射敏感性树脂组合物含有图中通式（I）表示的光致酸发生剂（A）和具有通过酸的作用而分解并产生极性基团的基团。

59. 发明专利

JP5719536B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP5719536B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2010159093
申请日：2010-07-13
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：飯塚裕介 , 渋谷明規 , 高橋秀知 , 福原敏明 , 越島康介
IPC分类号： G03F7/38 , H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/004 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/32 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/20 , G03F7/2041 , C08F212/14 , C08F212/32

60. 发明专利

JP6889260B2 熱硬化性樹脂組成物、およびその硬化膜、積層体、半導体デバイス、ならびにそれらの製造方法有权
公开(公告)号：JP6889260B2
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：JP2019529756
申请日：2018-07-11
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉田健太 , 川端健志 , 岩井悠 , 渋谷明規
IPC分类号： C08L79/04 , C08K5/17 , C08K5/09 , C08K5/42 , C08G73/10 , C08G73/22 , C08F290/14 , C08F2/50 , B32B27/34 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/004 , C08L79/08

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