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51. 发明专利

JPWO2015049741A1 レーザ装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2015049741A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2015540304
申请日：2013-10-02
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：弘司柿崎 , 弘司柿崎 , 武志浅山 , 武志浅山 , 若林　理 , 理若林
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/00
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/08009 , H01S3/134 , H01S3/225
摘要：出力結合ミラーを含む光共振器と、レーザ媒質が入れられており、光共振器内の光路に設置されているレーザチャンバと、レーザチャンバ内に設置されている1対の放電電極と、1対の放電電極の間隔を変化させる電極ギャップ可変部と、1対の放電電極において放電を生じさせることにより出力結合ミラーより出射されるレーザ光の光路上に配置されたレーザビーム計測部と、レーザビーム計測部において計測されたレーザ光のビームパラメータに基づき、電極ギャップ可変部により1対の放電電極の間隔を調整する制御を行なう制御部と、を備える。

52. 发明专利

JPWO2014003018A1 レーザ装置の制御方法及びレーザ装置有权
标题翻译：的激光装置的控制方法和激光装置
公开(公告)号：JPWO2014003018A1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2014522646
申请日：2013-06-25
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：若林　理 , 理若林 , 弘朗對馬 , 弘朗對馬 , 弘司柿崎 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/036 , H01S3/134
CPC分类号： H01S3/0014 , H01S3/034 , H01S3/036 , H01S3/10069 , H01S3/134 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258
摘要：【課題】容易にレーザチャンバ内におけるレーザガスの部分ガス交換量を算出する。【解決手段】レーザゲイン媒質を励起することによりレーザ光を出射するレーザチャンバ内における前記レーザゲイン媒質を交換するガス交換工程と、前記ガス交換をした後、前記レーザチャンバにおいて所定のガス圧及び所定の充電電圧において発振させたレーザ光のパルスエネルギを測定する第1の測定工程と、前記第1の測定工程における前記所定のガス圧、前記所定の充電電圧、前記パルスエネルギに基づき、前記レーザチャンバにおけるガス圧及び充電電圧とレーザ光のパルスエネルギとの関係の近似式、または、相関関係を示すテーブルを算出して記憶する工程と、前記第1の測定工程を行なった後に、前記レーザチャンバにおいて発振されたレーザ光のパルスエネルギErを測定する第2の測定工程と、前記算出された近似式またはテーブルに基づき、前記第2の測定工程におけるガス圧及び充電電圧の条件において、前記ガス交換をした直後に得られたであろうレーザ光のパルスエネルギEecを算出する工程と、前記パルスエネルギEecと前記パルスエネルギErに基づき、ΔEd=Eec−Erより、パルスエネルギの低下量ΔEdを算出する工程と、前記パルスエネルギの低下量ΔEdに基づき前記レーザチャンバにおいて部分ガス交換を行なう際の部分ガス交換量Qを算出する工程と、を含んでもよい。
摘要翻译：甲容易计算在激光室中的激光气体的分气体交换。说，在交换激光室，所述激光增益介质，用于发射通过激发的激光增益介质的激光束的气体交换之后，预定的气体压力的气体交换步骤和在预定的激光腔测量所述激光的脉冲能量的第一测量步骤中在所述第一测量步骤在预定气体压力的充电电压摆动时，所述预定的充电电压时，基于所述脉冲能量，激光室的气体压力的脉冲能量和充电电压，并在激光束，或存储计算的表指示的相关性，执行第一测量步骤之后的步骤之间的关系的近似式，在激光室测量振荡激光束的脉冲能量的铒的第二测量步骤，计算出的近似式或Te 基于表，气体压力和在所述第二测量步骤，计算将已在气体交换激光束后立即获得的脉冲能量EEC的步骤的充电电压，并且脉冲能量EEC的条件下基于脉冲能量呃ΔEd=从EEC-尔，基于该减少量执行在激光室部分气体交换时计算的降低DerutaEd脉冲能量，部分气体交换量的脉冲能量的DerutaEd 计算Q，其可以包括。

53. 发明专利

JP5607383B2 Gas laser device for temperature control equipment 有权
公开(公告)号：JP5607383B2
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：JP2010035305
申请日：2010-02-19
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：幸雄渡辺 , 英行林 , 弘司柿崎 , 路雄篠崎 , 秀雄星野
IPC分类号： H01S3/041 , H01L21/027 , H01S3/104 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/0407 , F25B2400/06 , F25D17/02 , H01S3/03 , H01S3/041 , H01S3/22

54. 发明专利

JP5576079B2 Extreme ultraviolet light source device 有权
公开(公告)号：JP5576079B2
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：JP2009219547
申请日：2009-09-24
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：彰遠藤 , 伸治永井 , 弘司柿崎 , 理若林 , 能史植野
IPC分类号： H05G2/00 , H01L21/027
CPC分类号： H05G2/003 , H05G2/001 , H05G2/008

55. 发明专利

JP5511705B2 Target supply device and extreme ultraviolet radiation generating device 有权
公开(公告)号：JP5511705B2
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：JP2011027576
申请日：2011-02-10
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：隆之薮 , 弘司柿崎 , 理若林
IPC分类号： H01L21/027 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , H05G2/005 , H05G2/008

56. 发明专利

JP5438460B2 Extreme ultraviolet light source device 有权
公开(公告)号：JP5438460B2
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：JP2009245749
申请日：2009-10-26
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：崇菅沼 , 正人守屋 , 保阿部 , 弘司柿崎 , 理若林
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70033 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/70191 , G03F7/70575 , G03F7/70591 , G03F7/7085 , H05G2/005

57. 发明专利

JP5335298B2 Method of generating extreme ultraviolet light source device and the extreme ultraviolet light 有权
公开(公告)号：JP5335298B2
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：JP2008161556
申请日：2008-06-20
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：達哉柳田 , 彰遠藤 , 理若林 , 弘司柿崎 , 秀住星野
IPC分类号： H05G2/00 , G21K5/08 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an EUV (extreme ultraviolet) light source device which evaporates a target into one with appropriate density and shape, by irradiating on it CW light (including QCW light) before irradiation of main pulse laser light. SOLUTION: For the first time, CW laser light 121 is irradiated on the target 200. With this, the target 200 is heated to evaporate and to be a gaseous target 210. Then, main pulse laser light 111 is irradiated on the gaseous target 210. With this, the gaseous target 210 gets plasmolyzed to emit EUV light. Since the target 200 is vaporized to be in a gaseous state just before an irradiation point where the main pulse laser light is irradiated, the main pulse laser light can be efficiently irradiated. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

58. 发明专利

JP5075951B2 Extreme ultraviolet light source device and the driver laser system 有权
公开(公告)号：JP5075951B2
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：JP2010161562
申请日：2010-07-16
申请人：ギガフォトン株式会社 , ウシオ電機株式会社
发明人：秀往星野 , 弘司柿崎 , 達也有我
IPC分类号： H01L21/027 , H01S3/00 , H01S3/104 , H01S3/23 , H05G2/00

59. 发明专利

JPWO2009125745A1 ガス放電チャンバ有权
公开(公告)号：JPWO2009125745A1
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：JP2010507235
申请日：2009-04-06
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：伸治永井 , 伸治永井 , 文香吉田 , 文香吉田 , 若林　理 , 理若林 , 弘司柿崎 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/034
CPC分类号： H01S3/034 , G02B1/02 , G02B5/3091 , H01S3/0346 , H01S3/08054 , H01S3/0816 , H01S3/225 , H01S3/2251
摘要：機械応力(ウインドウホルダやレーザガス圧力)及び光の吸収による熱応力等により破損する現象を低減し、出力レーザの直線偏光度を高くすると共に、強い紫外線(特にArF)レーザ光照射による劣化を抑制するフッ化カルシウム結晶を用いたガス放電チャンバを提供する。ガス放電チャンバの第1ウィンドウ(2)及び第2ウィンドウ(3)は、入射平面及び射出平面がフッ化カルシウム結晶の(111)結晶面に平行であり、チャンバ(1)内部から見て、フッ化カルシウム結晶内に入射したレーザ光が、第1ウィンドウ(2)及び第2ウィンドウ(3)それぞれの軸と軸を含む面を通過する配置に対して、第1ウィンドウ(2)及び第2ウィンドウ(3)は、軸を中心として同じ角度回転した位置に設置されることを特徴とする。

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