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    • 47. 发明专利
    • 半導体装置
    • 半导体设备
    • JP2017004997A
    • 2017-01-05
    • JP2015114157
    • 2015-06-04
    • キヤノン株式会社
    • 中村 伸治
    • H01L25/07H01L25/18H01L23/36H01L23/12H01L25/065
    • H01L2224/16145
    • 【課題】 複数の半導体集積回路が積層される半導体装置において、積層の中間部に位置する半導体集積回路の放熱性を向上する。 【解決手段】 半導体装置は、貫通導体を備える複数の半導体集積回路102、103、105、106、貫通導体を備え、複数の半導体集積回路が積層される基板101、および、貫通導体を備え、積層された半導体集積回路の少なくとも一部の間に積層される放熱部材104を有する。 【選択図】 図1
    • 本发明公开了其中多个半导体集成电路的被层压,以改善位于所述堆叠中的中间的半导体集成电路的散热的半导体器件。 一种半导体器件,包括:多个包括通过导体半导体集成电路102103105106的,贯通导体,基板101,其中多个半导体集成电路的被层压,并且包括通过导体,层压 具有热辐射构件104,其在半导体集成电路的至少一部分之间层压。 点域1