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31. 发明专利

JP2021045919A 光走査装置および光走査装置を備える画像形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021045919A
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：JP2019170563
申请日：2019-09-19
申请人：キヤノン株式会社
发明人：佐藤和美
IPC分类号： G02B26/12 , G03G15/04 , G03G15/00 , G03G15/01 , B41J2/47
摘要：【課題】駆動ICから放射され画像形成装置の外部に漏れる電磁波ノイズを低減させつつ2つの基板のGNDを共通化する構成は複雑な構成となり部品点数が増加してしまう、という課題があった。【解決手段】第1基板の第1グランドパターンと第2基板の第2グランドパターンとに電気的に接続され、第1基板の実装面に垂直な方向において第1駆動ICに対して光学箱が配置されている側とは反対側で第1駆動ICをカバーし且つ第2基板の実装面に垂直な方向において第2駆動ICに対して光学箱が配置されている側とは反対側で第2駆動ICをカバーする板金を設けた。【選択図】図8

36. 发明专利

JP6833401B2 光走査装置及びそれを備える画像形成装置有权
公开(公告)号：JP6833401B2
公开(公告)日：2021-02-24
申请号：JP2016163393
申请日：2016-08-24
申请人：キヤノン株式会社
发明人：木村一己
IPC分类号： G02B17/08 , G02B13/18 , B41J2/47 , G03G15/04 , H04N1/113 , G02B26/10 , G02B26/12

37. 发明专利

JP2021026038A 光学走査装置及び画像形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021026038A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019141403
申请日：2019-07-31
申请人：キヤノン株式会社
发明人：佐野敦史 , 永利潤
IPC分类号： G02B26/12 , B41J2/47 , G03G15/04 , H04N1/04 , G02B26/10
摘要：【課題】モータ熱に起因する走査面への照射位置精度の悪化を抑制し、小型化が可能な光学走査装置を提供。【解決手段】スキャナモータ7の取付面13a2のうち回転軸線方向と第一結像レンズ8a,bの長手方向に直交する方向における光学部材が配置される範囲Uにて光学箱13a内に向かって回転軸線方向に突出する凸部13a2xが、直交する方向から見た時に基端部から先端部にかけ回転軸線方向の位置が開口部に近接するよう傾斜した傾斜面13a2x1、13a2x2を有する凸部13a2xが、長手方向において互いに対向する側壁を跨るよう形成され、且つ範囲Uにて凸部13a2x以外に、光学箱13aの内側に向かって回転軸線方向に突出し側壁を跨るよう形成された他の凸部が設けられず、凸部13a2xの先端部は、回転軸線方向において回転多面鏡4の反射面4aよりも開口部から遠くに位置する。【選択図】図3

38. 发明专利

JP2021016955A 光走査装置および光走査装置を備える画像形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021016955A
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2019132263
申请日：2019-07-17
申请人：キヤノン株式会社
发明人：関雄一
IPC分类号： G02B26/12 , G02B26/10 , G03G15/04 , B41J2/47
摘要：【課題】所定のドラム面光量を得るために必要とする半導体レーザの所定発光量Po_Hが異なるにも関わらず、光量Po_Mと光量Po_Lとの比率を一律に設定していると、所定発光量の値に応じて算出される閾値電流Ithの値が異なってしまう。そのため、所定発光量Po_Hの値によってはバイアス電流Ibの値が半導体レーザの光量下限値を下回ってしまい、半導体レーザの発光応答性が低下してしまう虞がある。【解決手段】設定するバイアス電流Ibの値が半導体レーザの光量下限値を下回ることがないように、所定発光量Po_Hの値に応じて光量Po_Mと光量Po_Lとの比率を異ならせて設定する。【選択図】図11

39. 发明专利

JP2021009224A 光走査装置及び画像形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021009224A
公开(公告)日：2021-01-28
申请号：JP2019122962
申请日：2019-07-01
申请人：東芝テック株式会社
发明人：栗林廉
IPC分类号： G02B26/10 , B41J2/47 , G03G15/04 , G02B26/12
摘要：【課題】面数の異なる複数種類のポリゴンミラーを使用する。【解決手段】実施形態の光走査装置は、第1及び第2の光源、第1及び第2の絞り部並びに偏向器を備える。第1の光源は第1の光束を出射する。第2の光源は、主走査方向において第1の光束に対して開き角を有する第2の光束を出射し、第1の光源より主走査方向上流側に存在する。第1の絞り部は、第1の光束の形状を、光軸から主走査方向上流側の端までの長さを第1の長さに、光軸から主走査方向下流側の端までの長さを第1の長さよりも大きい第2の長さになるように整形する。第2の絞り部は、第2の光束の形状を、光軸から主走査方向上流側の端までの長さを第3の長さに、光軸から主走査方向下流側の端までの長さを第3の長さよりも小さい第4の長さになるように整形する。偏向器は、第1及び第2の絞り部を通過した第1及び第2の光束を、同一面の副走査方向にずれた位置で偏向する。【選択図】図8

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