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31. 发明专利

JP6974964B2 貼り合わせ基板、製造方法有权
公开(公告)号：JP6974964B2
公开(公告)日：2021-12-01
申请号：JP2017113654
申请日：2017-06-08
申请人：アルバック成膜株式会社 , 株式会社ファインサーフェス技術
发明人：内田亮 , 堀口秀 , 小島智明
IPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , H01L21/027

32. 发明专利

JP2021043307A マスクブランクスの製造方法及びフォトマスクの製造方法、マスクブランクス及びフォトマスク审中-公开
公开(公告)号：JP2021043307A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：JP2019164760
申请日：2019-09-10
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：諸沢成浩
IPC分类号： G03F1/54 , G03F1/32
摘要：【課題】反射率が小さいことと、高い選択比で他の層のエッチングを抑制できることを両立させた反射防止層を有するとともに、レジストとの密着性がよく、確実なパターン形成が可能なマスクブランクス及びフォトマスクを提供する。【解決手段】位相シフトマスクとなる層を有するマスクブランクス10Bであって、透明基板11に積層されたクロムを含有する位相シフト層12と、モリブデンシリサイドと酸素とを含有する反射防止層13と、クロムと酸素とを含有する密着層14、を有し、密着層において、酸素含有率がフォトレジスト層15に対するパターニング形成可能な密着性を有するように設定する。【選択図】図2

33. 发明专利

JP2020197698A マスクブランクス、ハーフトーンマスク、製造方法、製造装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020197698A
公开(公告)日：2020-12-10
申请号：JP2020046414
申请日：2020-03-17
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：諸沢成浩 , 汐崎英治
IPC分类号： C23C14/06 , G03F1/32
摘要：【課題】薬液処理を行っても透過率の変化が少なく、かつ透過率の波長依存性の小さいハーフトーンマスクを提供する。【解決手段】透明基板Sと、Crを主成分とするハーフトーン層11と、Crを主成分とする遮光層13と、を備えるマスクブランクスであって、ハーフトーン層が、厚さ方向の最表面位置に酸素の組成比がクロムの組成比と窒素の組成比より高い耐薬層11aと、厚さ方向の透明基板に近接する位置に酸素の組成比がクロムの組成比と窒素の組成比より低く光学特性を担保する光学特性層11bと、を有する。【選択図】図1

34. 发明专利

JP2020177048A マスクブランクスおよび位相シフトマスク、その製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020177048A
公开(公告)日：2020-10-29
申请号：JP2019077122
申请日：2019-04-15
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：諸沢成浩
IPC分类号： G03F1/46 , C23C14/06 , G03F1/32
摘要：【課題】エッチングにおける断面形状の不具合をなくし、低反射率を実現する。【解決手段】位相シフトマスク10となる層を有するマスクブランクス10Bであって、透明基板11に積層されたクロムを含有する位相シフト層12と、モリブデンシリサイドを含有する反射防止層13と、を有し、反射防止層において、酸素含有率を設定して所定のプロファイルにしたがって反射率および消衰係数を設定する。【選択図】図4

35. 发明专利

JP6756796B2 マスクブランクス、ハーフトーンマスク、製造方法有权
公开(公告)号：JP6756796B2
公开(公告)日：2020-09-16
申请号：JP2018191290
申请日：2018-10-09
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：諸沢成浩
IPC分类号： G03F1/38 , G03F1/80 , G03F1/00

36. 发明专利

JP2020125815A 仕切弁审中-公开
公开(公告)号：JP2020125815A
公开(公告)日：2020-08-20
申请号：JP2019018961
申请日：2019-02-05
申请人：株式会社アルバック , アルバック成膜株式会社
发明人：伊藤康正 , 前川幸介 , 河西新 , 中畦修
IPC分类号： F16K51/02 , F16K27/12
摘要：【課題】仕切弁の開閉動作に伴い擦れる状態が発生する部位から飛散した塵埃による、被処理体の汚染を抑制可能な仕切弁を提供する。【解決手段】本発明の仕切弁は、被処理体を真空処理する内部空間を備えた真空槽どうしを接続する位置に配され、接続する真空槽の内部空間どうしを連通させる開口部に対して開閉動作する。前記開閉動作に伴い擦れる状態が発生する部位を内在し、該部位を取り囲むように筐体を配置したことを特徴とする。【選択図】図1

37. 发明专利

JP6659422B2 塗布装置、マスクブランクの製造方法有权
公开(公告)号：JP6659422B2
公开(公告)日：2020-03-04
申请号：JP2016065071
申请日：2016-03-29
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：浅見智史 , 鈴木徹
IPC分类号： G03F1/50 , G03F1/54 , B05C11/105 , B05C11/00 , B05C13/02 , B05D3/00 , B05D7/24 , B05D1/26 , B05D7/00 , H01L21/027

38. 发明专利

JP2018204068A 成膜装置及び成膜方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018204068A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2017110805
申请日：2017-06-05
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：河西新
IPC分类号： C23C14/34 , G03F1/54 , C23C14/35
摘要：【課題】露光波長と略同等の大きさの径よりも大きい径のパーティクルやピンホールの数に加えて、露光波長よりも小さな径のパーティクルやピンホールの数についても削減することが可能な、成膜装置を提供する。【解決手段】本発明は、マスクブランク製造用のスパッタ法を用いた成膜装置であり、減圧可能な真空槽からなる成膜室を含む。前記成膜室は、ターゲット10と、前記ターゲットを載置するバッキングプレート12と、前記ターゲット及び前記バッキングプレートを装着するマグネトロンカソード14と、被処理体である基板を保持しながら、前記ターゲットのスパッタ面に対向した所定の位置を通過する搬送手段(移動方向Y)と、前記ターゲットのスパッタ面を構成する外周端と一定の離間距離Dを保つように配置されたアースシールド16と、を少なくとも備えている。前記アースシールドが、前記離間距離Dと異なる部位16L1、16L2を、局所的に有する。【選択図】図2

39. 发明专利

JP2017173461A 位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017173461A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016057650
申请日：2016-03-22
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：金井修一郎 , 櫻井祥一
IPC分类号： G03F1/32 , H01L21/304 , B08B3/02 , G03F1/82
摘要：【課題】パーティクルを効果的に除去することができ、かつ位相シフト層の光学特性の変化を抑制可能な位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、および位相シフトマスクブランクスの製造方法を提供する。【解決手段】透明基板と、該透明基板の表面に形成されたは遷移金属(例えば、遷移金属はモリブデン)とシリコンを主成分とするものであり、具体的には、モリブデンシリサイドの酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、炭化窒化物及び酸化炭化窒化物から選択される1つを主成分とした位相シフト層と、を有する位相シフトマスクブランクスの洗浄装置であって、前記位相シフトマスクブランクスを回転させる回転手段と、前記位相シフトマスクブランクスの表面に対して所定の間隔を保って高濃度オゾン水を噴射する噴射ノズルと、を備えたことを特徴とする。【選択図】図3

40. 发明专利

JP6198239B2 金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法有权
公开(公告)号：JP6198239B2
公开(公告)日：2017-09-20
申请号：JP2013100441
申请日：2013-05-10
申请人：アルバック成膜株式会社
发明人：小島智明 , 仲川幸一
IPC分类号： B22F9/08 , B23K35/40 , B22F9/00

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