专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

JP5495269B2 Jet structure of the shot blaster 有权
公开(公告)号：JP5495269B2
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：JP2010143528
申请日：2010-06-24
申请人：株式会社明治機械製作所
发明人：光志吉田 , 健一大野 , 秀章田辺 , 謙二宿間谷
IPC分类号： B24C7/00 , B24C1/04

22. 发明专利

JP2014054717A Method and apparatus for processing surface of metallic material 有权
标题翻译：用于处理金属材料表面的方法和装置
公开(公告)号：JP2014054717A
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：JP2012202311
申请日：2012-09-14
申请人： Tokyo Stainless Kenma Kogyo Kk , 東京ステンレス研磨興業株式会社
发明人： SANADA YOICHI
IPC分类号： B24C1/04 , B44C1/22
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus for processing the surface of a metallic material, capable of easily and surely representing a desired pattern such as an aurora-shaped pattern with wavy stripes repeated, a pattern with variance of contrast or a simple consecutive pattern.SOLUTION: A metallic material M with a washed surface M1 is disposed on a workbench 1. A substantially inverted U-shaped support 2 is set up on the workbench 1, and a reflection plate 5 is suspended in a substantially vertical state on the upside of the metallic material M by the support 2. A fine abrasive is sprayed from a diagonal upside to the reflection plate 5 with high pressure using a spray gun, and a desired pattern is formed on the surface of the metallic material M by the fine abrasive reflected with the reflection plate 5.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于处理金属材料表面的方法和装置，其能够容易且可靠地表示期望的图案，例如重复波浪条纹的极光图案，具有对比度差异的图案或简单的连续图案。解决方案：具有洗涤表面M1的金属材料M设置在工作台1上。在工作台1上设置基本上倒U形的支撑件2，并且反射板5以基本垂直的状态悬挂在金属材料M由支撑体2的上侧。使用喷枪以高压从斜对角线上方向反射板5喷射细磨料，并且通过所述金属材料M的表面在所述金属材料M的表面上形成期望的图案与反射板5反射的细磨料。

23. 发明专利

JP5428482B2 Of field pole magnet body manufacturing method and a permanent magnet motor 有权
公开(公告)号：JP5428482B2
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：JP2009098827
申请日：2009-04-15
申请人：日産自動車株式会社
发明人：一宏高市 , 国朋石黒 , 雅則岩本
IPC分类号： H02K15/03 , B24C1/00 , B24C1/04 , B26F3/00 , H01F7/02

24. 发明专利

JP2014011355A Hole formation method 有权
标题翻译：孔形成方法
公开(公告)号：JP2014011355A
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：JP2012147609
申请日：2012-06-29
申请人： Ulvac Seimaku Kk , アルバック成膜株式会社
发明人： KOJIMA TOMOAKI
IPC分类号： H01L23/15 , B24C1/04 , B81C1/00 , H01L23/32 , H05K3/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hole formation method with high productivity capable of forming a hole in a glass substrate with high position accuracy.SOLUTION: A hole formation method of forming a hole 10 in a glass substrate 1 penetrating from an upper surface 1a to a lower surface 1b thereof comprises: a first step of forming a chromium film 2 on the upper surface of the glass substrate; a second step of forming a chromium mask 2 including a pattern 21 for hole formation and a pattern 22 for outer shape processing by patterning the chromium film using a photolithography technique; a third step of covering a lower side of the glass substrate with a protective member 7; and a fourth step of forming a hole 10 in the glass substrate and forming a circular groove 11 for processing an outer shape of the glass substrate in predetermined dimensions by wet-etching the glass substrate via the chromium mask.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以高定位精度在玻璃基板中形成孔的高生产率的孔形成方法。解决方案：在从上表面1a穿透的玻璃基板1中形成孔10的孔形成方法到其下表面1b包括：在玻璃基板的上表面上形成铬膜2的第一步骤; 通过使用光刻技术对铬膜进行图案化，形成包含孔形成用图案21的铬掩模2和外形加工用图案22的第二工序; 用保护部件7覆盖玻璃基板的下侧的第3工序; 以及在玻璃基板中形成孔10并通过经由铬掩模湿法蚀刻玻璃基板而形成用于处理玻璃基板的外形的预定尺寸的圆形槽11的第四步骤。

25. 发明专利

JP5386014B2 Shot blasting mask device and the mask method 有权
公开(公告)号：JP5386014B2
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：JP2012163008
申请日：2012-07-23
申请人：株式会社ブリヂストン
发明人：文弥小林
IPC分类号： B24C1/04

26. 发明专利

JP2013166203A Blast device 有权
标题翻译： BLAST设备
公开(公告)号：JP2013166203A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012030757
申请日：2012-02-15
申请人： West Nippon Expressway Engineering Chugoku Co Ltd , 西日本高速道路エンジニアリング中国株式会社 , Sanyo Tokuso Kogyo Kk , 山陽特装工業有限会社
发明人： SASAKI YOSHIFUMI , HIKITA RYUICHIRO
IPC分类号： B24C5/04 , B24C1/00 , B24C1/04 , E01F1/00 , E01H1/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a blast device that expands a range of blasting, while suppressing the number of blast nozzles, by expanding a projection range of a blast material long and thin.SOLUTION: A blast device 1 causes a blast material to hit an object, and includes blast nozzles for jetting the blast materials, and a projection unit 11 for projecting blast materials jetted from the blast nozzles to the object, and the projection unit 11 is formed with a projection space formed between a pair of wall surfaces and narrowing a projection width of the blast material, and projection ports 17, 18 formed in a long and thin forming range and enlarging a projection length of the blast materials.
摘要翻译：要解决的问题：通过扩大长而薄的鼓风材料的投影范围，提供扩大爆破范围的鼓风装置，同时抑制鼓风喷嘴的数量。解决方案：鼓风装置1使鼓风材料撞击并且包括用于喷射鼓风材料的喷射喷嘴和用于将从喷嘴喷射的喷射材料投射到物体的投影单元11，并且投影单元11形成有在一对壁面和缩小鼓风材料的突出宽度，以及形成在长而薄的成形范围内的突起口17,18，并且扩大了喷射材料的突出长度。

27. 发明专利

JP5257387B2 Method of manufacturing a substrate for an optical element 有权
公开(公告)号：JP5257387B2
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：JP2010057844
申请日：2010-03-15
申请人：住友大阪セメント株式会社
发明人：直樹三ツ木 , 満佐久間 , 裕俊永田
IPC分类号： G02B6/13 , B24C1/04 , G02B6/12

28. 发明专利

JP5254733B2 Water jet processing method 有权
公开(公告)号：JP5254733B2
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：JP2008257844
申请日：2008-10-02
申请人：株式会社ディスコ
发明人：聡花島 , 政幸松原 , 茂一金井
IPC分类号： B24C5/04 , B24C1/04 , H01L21/301

29. 发明专利

JP2013131645A Method for manufacturing sapphire substrate and sapphire substrate 审中-公开
标题翻译：制造苎麻基质和锑底物的方法
公开(公告)号：JP2013131645A
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：JP2011280487
申请日：2011-12-21
申请人： Sharp Corp , シャープ株式会社
发明人： YOSHII MOTOYASU
IPC分类号： H01L21/304 , B24C1/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a sapphire substrate and a sapphire substrate in which unevenness of thickness is reduced in a substrate having a large diameter of 4 inches or above by shortening or reducing a manufacturing step of the sapphire substrate.SOLUTION: A method for manufacturing a sapphire substrate by applying processing covering a plurality of steps to a substrate obtained by slicing a sapphire ingot includes a step of processing at least a principal surface of a substrate 10 by wet blast.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种蓝宝石衬底和蓝宝石衬底的制造方法，其中通过缩短或减少蓝宝石衬底的制造步骤，在具有4英寸或更大直径的衬底中减小厚度的不均匀性。：通过对通过切割蓝宝石锭获得的基板施加多个步骤的处理来制造蓝宝石基板的方法包括通过湿喷法处理基板10的至少主表面的步骤。

30. 发明专利

JP2013116511A Oxide scale removing apparatus and removal method therefor 审中-公开
标题翻译：氧化物除鳞装置及其拆卸方法
公开(公告)号：JP2013116511A
公开(公告)日：2013-06-13
申请号：JP2011263992
申请日：2011-12-01
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： KONDO TADASHI , KAMIMURA KENJI , SATO KATSUHIRO , YOSHIDA MITSUAKI
IPC分类号： B24C1/04 , B24C1/00 , F01D25/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxide scale removing technology for a turbine component, efficiently removing an oxide scale and achieving micro surface roughness with stable polishing quality and thereby achieving improvement in nondestructive inspection accuracy and turbine performance.SOLUTION: In an oxide scale removing apparatus, a projection material is projected with working air at 100 kPa or lower by a blower blast system for removing an oxide scale by mixing the projection material into the working air generated by a blowing machine.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式