专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

JP2016042161A 極端紫外線または電子線レジスト用組成物及びパターン形成方法並びにレジストパターン审中-公开
标题翻译：用于极端超紫外线或电子束的抗蚀组合物，图案形成方法和电阻图案
公开(公告)号：JP2016042161A
公开(公告)日：2016-03-31
申请号：JP2014166262
申请日：2014-08-18
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大 , 木元孝和 , 藤澤友久 , 中川恭志
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/039
摘要：【課題】ナノエッジラフネスを改善することができ、感度も十分満足する新規の極端紫外線または電子線レジスト用組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法並びにレジスト膜を提供する。【解決手段】[A]酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、[B]酸発生体、[C]酸拡散制御体、および[D]溶剤を含有する極端紫外線または電子線レジスト用組成物であって、[D]溶剤の、波長300〜600nm領域での透過率が95%以上であり、かつ前記極端紫外線または電子線レジスト用組成物の[D]溶剤以外の成分の濃度が0.01質量%となるように前記極端紫外線または電子線レジスト用組成物を[D]溶剤で希釈した溶液の、[D]溶剤を参照溶媒として測定した場合の波長300〜600nmにおける光路長1cm当たりの吸光度が、いずれも0.01未満であることを特徴とする、極端紫外線または電子線レジスト用組成物である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于极紫外线或电子束的新型抗蚀剂组合物，其可以改善纳米边缘粗糙度并显示出足够的灵敏度，以及使用该组合物形成抗蚀剂图案和抗蚀剂膜的方法。解决方案：A 用于极紫外线或电子束的抗蚀剂组合物包括[A]具有包含酸解离基团的结构单元的聚合物，[B]酸产生剂，[C]酸扩散控制材料和[D]溶剂。 [D]溶剂在300〜600nm的波长范围内具有95％以上的透光率; 并且当用[D]溶剂稀释上述用于极紫外线或电子束的抗蚀剂组合物以控制抗蚀剂组合物中用于极紫外线或除[D]溶剂之外的电子束的组分浓度至0.01质量％，通过使用[D]溶剂作为参照溶剂的测定，稀释溶液在300〜600nm的波长范围内，每1cm光路长度的吸光度小于0.01。选择图：无

22. 发明专利

JP6871520B2 感放射線性組成物及びパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6871520B2
公开(公告)日：2021-05-12
申请号：JP2018519236
申请日：2017-05-18
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/004

23. 发明专利

JP2021041364A パターン形成方法及び組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2021041364A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：JP2019166674
申请日：2019-09-12
申请人： JSR株式会社
发明人：小松裕之 , 白谷宗大
IPC分类号： B05D7/00 , B05D3/02 , B05D7/24 , B05D3/10 , C08F8/30 , C08F8/40 , C08F8/42 , B05D1/38
摘要：【課題】簡便な方法により、基材の所定の領域に対して領域選択的に高さを有するパターンを形成することができるパターン形成方法及び組成物の提供を目的とする。【解決手段】金属原子を含む第1領域及びケイ素原子を含む第2領域を表層に有する基板に第1組成物を塗工する工程と、上記第1組成物の塗工工程により形成された第1塗膜を加熱する工程と、上記加熱された第1塗膜のうち上記第1領域上又は上記第2領域上に形成された部分以外の部分を除去して第1積層部を形成する工程と、上記第1積層部が形成された基板に第2組成物を塗工する工程と、上記第2組成物の塗工工程により形成された第2塗膜を加熱又は露光する工程と、上記加熱又は露光された第2塗膜のうち上記第1積層部上に形成された部分以外の部分を除去して第2積層部を形成する工程とを備えるパターン形成方法。【選択図】なし

24. 发明专利

JP6666564B2 感放射線性組成物及びパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6666564B2
公开(公告)日：2020-03-18
申请号：JP2016568728
申请日：2016-01-05
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大 , 成岡岳彦 , 中川恭志
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/004

25. 发明专利

JP2019204065A 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019204065A
公开(公告)日：2019-11-28
申请号：JP2018100978
申请日：2018-05-25
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/12 , C07C309/12 , C07C381/12 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要：【課題】感度及びLWR性能に優れる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】フェノール性水酸基を有するスチレン化合物に由来する構造単位を有するスチレン化合物を単量体とする第1重合体と、式(2)で表される第1感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物である。式(2)中、R 1 は、炭素数1〜30の1価の有機基である。R F1 及びR F2 は、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1〜10のフッ素化アルキル基である。R G1 及びR G2 は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基である。Z + は、1価の感放射線性オニウムカチオンである。【選択図】なし

26. 发明专利

JPWO2018123537A1 感放射線性組成物、パターン形成方法及び金属酸化物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018123537A1
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：JP2017044367
申请日：2017-12-11
申请人： JSR株式会社
发明人：峯岸信也 , 白谷宗大 , 浅野裕介 , 中川恭志 , 成岡岳彦
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/038
摘要：本発明は、感度に優れる感放射線性組成物の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される構造単位を有する金属酸化物と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)中、Mは、ゲルマニウム、スズ又は鉛である。R 1 は、不飽和結合を有する基及び電子求引性基のうち少なくとも1種を含み、Mに炭素原子で結合する炭素数30以下の1価の有機基である。上記R 1 で表される1価の有機基が不飽和結合を有する基を含み、この不飽和結合を有する基が、芳香族基及びエチレン性二重結合含有基のうち少なくとも1種であるとよい。上記R 1 で表される1価の有機基が電子求引性基を含み、この電子求引性基が、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン化アルキル基、−COO−、及びカチオン性基のうち少なくとも1種であるとよい。上記金属酸化物の固形分換算での含有量としては、50質量%以上が好ましい。

27. 发明专利

JP6572899B2 パターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6572899B2
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：JP2016548899
申请日：2015-09-15
申请人： JSR株式会社
发明人：中川恭志 , 成岡岳彦 , 白谷宗大
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/20 , G03F7/004

28. 发明专利

JP6572898B2 パターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6572898B2
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：JP2016548898
申请日：2015-09-15
申请人： JSR株式会社
发明人：成岡岳彦 , 藤澤友久 , 白谷宗大 , 中川恭志
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/20 , G03F7/004

29. 发明专利

JPWO2017204090A1 感放射線性組成物及びパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017204090A1
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：JP2017018746
申请日：2017-05-18
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要：保存安定性に優れ、LWR性能、解像性及び感度の経時低下が抑制された感放射線性組成物の提供を目的とする。本発明は、金属酸化物を主成分とする粒子と、上記粒子の凝集を抑制する凝集抑制剤と、有機溶媒とを含有する感放射線性組成物である。上記凝集抑制剤としては脱水能を有する化合物が好ましい。上記脱水能を有する化合物としては、カルボン酸無水物、オルトカルボン酸エステル、カルボン酸ハライド又はこれらの組み合わせが好ましい。上記凝集抑制剤としては、金属原子に配位しうる化合物も好ましい。上記化合物としては、下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、R 1 は、n価の有機基である。Xは、−OH、−COOH、−NCO、−NHR a 、−COOR A 又は−CO−C(R L ) 2 −CO−R A である。nは、1〜4の整数である。上記粒子100質量部に対する上記凝集抑制剤の含有量としては、0.001質量部以上が好ましい。

30. 发明专利

JP6191684B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体有权
公开(公告)号：JP6191684B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2015502998
申请日：2014-02-26
申请人： JSR株式会社
发明人：西野晃太 , 川上峰規 , 白谷宗大 , 星子賢二
IPC分类号： C08F232/08 , C08F222/40 , C08F220/16 , C08F212/14 , G03F7/20 , G03F7/039
CPC分类号： C08F232/08 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F222/40 , G03F7/0392

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式