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    • 24. 发明专利
    • 機器再処理装置及び機器再処理法
    • 设备再处理设备和后处理设备
    • JP2014530718A
    • 2014-11-20
    • JP2014537237
    • 2012-10-18
    • エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Inc.エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Inc.
    • グエン・ニック・エヌバウミック・ウジャルウィリアムズ・ハル
    • A61B1/12
    • A61L2/24A61B1/123A61B1/125A61B90/70A61B2090/701A61L2/18B08B3/04B08B9/00G05D16/2013Y10T137/7761Y10T137/8601
    • 医療機器の洗浄、消毒、及び/又は滅菌用の機器再処理装置が開示される。本明細書に定義する1つ以上のチャネルを有する機器を再処理するために、再処理装置は、各チャネルを通る流体の流れを制御するよう構成される1つ以上の流量制御システムを備えることができる。様々な実施形態では、流量制御システムは、差圧センサと、チャネル内の流体の流れを制御するための比例弁と、を備えることができる。また再処理装置は、1つには、流量制御システムに流体を供給するよう構成できる流体循環ポンプと、2つには、流量制御システムに供給された流体の圧力を制御するためのシステムと、を備えることができる。また再処理装置は、流体循環システムに一定量の流体を供給するためのシステムを備えることができる。このシステムは、内部の流体量を監視するための流体高さセンサを有するリザーバーと、リザーバーに流体を供給するよう構成されるポンプと、を備えることができる。
    • 医疗器械,消毒,和/或设备进行灭菌后处理装置的清洗中被公开。 再处理具有一个或多个信道的装置如本文所定义,后处理设备包括被配置为通过各自的信道,以控制流体的流动的一个或多个流控制系统 可以。 在各种实施例中,流量控制系统可包括一个压差传感器,以及用于控制流体在通道中的流动的比例阀。 后处理设备,以及用于在控制部分的系统中,流体循环泵可以被构造以将流体供应到流动控制系统,第2部分,流体的供给流量控制系统中的压力, 它可以提供。 后处理单元可以包括用于在流体循环系统供应流体的恒定量的系统。 该系统可以包括具有用于监测流体体积的内部,配置成供给流体至所述储存器,所述泵的流体高度传感器的贮存器。