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21. 发明专利

JP2004307411A tert-BUTOXYCARBONYL GROUP-CONTAINING (METH)ACRYLIC ESTER DERIVATIVE, POLYMER THEREOF, METHODS FOR PRODUCING THEM AND UTILIZATION OF THEM 有权
公开(公告)号：JP2004307411A
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：JP2003104259
申请日：2003-04-08
申请人： Eiweiss Kk , アイバイツ株式会社
发明人： SASAKI YUICHI , KUZUHA NOBORU
IPC分类号： G03F7/038 , C07C269/06 , C07C271/08 , C07C281/02 , C08F8/32 , C08F20/36 , C08F20/60 , G03F7/039
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a monomer or a (co)polymer having a proper reactivity of efficiently reacting with a proton generated by a dark reaction under a comparatively mild condition when preserving a resist material, and hardly inhibiting the reaction of the proton with a base polymer at an exposed time, and usable as a proton neutralizer which can inhibit the diffusion of the proton. SOLUTION: The subject tert-butoxycarbonyl group-containing (meth)acrylic ester derivative is represented by formula (1) [wherein, R 1 is hydrogen atom or methyl group; X is oxygen atom or imino group; and t BOC is tert-butoxycarbonyl group]. The (co)polymer has a repeating unit derived from the (meth)acrylic ester derivative. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

22. 发明专利

JP2004217867A Proton neutralizer and resist composition comprising the neutralizer 审中-公开
标题翻译：包含中性粒细胞的原核中和剂和抗性组合物
公开(公告)号：JP2004217867A
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：JP2003009721
申请日：2003-01-17
申请人： Eiweiss Kk , アイバイツ株式会社
发明人： KUZUHA NOBORU
IPC分类号： G03F7/004 , C07C271/12 , C07C271/24 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a proton neutralizer having the following proper reactivity: it efficiently reacts with protons generated by dark reaction, under relatively mild conditions such that at storing a resist material, without inhibiting the reaction of the protons with a base polymer at exposure; and to provide a resist composition comprising the neutralizer. SOLUTION: The proton neutralizer is composed of a compound having at least one group expressed by the formula: -(CH 2 )m-NH-( t BOC) bonding to an adamantyl skeleton, as a first proton neutralizer (in the formula m is an integer of 0-5; and t BOC is a tert-butoxycarbonyl group), or a compound represented by the formula: ( t BOC)-NHOH, as a second proton neutralizer. The resist composition comprises the proton neutralizer. COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供具有以下适当反应性的质子中和剂：其在相对温和的条件下与暗反应产生的质子有效反应，使得在存储抗蚀剂材料时，不抑制质子与基础聚合物暴露; 并提供包含中和剂的抗蚀剂组合物。解决方案：质子中和剂由具有至少一个由下式表示的基团的化合物组成： - （CH 2 SBB）m-NH-（中间体）与金刚烷基骨架结合，作为第一质子中和剂（式中，m为0-5的整数，且BOC为叔丁氧基羰基），或由下式表示的化合物：（作为第二质子中和剂）。抗蚀剂组合物包含质子中和剂。版权所有（C）2004，JPO＆NCIPI

23. 发明专利

JP6243718B2 化合物及び該化合物からなる光塩基発生剤有权
公开(公告)号：JP6243718B2
公开(公告)日：2017-12-06
申请号：JP2013249138
申请日：2013-12-02
申请人：アイバイツ株式会社
发明人：美濃一哉 , 伊藤惇 , 三木定雄
IPC分类号： C09K3/00 , C07D295/205 , C07C279/24

24. 发明专利

JP2014237598A 化合物および該化合物からなる光塩基発生剤审中-公开
标题翻译：化合物的化合物和照相碱性发生剂
公开(公告)号：JP2014237598A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：JP2013119890
申请日：2013-06-06
申请人：アイバイツ株式会社 , Eiweiss Kk
发明人： ITO ATSUSHI , MINO KAZUYA , MIKI SADAO
IPC分类号： C07C279/16 , C09K3/00
摘要：【課題】光塩基発生剤として好適な新規化合物であって、紫外線照射により高い塩基性を長時間に渡って維持することができる化合物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される化合物。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供适合作为光源发生器的新化合物，其可以通过紫外线照射长时间保持高碱度。溶液：化合物由式（1）表示。

25. 发明专利

JP2014237597A 化合物および該化合物からなる光塩基発生剤审中-公开
标题翻译：化合物的化合物和照相碱性发生剂
公开(公告)号：JP2014237597A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：JP2013119889
申请日：2013-06-06
申请人：アイバイツ株式会社 , Eiweiss Kk
发明人： MINO KAZUYA , ITO ATSUSHI , MIKI SADAO
IPC分类号： C07C279/24 , C09K3/00
摘要：【課題】光塩基発生剤として好適な新規化合物であって、紫外線照射により高い塩基性を長時間に渡って維持することができる化合物を提供する。【解決手段】下式(1)で表される化合物。(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基または炭素原子数1〜4のアルコキシ基を表し;R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基または炭素原子数6〜20のアリール基を表し、R3およびR4は互いに結合して環を形成していてもよく;Qは炭素原子またはリン原子を表し、nはQの価数を表す。)【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供适合作为光源发生器的新化合物，其可以通过紫外线照射长时间保持高碱度。溶液：化合物由式（1）表示。（式中，Rand Reach独立地表示氢原子，碳原子数为1〜4的烷基或碳原子数为1〜4的烷氧基; Rand Reach独立地表示氢原子，烷基碳原子数为1〜20，碳原子数为7〜20的芳烷基或碳原子数为6〜20的芳基，兰德·R·May相互键合形成环; Q表示碳原子或磷原子，n表示Q的价数。）

26. 发明专利

JP2014125447A Compound and photodetachment protective agent comprising the same 审中-公开
标题翻译：化合物和光致抗体包括其的保护剂
公开(公告)号：JP2014125447A
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：JP2012282655
申请日：2012-12-26
申请人： Eiweiss Kk , アイバイツ株式会社
发明人： ITO ATSUSHI , MINO KAZUYA , MIKI SADAO
IPC分类号： C07C205/43 , C07C201/12 , C07C271/24 , C09K3/00 , G03F7/004
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound suitable for a photodetachment protective agent.SOLUTION: This invention provides a compound represented by the formula (1), where R is a branched-chain alkyl group, a branched-chain alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aralkyl group or an aralkyloxy group.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种适用于光吸收保护剂的新化合物。解决方案：本发明提供式（1）表示的化合物，其中R是支链烷基，支链烷氧基，环烷基，环烷氧基，芳基，芳烷基或芳烷氧基。

27. 发明专利

JP2013121996A Photobase generator, resist-pattern forming material and method for preparing resist 审中-公开
标题翻译：光电发生器，抗电弧形成材料及其制备方法
公开(公告)号：JP2013121996A
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：JP2011270209
申请日：2011-12-09
申请人： Eiweiss Kk , アイバイツ株式会社
发明人： MINO KAZUYA , MIKI SADAO
IPC分类号： C09K3/00 , C07C271/24 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photobase generator generating a base by absorbing UV light of shorter wavelengths; and provide a pattern forming material excellent in resolution with good balance of characteristics between exposure part and non-exposure part, usable as negative/positive dual-purpose type resist.SOLUTION: This photobase generator expressed by formula (1) generates a base expressed by formula (2) by selectively absorbing UV light with 190-230 nm wavelengths. In formulae (1) and (2), Rand Reach independently is H, methyl, cyclohexyl or cyclohexyl substituted by 1-6C alkyl; when either Ror Ris H or methyl, the other is cyclohexyl or cyclohexyl substituted by 1-6C alkyl; Rand Rmay bond together to form a ring.
摘要翻译：要解决的问题：提供通过吸收较短波长的紫外光产生碱的光基产生器; 并且提供可以用作负/正两用型抗蚀剂的曝光部和非曝光部之间的特性优异的分辨率的图案形成材料。解决方案：由公式（1）表示的这种光产生器通过选择性地吸收190-230nm波长的紫外光产生由公式（2）表示的基极。在式（1）和（2）中，R 1分别独立地是H，甲基，环己基或环己基取代的 1-6C烷基; 当R 1 或R 2 是H或甲基时，另一个是被1-6 C烷基取代的环己基或环己基; R 1 和R 2 可以结合在一起形成环。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

28. 发明专利

JP5014641B2 Photoacid generator and a photosensitive resin composition 有权
公开(公告)号：JP5014641B2
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：JP2006038827
申请日：2006-02-16
申请人：アイバイツ株式会社
发明人：定雄三木
IPC分类号： C07C309/65 , G03F7/004 , G03F7/039

29. 发明专利

JP4326837B2 tert- butoxycarbonylamino group-containing compound and a tri (tert- butoxycarbonyl) compound 有权
公开(公告)号：JP4326837B2
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：JP2003143896
申请日：2003-05-21
申请人：アイバイツ株式会社
发明人：雄一佐々木 , 葉昇葛
IPC分类号： C07C271/22 , G03F7/004 , C07C271/08 , C07C281/02 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027

30. 发明专利

JP2009079021A Novel compound, photoelectron-donating compound and photoacid generator containing them 审中-公开
标题翻译：新型化合物，光电子化合物和含有它们的光电发生器
公开(公告)号：JP2009079021A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：JP2007251354
申请日：2007-09-27
申请人： Eiweiss Kk , アイバイツ株式会社
发明人： MIKI SADAO
IPC分类号： C07C309/65
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound which can be used as, for example, a photoacid generator.
SOLUTION: The compound is represented by formula (1) (wherein R
1 is a hydrogen atom, -OCH
2 CH
2 OH or -CH
2 CH
2 CH
2 OH; R
2 is a hydrogen atom or -OCH
3 ; and R
3 is a monovalent group derived from any of benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, and derivatives thereof).
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

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